受邀演讲人

  • Barry Arkles(美国Catemer Inc.)
  • Ching-Wen Chiu(台湾国立台湾大学,台湾)
  • 梁登(中国上海有机化学研究所)
  • Glenna L.Drisko(法国CNRS)
  • Thomas F.Fässler(德国慕尼黑技术大学)
  • Norihisa Fukaya(AIST,日本)
  • 玛丽·格雷利尔(法国图卢兹LCC CNRS)
  • Chang-Sik Ha(韩国釜山国立大学)
  • Hanaoka Kenjiro(日本庆应义塾大学)
  • 桥本久子(日本东北大学)
  • 川和(中国南方科技大学)
  • Alexander Hinz(德国卡尔斯鲁厄理工学院)
  • Hiroaki Imoto(日本京都理工学院)
  • 石田慎太郎(日本东北大学)
  • Yoshiro Kaneko(日本鹿儿岛大学)
  • Shabana Khan(印度浦那IISER)
  • Niklas Kinzel(Wacker Chemie AG,德国)
  • Yoichiro Kuninobu(日本九州大学)
  • Erin Leitao(新西兰奥克兰大学)
  • Kenrick Lewis(美国Momentive Performance Materials公司)
  • Felicitas Lips(德国明斯特大学)
  • 刘洪志(中国山东大学)
  • 刘玉佳(日本群马大学)
  • 埃里克·莫耶(美国盖利斯公司)
  • 中岛由美(日本东京理工学院)
  • Hideyuki Nakano(日本金台大学)
  • Norio Nakata(日本埼玉大学)
  • Makoto Ogawa(泰国维迪亚西里米德科学技术研究所)
  • Young Tae Park(韩国庆阳大学)
  • 斋藤Masaichi Saito(日本斋玉大学)
  • Preeyanuch Sangtrirutnugul(泰国Mahidol大学)
  • Alok Sarkar(Momentive Performance Materials,Inc.,印度)
  • Takahiro Sasamori(日本筑波大学)
  • Atsushi Shimojima(日本早稻田大学)
  • Ryo Shintani(日本大阪大学)
  • Honglae Sohn(韩国朝鲜大学)
  • Timothy A.Su(美国加州大学河滨分校)
  • Michinori Suginome(日本京都大学)
  • Ming Lee Tang(美国犹他大学)
  • Jan Tillmann(Wacker Chemie AG,德国)
  • Ryan Trovitch(美国亚利桑那州立大学)
  • Michel Wong Chi Man(法国蒙彼利埃大学)
  • 徐彩红(中国科学院大学)
  • 李文旭(中国杭州师范大学)
  • 赵东兵(中国南开大学)
©第20届国际硅化学研讨会