Si蚀刻液

  • 用于Si蚀刻的高纯度碱。请稀释到任意浓度后使用。
  • NaOH-CX含有添加剂,可以便宜地抑制金属吸附在晶片上。
  • 超高纯度品可以进一步降低对晶片的金属吸附。

产品列表

产品名称 组成 特征
48%-氢氧化钾水溶液 48%KOH 电子工业用
48%-氢氧化钠水溶液 48%NaOH 电子工业用
NaOH-CX 48%NaOH+添加剂 电子工业用
NaOHLM 48%NaOH 超高纯度
TMAH-22 22%TMAH 超高纯度
TMAH-25 25%TMAH 超高纯度

TMAH:氢氧化四甲基铵




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