Si蚀刻液
- 用于Si蚀刻的高纯度碱。请稀释到任意浓度后使用。
- NaOH-CX中含有添加剂，可以低价抑制金属吸附到晶圆中。
- 超高纯度产品可以进一步减少金属吸附在晶圆上。
产品一览表
| 产品名称 |
组成 |
特征 |
| 48%-氢氧化钾水溶液 |
48% KOH |
电子工业用 |
| KOHLM |
48% KOH |
超高纯度。 |
| 48%-氢氧化钠水溶液 |
48% NaOH |
电子工业用 |
| NaOH-CX |
48%NaOH+添加剂 |
电子工业用 |
| NaOHLM |
48% NaOH |
超高纯度。 |
| TMAH-22 |
22% TMAH |
超高纯度。 |
| TMAH-25 |
25% TMAH |
超高纯度。 |
TMAH：氢氧化四甲基铵
