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西班牙研讨会

[GEC/RSEF标志]

2002年7月3日至6日,西班牙晶体学学会(GEC)第十三届年度研讨会在奥维耶多(西班牙阿斯图里亚斯)的“Príncipe Felipe”礼堂举行。80名晶体学家参加了此次研讨会,包括9次全体讲座、10次口头报告、34次海报交流、一次研讨会和三家工业公司的展览。

主题是“材料表征新技术:仪器、探测器和辐射源其主要目标是向西班牙晶体学界展示数据收集技术的最新水平,例如基于同步辐射、中子衍射、面积探测器等的方法。全会包括:从设施和用户的角度来看,SR晶体学仪器;单色器、反射镜和探测器(J.R.Helliwell,英国),SR生物晶体学仪器、方法和应用案例研究;异常散射、超高分辨率和时间分辨(J.R.Helliwell),SpLine:ESRF的西班牙材料科学专业。实验容量和时间(G.R.Castro,法国),西班牙埃尔瓦利斯同步加速器:历史、现状和未来机遇(J.Bordas,西班牙),散裂中子源:材料科学的新机遇(I.Anderson,美国),以及晶体学的未来机遇:ESS!(F.Carsughi,意大利)。

研讨会还涵盖了晶体生长、结构测定和数据分析,包括以下讲座分子生物学和医学中的高通量晶体生长(J.M.García-Ruiz,西班牙),固体溶液在矿物表面沉淀对有毒金属的吸附(M.Prieto,西班牙),以及WinGX程序系统-晶体学变得简单(L.J.Farrugia,英国)。

会议由西班牙科学技术部(MCyT)、阿斯图里亚科学技术研究基金会(FICYT)、西班牙皇家化学学会(RSEQ)、奥维耶多大学、西班牙晶体学协会集团(GEC)、奥维耶多市政厅、布鲁克·诺尼乌斯(Bruker Nonius)、飞利浦(Philips)和Dismed赞助。在晚宴上,M.I.Aroyo(西班牙)获得了最佳海报展示奖,共有11名年轻博士生获得了一笔赠款,用于支付注册费。

【研讨会小组】2002年7月西班牙晶体学小组第十三届年度研讨会与会者。

更多信息,包括照片,请访问www11.uniovi.es/gec/13simpio/main.html。

Juan F.Van der Maelen Uría,第十三届GEC组委会主席