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对抛光硅的X射线散射进行了测量。拟合采用了从表面粗糙度直接计量获得的自相关函数。

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本文展示了Cr/Be多层X射线反射镜的整体质量,并分别给出了粗糙度和材料混合的估计值。

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研究了横向周期纳米结构的边缘粗糙度对散射图案的影响。讨论了现有分析方法对真实样品描述的适用性。

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镍钛中子超镜中的长程界面粗糙度相关性在扩散中子散射的平台和峰值中表现出来。这些特征具有共振特性,并且强烈依赖于超镜结构的类型(缓慢增加或减少双层厚度)。畸变波玻恩近似计算得出了界面粗糙度相关性的统计参数。

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通过建立晶体截断棒散射的运动学理论,讨论了晶体截断棒(CTR)散射强度分布与晶体表面粗糙度之间的关系,以反映晶体表面的二维形貌。从布拉格点拉长的CTR散射强度被证明减少了一个因子|Γ(q个)|2对于具有一定粗糙度的表面,其中Γ(q个)由γ的简单傅里叶求和定义第页,具有相同台阶高度的相对面积第页在表面上, Γ(q个) =p=0γ第页exp(2π国际收支平衡),带∑第页γ第页= 1,q个是沿CTR散射方向距离布拉格点的倒易空间距离。因此,可以通过粗糙度阻尼因子的简单傅里叶积分获得台阶之间的对相关函数|Γ(q个)|2.对于γ第页平均台阶高度周围呈高斯分布|Γ(q个)|2近似于众所周知的德拜–沃勒类因子exp(-4π2〈Δ第页2q个2),其中〈Δ第页2\9002;是以晶格间距为单位的台阶高度的均方偏差。在此基础上,讨论了几位作者迄今提出的强度公式。

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GaN纳米线对Si(111)的小角度X射线散射强度取决于侧面刻面相对于入射光束的方向。这种对截断杆散射的回忆导致了对Porod定律的偏离。每微米长的侧面只有3-4个原子台阶的粗糙度会显著改变强度曲线。

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在应用于随机粗糙表面掠入射小角度X射线(GISAX)散射时,尝试使用经格林函数形式调整的积分波方程来超越畸变波玻恩近似。应用波函数的自洽近似,得到了非平均积分波动方程的基本解。利用随机高斯表面的统计模型,根据均方根粗糙度和两点累积相关函数,得到了反射GISAX镜面和漫反射散射强度的解析表达式。

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用X射线漫散射分析了180°铁电条畴的纳米结构,定量测定了畴周期、周期无序、极化诱导应变和壁面粗糙度。

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为了研究键B的特性4利用C基多层膜、X射线掠入射反射率和漫散射综合表征了多层膜结构,包括厚度、密度、界面粗糙度、互扩散、表面状态和相关长度等信息。

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