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为Svechnikov，M.找到了6条引文。
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斯维奇尼科夫，M。
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J.应用。
克里斯特。
(2022).
55
,
1455-1464
https://doi.org/10.107/S1600576722009529
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W/Si多层膜中硅微晶物理性质的研究
N.I.Chkhalo公司
,
S.A.Garakhin公司
,
N.库马尔
,
K.V.尼古拉耶夫
,
V.N.波尔科夫尼科夫
,
A.罗加乔夫
,
M.V.Svechnikov先生
,
D.A.塔塔斯基
和
S.N.亚库宁
确定了W/Si多层膜中硅层中观察到的体不均匀性的性质。
在漫散射光谱中，观察到了性质上明显共振的特定子结构。
其中一些人的物理性质尚未确定。
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J.应用。
克里斯特。
(2021).
54
,
1747-1756
https://doi.org/10.107/S160057672101027X
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Cr/Be多层膜的固有粗糙度和界面
R.普列什科夫
,
N.Chkhalo公司
,
V.波尔科夫尼科夫
,
M.Svechnikov先生
和
M.佐里娜
本文展示了Cr/Be多层X射线反射镜的整体质量，并分别给出了粗糙度和材料混合的估计值。
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J.应用。
克里斯特。
(2020).
53
,
244-252
https://doi.org/10.1107/S1605761901584X
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多配件
：多层纳米薄膜反射重建软件
M.Svechnikov先生
多配件
描述了一个专门为在宽波长范围内模拟多层膜光学特性而设计的计算机程序。
的主要功能
多配件
能够同时使用任意数量的实验曲线和人体工程学图形用户界面，该界面设计用于薄膜诊断的日常密集使用。
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J.同步辐射。
(2020).
27
,
75至82
https://doi.org/10.1107/S16057551904188
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溅射铍薄膜的光学常数由光谱范围20.4–250的光吸收测量确定
电子伏
M.Svechnikov先生
,
N.Chkhalo公司
,
A.洛帕廷
,
R.普列什科夫
,
V.波尔科夫尼科夫
,
N.萨拉什琴科
,
F.Schäfers公司
,
M.G.Sertsu先生
,
A.索科洛夫
和
N.Tsybin公司
实验测定了铍的复折射率，其光谱范围为20.4–250
eV来自独立薄膜的透射光谱。
对用这种方法发现的铍的光学常数与另一研究小组早些时候获得的光学常数进行了比较。
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J.应用。
克里斯特。
(2017).
50
,
1428-1440
https://doi.org/10.107/S1600576717012286
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基于极端紫外和X射线反射率数据重建周期性多层膜的扩展模型
M.Svechnikov先生
,
D.帕里耶夫
,
A.Nechay公司
,
N.萨拉什琴科
,
N.Chkhalo公司
,
Y.瓦纳
和
D.加曼
提出了一种由掠入射X射线和正入射极端紫外反射率数据重建周期多层膜的扩展模型；
给出了模拟和实验数据拟合。
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克里斯特。
（2024年）。
57
https://doi.org/10.107/S1600576724002231
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多接头2
：多层纳米薄膜的反射、非镜面和掠入射小角度散射分析软件
M.Svechnikov先生
一个名为
多配件
它是为了模拟多层膜在宽波长范围内的光学特性而开发的。
它的主要特点是能够同时处理任意数量的反射和散射实验曲线，以及一个人体工程学图形用户界面，该界面设计用于薄膜表征的日常密集使用。
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