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控制绘制正常方差-反射、好奇和建议。 (英语) Zbl 1383.62347号

Lenz,Hans-Joachim(编辑)等人,《统计控制的前沿》9。论文选自2007年9月在中国北京举行的第九届“智能统计质量控制”国际研讨会上的发言。海德堡:Physica-Verlag(ISBN 978-3-7908-2379-0/pbk;978-3-79 08-2380-6/电子书)。3-18 (2010).
总结:遵循G.E.P.箱等人【实验者统计。设计、数据分析和模型构建导论。纽约:John Wiley&Sons(1978;Zbl 0394.62003号)]在有关方差监测的SPC文献中,对样本方差的对数(S^2)的考虑相当普遍。样本标准差(S\)和范围(R\)是日常SPC实践中最常见的统计数据。半导体行业使用的SPC软件包专门提供(R)和(S)控制图。使用卡斯塔利奥拉[“一个新的\(S^2 \)-EWMA控制图用于监控过程差异”,Qual.Reliab.Eng.Int.21,No.8,781-794(2005;doi:10.1002/qre.686)]2005年开始了一项新的基于日志的转换。同样,对对称性和准正态性的搜索也是寻找新图表统计数据的原因。图表统计数据的对称性有助于建立双边控制图表。在这里,我们进行了一项比较研究,特别着眼于双边设置,理顺了用于方差监测的可用竞争统计数据集的观点,并最终提出了选择正确统计数据的建议。
关于整个系列,请参见[Zbl 1187.62207号].

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第60页 统计学在工程和工业中的应用;控制图
62K20型 响应面设计
62焦耳10 方差和协方差分析(ANOVA)
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