化学时间

化学时间是

THE CHEMICAL TIMES

《THE CHEMICAL TIMES》是关东化学于昭和25年创刊的定期刊物。
每年发行4次刊登各种研究论文的册子。
作为学术杂志,我与关东化学共同走过了半个多世纪。
今后,我们将进一步向各位读者介绍在化学、医药、物理、生物等广泛领域活跃着的各位老师,我们将与编辑委员共同努力,以留下深刻印象的“THE CHEMICAL TIMES”为目标。

最新号文章介绍-2019年,No.4(全卷254号)专集:表面处理技术

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由硅制剂引起的体内氢发生和医药应用

大阪大学产业科学研究所特任研究员
大阪大学产业科学研究所教授
大阪大学医学系研究科准教授
大阪大学医学系研究科教授
         
关键词:硅微粒子、氧化压力、羟基激素
小林悠辉
小林光
今村亮一
岛田昌一
微软
ーCVD法各种薄膜形成技术

株式会社FLOSFIA董事CTO
         
关键词:雾CVD、氧化镓、陶瓷
四户孝 微软
超薄精密无电解镀

东京工业大学科学技术创建研究院前沿材料研究所教授
     
关键词:无电解镀、自动化处理、纳米间隙电极
真岛丰 微软
由於具备Cu配线的氧化物半导体薄膜晶体管中的盖层的导入的特性稳定化

株式会社神户制钢所技术开发本部应用物理研究所
株式会社神户制钢所技术开发本部应用物理研究所主任研究员
株式会社科研目标事业本部担当部长
     
关键词:Oxide semiconductor、IGZO、Thin film transistor
西山功兵
越智元隆
后藤裕史
微软
关键词解说
氧化压力、雾CVD、电解镀、Oxide semiconductor(氧化物半导体)

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