Si蚀刻液

  • 用于Si蚀刻的高纯度碱。请稀释到任意浓度后使用。
  • NaOH-CX中含有添加剂,可以低价抑制金属吸附到晶圆中。
  • 超高纯度产品可以进一步减少金属吸附在晶圆上。

产品一览表

产品名称 组成 特征
48%-氢氧化钾水溶液  48% KOH 电子工业用
KOHLM  48% KOH 超高纯度。
48%-氢氧化钠水溶液  48% NaOH 电子工业用
NaOH-CX 48%NaOH+添加剂 电子工业用
NaOHLM  48% NaOH 超高纯度。
TMAH-22 22% TMAH 超高纯度。
TMAH-25 25% TMAH 超高纯度。

TMAH:氢氧化四甲基铵




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