Poly[potassium aquadi-μ-oxalato-neodymium(III) dihydrate]

Li, S.-Z.; Liu, Y.-H.

doi:10.1107/S1600536806055231

聚[二水夸二-μ-草酸钕（III）钾]

Y.-H.刘和S.-Z.李

标题化合物{K[Nd（C₂O（运行）₄)₂（H）₂O） ]·2小时₂O}（O）_n个已通过水热方法制备。每Nd^三原子通过位于反转中心的草酸盐阴离子与其他四个原子相连，生成一个三维阴离子网络，其中含有K⁺阳离子和水分子。

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支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S1600536806055231/bi2114sup1.cif 包含全局数据块，I
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CCDC参考：636136

checkCIF报告

关键指标

单晶X射线研究
T型=293千
平均值（C-C）=0.016º
R（右）系数=0.054
水风险系数=0.120
数据与参数之比=12.9

检查CIF/PLATON结果

未发现语法错误
警报级别A
DIFF020_警报_1_A_衍射标准间隔计数和_缺少diffrin_standards_interval_time。测量次数标准之间或标准之间的时间（min）。

作者回复：这是一个图像制版系统

差速器22_ALERT_1_A_缺少diffrin_standards_decrease_%标准强度下降百分比。

作者回复：这是一个图像板系统


警报级别B
铭牌369_标签2_B长C（sp2）-C（sp2”）键C3-C3_b。。。1.59角度。
警报级别C
平台042_警报_1_CCalc.和Rep.MoietyFormula字符串不同？板213_ LERT_2_C原子O2具有ADP最大/最小比率。。。。。。。。。。。。。3.10长PLAT220_警报_2_C大型非溶剂O Ueq（最大）/Ueq。。。3.06比率平台241_警报2_C检查与邻区相比的高Ueq是否有O2板241_ALERT_2_C检查O7与邻居相比的高Ueq平台242_警报2_C检查与相邻Nd1相比的低Ueq平台342_警报_3_CC-C债券的低债券精度（x 1000）Ang。。。16PLAT369_铭牌_2_C长C（sp2）-C（sp2”）键C1-C2。。。1.54角度。PLAT369_铭牌_2_C长C（sp2）-C（sp2”）键C4-C4_j。。。1.53角度。PLAT720_警报_4_C异常/非标准标签数量。。。。。。。。6板764_警报_4_C检测到CIF债券清单过度完整（Rep/Expd）。1.16比率
警报级别G
表格01_ LERT_1_GThere is a discrepancy between the atom counts in the_化学公式和化学公式的数量。这是通常是由于部分公式的格式错误。化学formula_sum的原子计数：C4 H6 K1 Nd1 O11化学配方中的原子数：C4 H8 K1 Nd1 O12PLAT199_警报_1_G检查报告的cell_measurement_temperature 293 K铭牌200_铭牌_1_G检查报告的_diffrn_ambient_temperature。293公里
2A级警报=一般情况：严重问题1B级警报=潜在的严重问题11C级警报=检查并解释三G级警报=一般警报；检查6警报类型1 CIF结构/语法错误，数据不一致或缺失8警报类型2结构模型可能错误或有缺陷的指示器1警报类型3结构质量可能较低的指示器2警报类型4改进、方法、查询或建议0警报类型5信息性消息，检查

计算详细信息顶部

数据收集：自动处理（里加库，1998年）；单元格细化：自动处理; 数据缩减：晶体结构（里加库/MSC，2004年）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，1997）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，1997）；分子图形：WinGX公司（Farrugia，1999）；用于准备出版材料的软件：SHELXL97型.

聚[水二-µ-草酸-钕（III）二水合物钾]顶部

水晶数据顶部

K[Nd（C）₂O（运行）₄)₂（H）₂O） ]·2小时₂O（运行）	F类(000) = 1576
M（M）_对= 413.43	D类_x个=2.487毫克⁻^三
单诊所，C类2/c（c）	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：-C 2yc	250次反射的细胞参数
一= 23.085 (5) Å	θ= 2.5–25°
b条=7.4913（15）Å	µ=5.13毫米⁻¹
c（c）= 12.941 (3) Å	T型=293千
β= 99.286 (3)°	块状，粉红色
V（V）= 2208.6 (8) Å^三	0.26×0.13×0.11毫米
Z轴= 8

数据收集顶部

里加库R-AXIS-IV 衍射仪	1985年独立思考
辐射源：精细聚焦密封管	1531次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数=0.041
ω扫描	θ_最大值= 25.3°,θ_最小值= 3.2°
吸收校正：多扫描（ABSCOR；东，1995年）	小时=−27→19
T型_最小值= 0.330,T型_最大值= 0.569	k=−8→8
5056次测量反射	我=−15→15

精炼顶部

优化于F类²	主原子位置定位：结构-变量直接方法
最小二乘矩阵：完整	二次原子位置：差分傅里叶映射
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.054	氢站点位置：从邻近站点推断
水风险(F类²) = 0.120	受约束的氢原子参数
S公司= 1.28	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + 55.1422P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
1985年的反思	(Δ/σ)_最大值< 0.001
154个参数	Δρ_最大值=0.87埃⁻^三
66个约束	Δρ_最小值=−2.08埃⁻^三

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.除外）使用全协方差矩阵进行估计在估计e.s.d.的距离、角度时单独考虑和扭转角；e.s.d.细胞内参数之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似（各向同性）细胞e.s.d.的处理用于估计涉及l.s.的e.s.d。飞机。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类设置为零消极的F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.并且与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²从统计上看大约是两倍大作为那些基于F类、和R（右）-基于所有数据的系数将为甚至更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
第1页	0.58112 (15)	0.0002 (5)	0.8731 (3)	0.0514 (8)
钕1	0.63733 (2)	0.50022 (9)	0.51386 (4)	0.0146 (2)
O1公司	0.6605 (4)	0.6607 (13)	0.8570 (6)	0.041 (2)
氧气	0.6703 (4)	0.6413 (14)	0.6886（6）	0.043 (2)
臭氧	0.5968 (4)	0.3623 (11)	0.8388 (6)	0.0281 (19)
O4号机组	0.5991 (3)	0.3587 (10)	0.6656 (6)	0.0237 (18)
O5公司	0.5450（3）	0.3412 (10)	0.4542 (5)	0.0166 (16)
O6公司	0.4498 (3)	0.3272 (10)	0.4646 (6)	0.0197 (17)
O7公司	0.7464 (4)	0.5266 (11)	0.5259 (8)	0.039 (2)
O8号机组	0.8239 (3)	0.6983 (10)	0.5122（6）	0.0228 (18)
C1类	0.6510 (5)	0.5883 (18)	0.7694 (8)	0.028 (3)
指挥与控制	0.6122 (5)	0.4200 (14)	0.7579 (8)	0.013 (2)
C3类	0.4985 (5)	0.4023 (14)	0.4762 (7)	0.016 (2)
补体第四成份	0.7703 (4)	0.6689 (15)	0.5105 (8)	0.019 (2)
O1瓦	0.6766（4）	0.2032 (11)	0.5566 (7)	0.032 (2)
H1WA公司	0.6814	0.1433	0.6132	0.048*
H1WB公司	0.6931	0.1499	0.5112	0.048美元*
O2瓦	0.6910 (5)	0.0106 (15)	0.7359 (8)	0.065 (3)
H2WA公司	0.6846	−0.0992	0.7221	0.098*
过氧化氢	0.7077	0.0156	0.7994	0.098*
O3瓦	0.5418 (4)	0.0093 (14)	0.6535 (8)	0.052 (3)
H3WA公司	0.5548	−0.0801	0.6239	0.078*
H3WB公司	0.5533	0.1042	0.6271	0.078*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
第1页	0.061 (2)	0.0327 (16)	0.057 (2)	−0.0080 (19)	−0.0005 (15)	0.0032 (18)
钕1	0.0132 (3)	0.0187 (3)	0.0127 (3)	−0.0015 (3)	0.00443（18）	−0.0010 (3)
O1公司	0.058 (5)	0.049 (5)	0.018 (4)	−0.033 (5)	0.007 (4)	−0.007 (4)
氧气	0.048 (5)	0.063 (6)	0.019 (4)	−0.044 (5)	0.008 (4)	−0.004 (4)
臭氧	0.044（5）	0.027 (4)	0.014 (4)	−0.007 (4)	0.005 (3)	−0.002 (3)
O4号机组	0.031 (4)	0.022 (4)	0.019 (4)	−0.006 (3)	0.008（3）	0.000 (3)
O5公司	0.013 (3)	0.017 (4)	0.021 (4)	0.004 (3)	0.005 (3)	−0.001（3）
O6公司	0.012 (4)	0.022 (4)	0.026 (4)	−0.006 (3)	0.006 (3)	−0.011 (3)
O7公司	0.024 (4)	0.016 (4)	0.077 (6)	0.001 (4)	0.014 (4)	0.011 (4)
O8号机组	0.014 (4)	0.018 (4)	0.036 (4)	−0.001（3）	0.003 (3)	−0.001（3）
C1类	0.026 (6)	0.049 (8)	0.010（6）	−0.019 (6)	0.005 (5)	0.001 (6)
指挥与控制	0.016 (5)	0.014 (5)	0.009 (5)	0.005 (4)	0.000 (4)	0.001 (4)
C3类	0.023 (6)	0.016 (6)	0.009 (6)	−0.002 (5)	0.007 (5)	−0.002（4）
补体第四成份	0.018 (6)	0.019 (6)	0.020 (6)	−0.002 (5)	0.009 (4)	0.007 (5)
O1瓦	0.041 (5)	0.025 (4)	0.033 (4)	0.013（4）	0.019 (4)	0.012 (4)
O2瓦	0.086 (7)	0.053（6）	0.051 (6)	0.004 (6)	−0.009 (5)	0.001 (5)
O3瓦	0.058 (5)	0.046 (5)	0.057 (5)	−0.006 (5)	0.021 (4)	−0.014 (5)

几何参数（λ，º）顶部

钕-O1^我	2.492 (8)	O1-C1型	1.244 (14)
Nd1-O2	2.502（8）	氧气-C1	1.264 (14)
钕-O3^我	2.527 (7)	臭氧-C2	1.238 (13)
钕-O4	2.514 (8)	O4-C2型	1.270 (12)
Nd1-O5	2.455 (7)	O5-C3	1.240 (13)
钕-O6^ii（ii）	2.444（7）	O6-C3	1.245 (13)
Nd1-O7	2.505 (8)	O7-C4	1.231 (13)
Nd1-O8合金^三	2.472 (8)	O8-C4型	1.254（12）
钕-O1W	2.432 (8)	C1-C2型	1.540 (16)
K1-O1型^四	3.161 (11)	C3-C3型^ii（ii）	1.59 (2)
K1-O3型	2.781 (9)	C4-C4型^三	1.53 (2)
K1-O5型^v（v）	2.936 (8)	O1W-H1WA型	0.85
K1至O6^{不及物动词}	3.377 (9)	O1W-H1WB型	0.85
K1-O8型^vii（七）	2.857 (8)	O2W-H2WA型	0.85
K1-O1W型^v（v）	3.336 (9)	氧气-H2WB	0.85
K1-O2瓦	3.324 (13)	O3W-H3WA型	0.85
K1-O3W（K1-O3瓦）	2.841 (11)	O3W-H3WB型	0.85
K1-O3W（K1-O3瓦）^{不及物动词}	2.803 (10)

O3-K1-O3W型^{不及物动词}	96.4（3）	O5-Nd1-O4	69.1 (2)
O3-K1-O3W型	81.1 (3)	O8号机组^三-钕-O4	132.3 (3)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O3W（K1-O3瓦）	73.9 (3)	O1公司^我-钕-O4	125.5（3）
O3-K1-O8型^vii（七）	57.9 (2)	O2-Nd1-O4	64.3 (3)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O8型^vii（七）	136.7 (3)	O7-Nd1-O4	117.4 (3)
O3W-K1-O8型^vii（七）	127.0 (3)	O1W-Nd1-O3^我	130.4 (3)
臭氧层-K1-O5^v（v）	163.4 (3)	O6公司^ii（ii）-钕-O3^我	72.2 (3)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O5型^v（v）	74.0 (3)	O5-Nd1-O3^我	74.8 (3)
O3W-K1-O5型^v（v）	108.4 (3)	O8号机组^三-钕-O3^我	66.1 (3)
O8号机组^vii（七）-K1-O5型^v（v）	120.4 (2)	O1公司^我-钕-O3^我	64.2（3）
O3-K1-O1型^四	133.0 (3)	O2-Nd1-O3^我	130.8 (3)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O1型^四	126.7 (3)	O7-Nd1-O3^我	104.3 (3)
O3W-K1-O1型^四	92.8（3）	O4-Nd1-O3^我	138.2 (3)
O8号机组^vii（七）-K1-O1型^四	92.7 (2)	C1-O1-Nd1^{viii（八）}	120.2 (8)
O5公司^v（v）-K1-O1型^四	61.6 (2)	C1-O1-K1型^九	113.1 (8)
O3-K1-O2W型	76.2 (3)	钕1^{viii（八）}-O1-K1型^九	97.6 (3)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O2瓦	141.1 (3)	C1-O2-Nd1	121.2 (7)
O3W-K1-O2W型	67.3 (3)	C2-O3-Nd1^{viii（八）}	120.0 (7)
O8号机组^vii（七）-K1-O2瓦	71.2 (3)	C2-O3-K1型	122.6 (7)
O5公司^v（v）-K1-O2W	119.8 (3)	钕1^{viii（八）}-O3-K1型	107.1 (3)
O1公司^四-K1-O2瓦	58.9 (3)	C2-O4-Nd1型	121.4 (7)
O3-K1-O1W型^v（v）	118.1 (2)	C3-O5-Nd1	119.2 (6)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O1W^v（v）	129.6（3）	C3-O5-K1^x个	135.2 (7)
O3W-K1-O1W型^v（v）	142.2 (3)	Nd1-O5-K1^x个	104.6 (2)
O8号机组^vii（七）-K1-O1W型^v（v）	60.3 (2)	C3-O6-Nd1^ii（ii）	119.4 (7)
O5公司^v（v）-K1-O1W型^v（v）	62.7 (2)	C3-O6-K1型^{不及物动词}	122.0 (6)
O1公司^四-K1-O1W型^v（v）	49.9 (2)	钕1^ii（ii）-O6-K1型^{不及物动词}	93.0 (2)
O2W-K1-O1W型^v（v）	85.3 (2)	C4-O7-Nd1型	122.0 (7)
O3-K1-O6型^{不及物动词}	55.8 (2)	C4-O8-Nd1型^三	122.4 (7)
O3瓦^{不及物动词}-K1-O6型^{不及物动词}	75.4（3）	C4-O8-K1型^xi（西）	126.2 (7)
O3W-K1-O6型^{不及物动词}	122.6 (3)	钕1^三-O8-K1型^xi（西）	106.3 (3)
O8号机组^vii（七）-K1-O6型^{不及物动词}	61.4 (2)	O1-C1-O2	125.7 (12)
O5公司^v（v）-K1-O6型^{不及物动词}	108.0 (2)	O1-C1-C2型	117.3 (10)
O1公司^四-K1-O6型^{不及物动词}	143.9 (2)	O2-C1-C2型	117.0 (10)
O2W-K1-O6型^{不及物动词}	124.8 (2)	O3-C2-O4型	127.7 (10)
O1瓦^v（v）-K1-O6型^{不及物动词}	94.0（2）	臭氧-C2-C1	116.5 (9)
O1W-Nd1-O6^ii（ii）	137.8 (3)	O4-C2-C1型	115.7 (9)
O1W-Nd1-O5	84.3 (3)	O5-C3-O6型	127.1 (10)
O6公司^ii（ii）-Nd1-O5	66.7 (2)	臭氧-C3-C3^ii（ii）	116.4 (12)
O1W-Nd1-O8氧化物^三	137.4 (3)	臭氧-C3-C3^ii（ii）	116.4 (12)
O6公司^ii（ii）-Nd1-O8合金^三	81.7 (2)	O7-C4-O8型	128.0 (10)
O5-Nd1-O8^三	135.7 (2)	O7-C4-C4型^三	116.0 (11)
O1W-Nd1-O1^我	67.8 (3)	O8-C4-C4型^三	115.9 (12)
O6公司^ii（ii）-钕-O1^我	129.6（3）	Nd1-O1W-K1^x个	94.4 (3)
O5-Nd1-O1^我	78.4 (3)	钕-O1W-H1WA	132.1
O8号机组^三-Nd1-O1型^我	101.6 (3)	第1页^x个-O1W-H1WA型	110.5
O1W-Nd1-O2	97.6 (3)	钕-O1W-H1WB	117.7
O6公司^ii（ii）-Nd1-O2	79.0 (3)	第1页^x个-O1W-H1WB型	67.2
O5-Nd1-O2	127.7 (3)	H1WA-O1W-H1WB	109.7
O8号机组^三-Nd1-O2	70.9 (3)	K1-O2W-H2WA	88.2
O1公司^我-Nd1-氧	150.1 (3)	K1-O2W-H2WB型	75.5
O1W-Nd1-O7	74.0 (3)	H2WA-O2W-H2WB	106.4
O6公司^ii（ii）-Nd1-O7	142.0 (2)	第1页^{不及物动词}-O3W-K1型	106.0 (3)
O5-Nd1-O7	150.6 (3)	第1页^{不及物动词}-O3W-H3WA型	110.4
O8号机组^三-Nd1-O7	63.5 (2)	K1-O3W-H3WA	110.7
O1公司^我-Nd1-O7	75.1 (3)	第1页^{不及物动词}-O3W-H3WB型	110.4
O2-Nd1-O7	75.7 (3)	K1-O3W-H3WB	110.6
O1W-Nd1-O4型	66.5（3）	H3WA-O3W-H3WB型	108.8
O6公司^ii（ii）-钕-O4	74.6 (3)

对称代码：（i）x个,−年+1,z（z）−1/2; （ii）−x个+1,−年+1,−z（z）+1; （iii）−x个+3/2,−年+3/2,−z（z）+1; （iv）x个,年−1,z（z）; （v）x个,−年,z（z）+1/2；（vi）−x个+1,年,−z（z）+3/2; （vii）−x个+3/2,年−1/2,−z（z）+3/2; （viii）x个,−年+1,z（z）+1/2；（ix）x个,年+1,z（z）; （x）x个,−年,z（z）−1/2; （十一）−x个+3/2,年+1/2,−z（z）+3/2.

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