蚀刻液

  • 用于Si蚀刻的高纯度碱。请稀释任意浓度使用。
  • NaOH-CX中含有添加剂,低价可以抑制对晶片的金属吸附。
  • 超高纯度产品可进一步降低对晶片的金属吸附。

产品一览

产品名称 组成 特征
48%-氢氧化钾水溶液 48%KOH 电子工业用
KOHLM 48%KOH 超高纯度
48%-氢氧化钠水溶液 48%NaOH 电子工业用
NaOH-CX 48%NaOH+添加剂 电子工业用
火影忍者 48%NaOH 超高纯度
TMAH-22 22%TMAH 超高纯度
TMAH-25 25%TMAH 超高纯度

TMAH:氢氧化四甲基铵




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