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在标题复合体中,[Cu4(C)13H(H)112)4]具有晶体四重反转对称性离子由三齿席夫碱配体配位,形成四核立方烷构型。Cu公司离子和Cu-O处于扭曲的方锥配位环境中顶端的距离远大于Cu-O基底的距离。

支持信息

到岸价

晶体学信息文件(CIF)https://doi.org/10.1107/S16053687019654/lh2368sup1.cif
包含全局数据块,I

香港特别行政区

结构系数文件(CIF格式)https://doi.org/10.107/S1600536807019654/lh2368Isup2.hkl
包含数据块I

CCDC参考:641941

关键指标

  • 单晶X射线研究
  • T型=298千
  • 平均值[西格玛](C-C)=0.008º
  • R(右)系数=0.053
  • 加权平均值系数=0.102
  • 数据与参数之比=13.2

检查CIF/PLATON结果

未发现语法错误
警报级别C 铭牌341_ALERT_3_CC-C债券的低债券精度(x 1000)Ang。。。8平台790_警报4_C重心不在单元单元内:研究编号1C52 H44 Cu4 N4 O8
0A级警报=一般情况:严重问题0B级警报=潜在的严重问题2C级警报=检查并解释0G级警报=一般警报;检查0警报类型1 CIF构造/语法错误,数据不一致或缺失0警报类型2结构模型可能错误或有缺陷的指示器1警报类型3结构质量可能较低的指示器1警报类型4改进、方法、查询或建议0警报类型5信息性消息,检查

注释顶部

多核Cu(II)的研究已经付出了相当大的努力复合物因其在酶系统中的重要性(Beinert,1980)和研究金属-金属相互作用。然而,在结构上很少具有特征的含有希夫碱配体的多核配合物报告(Oshio等。, 2000). 2-羟基席夫碱配体及其铜(II)配合物在合成和结构上都起着重要作用研究(Maggio等。, 1974). 作为一系列研究的一部分(王等。,2007),我们在这里报告了标题化合物(I)是一种新的四核铜(II)配合物,由三齿席夫碱配体衍生自2-羟基-1-萘醛和乙醇胺。

标题复合物(I)(图1)包含一个基于铜和氧原子交替的近似立方阵列。每个Cu离子位于扭曲的方锥配位环境中由一个希夫碱配体的一个氮原子和两个氧原子组成以及来自立方烷相邻单元的两个氧原子。铜原子偏离基面(由O1、N1、O2和O1形成,对称代码:(i)-1/4-x个+ 1/4, -z+9/4)乘以0.0085(25)奥,Cu-O明显更长顶端的粘结距离(表1)。(I)的分子结构,Cu··Cu距离(3.1471(11)Au,3.3419(13)Au)与报告值(Si等。,2002年;米什图et(等)阿尔。,2002),表明Cu之间没有键相互作用离子。晶体结构,分子间C-H··O短接触ii(ii)=2.58,C··Oii(ii)3.485(8)奥和C-H··Oii(ii)= 165°; 对称码(ii)1/4+, 1/4 -x个, -3/4 +z](图2),可以稳定晶体堆积以及通常的范德瓦尔斯力。

相关文献顶部

标题复合体中的Cu··Cu距离与相关结构(Si等。, 2002; 米什图等。, 2002).

相关文献见:Beinert(1980);马乔等。(1974); 大潮等。(2000); Unver公司等。(2003); 等。(2007).

实验顶部

将乙醇胺(1毫摩尔,0.0597毫升)溶于热甲醇(10毫升)中并加入滴入2-羟基-1-萘醛(1 mmol,172.19 mg)的甲醇溶液。然后将混合物在323 K下搅拌2 h。随后,将水溶液添加乙酸铜一水合物溶液(2ml)(1mmol,199.7mg)逐滴搅拌5小时。溶液在室内保存温度持续10天,因此绿色块状晶体适合进行了X射线衍射分析。

精炼顶部

将所有H原子放置在几何计算位置(C-H=0.93-0.97μl),并允许骑在各自的母原子上U型国际标准化组织(H) =1.2U型等式(C) 。

结构描述顶部

多核Cu(II)的研究已经付出了相当大的努力复合物因其在酶系统中的重要性(Beinert,1980)和研究金属-金属相互作用。然而,在结构上很少具有特征的含有希夫碱配体的多核配合物报道(Oshio等。, 2000). 2-羟基席夫碱配体及其铜(II)配合物在合成和结构上都起着重要作用研究(Maggio等。, 1974). 作为一系列研究的一部分(王等。,2007),我们在这里报告了标题化合物(I)是一种新的四核铜(II)配合物,由三齿席夫碱配体衍生自2-羟基-1-萘醛和乙醇胺。

标题复合物(I)(图1)包含基于铜和氧原子交替的近似立方阵列。每个Cu离子位于扭曲的方锥配位环境中由一个希夫碱配体的一个氮原子和两个氧原子组成以及来自立方烷相邻单元的两个氧原子。铜原子偏离基面(由O1、N1、O2和O1形成,对称代码:(i)- 1/4, -x个+ 1/4, -z+9/4)乘以0.0085(25)奥,具有明显更长的Cu-O顶端的粘结距离(表1)。(I)的分子结构,Cu··Cu距离(3.1471(11)Au,3.3419(13)Au)与报告值(Si等。, 2002; 米什图et(等)阿尔。,2002),表明Cu之间没有键相互作用离子。晶体结构,分子间C-H··O短接触ii(ii)=2.58,C··Oii(ii)3.485(8)奥和C-H··Oii(ii)=165°;对称码(ii)1/4+, 1/4 -x个, -3/4 +z](图2),可以稳定晶体堆积以及通常的范德瓦尔斯力。

标题复合体中的Cu··Cu距离与相关结构(Si等。, 2002; 米什图等。, 2002).

相关文献见:Beinert(1980);马乔等。(1974); 大潮等。(2000); Unver公司等。(2003); 等。(2007).

计算详细信息顶部

数据收集:智能(西门子,1996年);单元格细化:圣保罗(西门子,1996年);数据缩减:圣保罗; 用于求解结构的程序:架子97(谢尔德里克,1997年a);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,1997年a);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,1997年b);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.

数字顶部
[图1] 图1。标题化合物的分子结构,显示30%的概率位移椭球和原子编号方案。原子标记为后缀“A”、“B”和“C”由对称运算符关联(-1/4, -x个+ 1/4, -z+ 9/4; -x个-+1/2,z-+ 1/4,x个+ 1/4, -z+ 9/4)
[图2] 图2。弱C-H··O氢标题化合物的部分堆积图用虚线表示的键。
四基色{µ-1-[(2-氧化乙基)亚氨基甲基]-2-萘酚}四铜(II)顶部
水晶数据 顶部
[铜4(C)13H(H)112)4]D类x个=1.595毫克/米
M(M)= 1107.11K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å
正方形,41/2338次反射的细胞参数
大厅符号:-I 4adθ= 2.3–26.2°
=21.628(5)ŵ=1.88毫米1
c(c)= 9.858 (5) ÅT型=298千
V(V)= 4611 (3) Å块,绿色
Z轴= 40.34×0.21×0.10毫米
F类(000) = 2256
数据收集 顶部
西门子SMART CCD
衍射仪
2037次独立反射
辐射源:精细聚焦密封管1478次反射> 2σ()
石墨单色仪R(右)整数= 0.072
φω扫描θ最大值= 25.0°,θ最小值= 1.9°
吸收校正:多扫描
(SADABS公司; 谢尔德里克,1996)
小时=2511
T型最小值= 0.567,T型最大值= 0.834k个=2525
9020次测量反射=1111
精炼 顶部
优化于F类2主原子位置定位:结构-变量直接方法
最小二乘矩阵:完整二次原子位置:差分傅里叶映射
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.053氢站点位置:从邻近站点推断
加权平均值(F类2) = 0.102受约束的氢原子参数
S公司= 1.08 w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.037P(P))2+2014年10月13日P(P)]
哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3
2037次反射(Δ/σ)最大值=0.001
154个参数Δρ最大值=0.52埃
0个约束Δρ最小值=0.32埃
水晶数据 顶部
[铜4(C)13H(H)112)4]Z轴= 4
M(M)= 1107.11K(K)α辐射
正方形,41/µ=1.88毫米1
= 21.628 (5) ÅT型=298千
c(c)= 9.858 (5) Å0.34×0.21×0.10毫米
V(V)= 4611 (3) Å
数据收集 顶部
西门子SMART CCD
衍射仪
2037次独立反射
吸收校正:多扫描
(SADABS公司; 谢尔德里克,1996)
1478次反射> 2σ()
T型最小值=0.567,T型最大值= 0.834R(右)整数= 0.072
9020次测量反射
精炼 顶部
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.0530个约束
加权平均值(F类2) = 0.102受约束的氢原子参数
S公司= 1.08 w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.037P(P))2+ 10.1433P(P)]
哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3
2037次反射Δρ最大值=0.52埃
154个参数Δρ最小值=0.32埃
特殊细节 顶部

几何图形.所有e.s.d.(两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.除外)使用完整的协方差矩阵进行估计在估计e.s.d.的距离、角度时单独考虑和扭转角;e.s.d.细胞内参数之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似(各向同性)细胞e.s.d.的处理用于估计涉及l.s.的e.s.d。飞机。

精炼.改进F类2对抗所有反射。加权R(右)-因子加权平均值和贴合度S公司基于F类2,常规R(右)-因素R(右)基于F类,使用F类设置为零消极的F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算R(右)-因子(gt).并且与选择反射进行细化无关。R(右)-因素基于F类2从统计上看大约是两倍大作为那些基于F类、和R(右)-基于所有数据的系数将为甚至更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部
x个zU型国际标准化组织*/U型等式
铜10.07676 (3)0.24123 (2)1.01961 (5)0.0294 (2)
N1型0.09211 (17)0.27275 (16)0.8405 (4)0.0307 (9)
O1公司0.02178 (13)0.31305 (13)1.0370 (3)0.0282 (7)
氧气0.13040 (15)0.17273(15)0.9926 (3)0.0463 (9)
C1类0.0370 (2)0.3589 (2)0.9401 (5)0.0361 (12)
甲型H1A0.07170.38340.97200.043*
H1B型0.00210.38630.92590.043*
指挥与控制0.0537(2)0.3266 (2)0.8086 (5)0.0421 (13)
过氧化氢0.01650.31360.76190.050*
过氧化氢0.07620.35470.74990.050*
C3类0.1335 (2)0.2538 (2)0.7581 (5)0.0321 (11)
H3级0.13960.27720.68010.039*
补体第四成份0.1713 (2)0.2000 (2)0.7741 (5)0.0319 (11)
C5级0.1668 (2)0.1626(2)0.8897 (5)0.0392 (13)
C6级0.2058 (3)0.1089 (3)0.8993 (7)0.0650 (18)
H6型0.20360.08400.97600.078*
C70.2456(3)0.0942 (3)0.7991 (7)0.0676 (19)
H7型0.26990.05900.80850.081*
抄送80.2516 (2)0.1301 (3)0.6810 (6)0.0477 (14)
C9级0.2158 (2)0.1841 (2)0.6683 (5)0.0383 (12)
C10号机组0.2255 (2)0.2197 (3)0.5510 (5)0.0478 (14)
H10型0.20360.25640.54000.057*
C11号机组0.2669 (3)0.2016 (3)0.4512 (6)0.0649 (18)
H11型0.27210.22630.37460.078*
第12项0.3002 (3)0.1483 (4)0.4633 (7)0.069 (2)
第12页0.32730.13640.39480.083美元*
第13页0.2934 (3)0.1129 (3)0.5761 (7)0.0671 (19)
H13型0.31650.07680.58500.081*
原子位移参数(2) 顶部
U型11U型22U型33U型12U型13U型23
铜10.0348 (4)0.0306 (3)0.0230 (3)0.0054 (3)0.0053 (3)0.0045 (3)
N1型0.037(2)0.032 (2)0.024 (2)0.0057 (18)0.0047 (18)0.0066 (17)
O1公司0.0375 (18)0.0268 (16)0.0203 (17)0.0042 (13)0.0048 (14)0.0005 (14)
氧气0.053 (2)0.044 (2)0.042 (2)0.0185 (18)0.0189 (18)0.0141 (17)
C1类0.043 (3)0.030 (3)0.035 (3)0.008 (2)0.008 (2)0.010 (2)
指挥与控制0.055(3)0.042 (3)0.029 (3)0.015 (3)0.007 (3)0.012 (2)
C3类0.036 (3)0.040 (3)0.021 (3)0.004 (2)0.003 (2)0.002 (2)
补体第四成份0.025 (2)0.038 (3)0.033 (3)0.000 (2)0.007(2)0.007 (2)
C5级0.035 (3)0.039(3)0.044 (3)0.007 (2)0.007 (3)0.001 (3)
C6级0.069(4)0.055 (4)0.071 (4)0.025 (3)0.022 (4)0.015 (3)
C70.059 (4)0.051 (4)0.092 (5)0.023 (3)0.023 (4)0.001 (4)
抄送80.031 (3)0.053 (3)0.060 (4)0.001 (3)0.013 (3)0.016 (3)
C9级0.026 (3)0.050 (3)0.039(3)0.009 (2)0.001 (2)0.014 (3)
C10号机组0.028 (3)0.078 (4)0.037 (3)0.001(3)0.004 (2)0.011 (3)
C11号机组0.038 (3)0.116 (6)0.040 (4)0.008 (4)0.006 (3)0.008 (4)
第12项0.039 (4)0.109 (6)0.058 (5)0.007 (4)0.017 (3)0.033 (4)
第13页0.039(3)0.075 (5)0.087(5)0.002 (3)0.019 (4)0.035 (4)
几何参数(λ,º) 顶部
Cu1-O21.900 (3)C4-C5型1.401 (7)
Cu1-N1型1.921(4)C4至C91.461 (6)
Cu1-O11.949 (3)C5至C61.438 (7)
Cu1-O11.964 (3)C6至C71.348 (8)
Cu1-O1ii(ii)2.439 (3)C6-H6型0.9300
N1-C3型1.277 (5)C7-C8号机组1.405 (8)
N1-C2型1.465 (6)C7-H7型0.9300
O1-C1型1.416 (5)C8-C9型1.406 (7)
O1-Cu1(氧化铜)1.949 (3)C8-C13号机组1.424 (7)
O1-Cu1(氧化铜)ii(ii)2.439 (3)C9-C10型1.406 (7)
O2-5型1.303 (5)C10-C11号机组1.386 (7)
C1-C2类1.516 (6)C10-H10型0.9300
C1-H1A型0.9700C11-C12号机组1.364 (9)
C1-H1B型0.9700C11-H110.9300
C2-H2A型0.9700C12-C13型1.360 (9)
C2-H2B型0.9700C12-H12型0.9300
C3-C4型1.431 (6)C13-H13型0.9300
C3-H3型0.9300
O2-Cu1-N1型92.44 (14)N1-C3-H3型116.9
O2-Cu1-O1型96.73 (14)C4-C3-H3型116.9
N1-Cu1-O1型167.39 (14)C5-C4-C3121.3 (4)
O2-Cu1-O1型176.91 (13)C5-C4-C9119.4 (4)
N1-Cu1-O1型84.51 (13)C3-C4-C9型119.3 (4)
O1公司-Cu1-O186.36 (13)O2-C5-C4型125.3 (4)
O2-Cu1-O1型ii(ii)99.68 (12)氧气-C5-C6116.1 (5)
N1-Cu1-O1型ii(ii)112.74 (13)C4-C5-C6118.6 (5)
O1公司-铜1-O1ii(ii)74.27 (11)C7-C6-C5型121.2 (6)
O1-Cu1-O1ii(ii)81.11 (12)C7-C6-H6型119.4
C3-N1-C2型121.1 (4)C5-C6-H6119.4
C3-N1-Cu1126.3 (3)C6-C7-C8型122.3 (5)
C2-N1-Cu1型112.4 (3)C6-C7-H7型118.8
C1-O1-Cu1125.9 (3)C8-C7-H7型118.8
C1-O1-Cu1110.7 (2)C7-C8-C9118.8 (5)
铜1-O1-Cu1(氧化铜)107.05 (13)C7-C8-C13型121.0 (6)
C1-O1-Cu1ii(ii)119.5 (3)C9-C8-C13型120.1 (6)
铜1-O1-Cu1(氧化铜)ii(ii)90.92 (11)C10-C9-C8号机组116.5 (5)
Cu1-O1-Cu1ii(ii)98.18(11)C10-C9-C4123.8 (5)
C5-O2-Cu1127.5 (3)C8-C9-C4型119.6 (5)
O1-C1-C2型108.0 (4)C11-C10-C9121.7 (6)
O1-C1-H1A型110.1C11-C10-H10型119.1
C2-C1-H1A型110.1C9-C10-H10119.1
O1-C1-H1B型110.1C12-C11-C10121.1(6)
C2-C1-H1B型110.1C12-C11-H11型119.4
H1A-C1-H1B型108.4C10-C11-H11号机组119.4
N1-C2-C1型108.5 (4)C13-C12-C11119.5 (6)
N1-C2-H2A型110C13-C12-H12型120.3
C1-C2-H2A110C11-C12-H12型120.3
N1-C2-H2B型110C12-C13-C8型121.0 (6)
C1-C2-H2B110C12-C13-H13型119.5
H2A-C2-H2B型108.4C8-C13-H13型119.5
N1-C3-C4型126.3 (4)
对称代码:(i)1/4,x个+1/4,z+9/4; (ii)x个+1/2,z; (iii)+1/4,x个+1/4,z+9/4.

实验细节

水晶数据
化学配方[铜4(C)13H(H)112)4]
M(M)1107.11
晶体系统,空间组正方形,41/
温度(K)298
c(c)(Å)21.628(5),9.858(5)
V(V))4611 (3)
Z轴4
辐射类型K(K)α
µ(毫米1)1.88
晶体尺寸(mm)0.34 × 0.21 × 0.10
数据收集
衍射仪西门子智能电荷耦合器件
吸收校正多扫描
(SADABS公司; 谢尔德里克,1996)
T型最小值T型最大值0.567, 0.834
测量、独立和
观察到的[> 2σ()]反射
9020, 2037, 1478
R(右)整数0.072
(罪θ/λ)最大值1)0.595
精炼
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],加权平均值(F类2),S公司0.053, 0.102, 1.08
反射次数2037
参数数量154
氢原子处理受约束的氢原子参数
w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.037P(P))2+ 10.1433P(P)]
哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3
Δρ最大值,Δρ最小值(eó))0.52,0.32

计算机程序:智能(西门子,1996年),圣保罗(西门子,1996年),圣保罗架子97(谢尔德里克,1997年a),SHELXL97型(谢尔德里克,1997年a),SHELXTL公司(谢尔德里克,1997年b),SHELXTL公司.

选定的几何参数(λ,º) 顶部
Cu1-O21.900 (3)Cu1-O11.964 (3)
Cu1-N1型1.921 (4)Cu1-O1ii(ii)2.439 (3)
Cu1-O11.949 (3)
O2-Cu1-N1型92.44 (14)N1-Cu1-O1型ii(ii)112.74 (13)
O2-Cu1-O1型96.73(14)O1公司-Cu1-O1ii(ii)74.27 (11)
N1-Cu1-O1型167.39 (14)O1-Cu1-O1ii(ii)81.11 (12)
O2-Cu1-O1型176.91 (13)铜1-O1-Cu1型107.05 (13)
N1-Cu1-O1型84.51 (13)铜1-O1-Cu1(氧化铜)ii(ii)90.92 (11)
O1公司-铜1-O186.36 (13)Cu1-O1-Cu1ii(ii)98.18 (11)
O2-Cu1-O1型ii(ii)99.68 (12)
对称代码:(i)1/4,x个+1/4,z+9/4; (ii)x个+1/2,z; (iii)+1/4,x个+1/4,z+9/4.
 

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