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第1卷第5期
中高能弹丸中Si^2+与H碰撞的研究

B.He、J.G.Wang、C.L.Liu、Y.Ning、Y.B.Qiu、J·Yan和P.C.Stancil

Commun公司。计算。物理。,1(2006年),第886-897页。

在线发布:2006年1月

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硅碰撞引起的总电荷转移、电离和剥离截面和状态选择电荷转移、离子化和剥离截面2+用经典轨迹蒙特卡罗(CTMC)方法研究了离子与氢原子在1keV/amu到10MeV/amu的碰撞能量范围内的相互作用。总电子俘获率系数在10的温度范围内获得5K(K)o个到108K(K)o个。与现有数据的比较表明,我们的CTMC结果是可靠的。分析了这些截面随弹丸能量变化的行为。给出了一幅经典的物理图来解释这些行为背后的原因。

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硅碰撞引起的总电荷转移、电离和剥离截面和状态选择电荷转移、离子化和剥离截面2+用经典轨迹蒙特卡罗(CTMC)方法研究了离子与氢原子在1keV/amu到10MeV/amu的碰撞能量范围内的相互作用。总电子俘获率系数在10的温度范围内获得5K(K)o个到108K(K)o个。与现有数据的比较表明,我们的CTMC结果是可靠的。分析了这些截面随弹丸能量变化的行为。给出了一幅经典的物理图像来解释这些行为背后的原因。

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硅碰撞引起的总电荷转移、电离和剥离截面和状态选择电荷转移、离子化和剥离截面2+用经典轨迹蒙特卡罗(CTMC)方法研究了离子与氢原子在1keV/amu到10MeV/amu的碰撞能量范围内的相互作用。总电子俘获率系数在10的温度范围内获得5K(K)o个到108K(K)o个。与现有数据的比较表明,我们的CTMC结果是可靠的。分析了这些截面随射弹能量变化的行为。给出了一幅经典的物理图像来解释这些行为背后的原因。

B.He、J.G.Wang、C.L.Liu、Y.Ning、Y.B.Qiu、J·Yan和P.C.Stancil。(2020). 中高能弹丸中Si^2+与H碰撞的研究。计算物理中的通信.1(5).886-897.数字对象标识:
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