新闻和通知

尺寸-系列V

Garmisch-Partenkirchen，德国，2007年10月

www.mf.mpg.de/en/abteilungen/mettemeijer/ss-v/welcome.htm

[尺寸-序列V标志][合影]第5个第个“材料微观结构的衍射分析”（SS-V）尺寸应变会议于2007年10月7日至9日在德国加米什·帕滕基兴会议中心举行。该系列中最近的一次是1995年在Liptovsky Mikulas（斯洛伐克）发起的，随后在（德国）、（1998年）、（意大利）（2001年）和捷克共和国（2004年）继续举办。

会议讨论了材料的微观结构和性能，因为它们可以通过衍射方法进行研究，特别关注多晶材料。与之前的尺寸-应变会议一样，SS-V侧重于研究薄膜和表面中晶格缺陷、残余应力和织构的方法学，以及基于材料科学问题中应用的基本参数的线软化分析、线-文件拟合和建模。

来自25多个国家的大约100名科学家出席了这次会议，其中包括20名来自贫困国家的参与者，他们得到了财政支持。在由E.J.Mittemeijer和P.Scardi主持的一个委员会组织的为期三天的项目中，提交了36份口头贡献和50份海报。一个小而热闹的展览区设有赞助公司的展位，特别是由H.Göbel、D.Rafaja、R.L.Snyder和P.Scardi代表的ICDD（见下图）。

【ICDD展位】展览区ICDD展位（从左至右）R.Snyder、P.Scardi和H.Göbel。
莱纽贝尔、米特迈耶、威泽尔当地会议组织者（从左至右）A.Leineweber、E.J.Mittemeijer和U.Welzel在Schloss Linderhof的社交活动中。
今年会议的新成员是对原子建模的贡献（例如H.van Swygenhoven）和现场纳米晶中晶格缺陷和变形的研究（I.Robinson、L.Levine、W.Pantleon、O.Thomas、U.Lienert）。这些研究领域对规模庞大的社区越来越重要。许多有趣的贡献描述了纳米晶材料（A.Cervellino、D.Rafaja、S.Billinge）。在整个会议期间，发表了几篇综述和报告，论述了用线增强方法研究畴尺寸和晶格缺陷的许多方面的最新进展（M.Leoni、E.J.Mittemeijer、P.Scardi、R.Kuzel）。薄膜（M.Birkholz、R.Guinebretiere、M.Wohlschlögel）和残余应力分析（Ch.Genzel、P.Withers、T.Gressmann）是另一个引起广泛和跨学科兴趣的领域。

SS-V的成功在很大程度上归功于一群年轻科学家和学生的大力支持，他们都是E.J.Mittemeijer系的所有成员，他们协助了当地组织者（E.J.米特梅耶、a.莱纽贝尔和U.韦尔泽尔）。

下次Size-Strain会议将于2010年在法国举行。确切的日期和地点很快将由主席O·托马斯宣布。

E.J.Mittemeijer和P.Scardi