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从积分强度对厚度的依赖关系,测量了30个净平面的硅的X射线结构因子λ比例尺。在十个低阶平面中,估计准确度水平在可能误差中为0.05%。因此,可以高精度地确定Hartree-Fock孤立原子在谐波振荡下的标准模型偏差。在其余净平面中,准确度为0.1%。对于高于660的八个净平面,Dawson规则(均匀和高阶反射应为正常反射)得到了很好的满足。在此背景下,奇阶和中阶平面的一些Fg值偏离了标准模型。在差分傅里叶图中,不仅识别出反键区的键电荷和电荷亏损,而且在原子位置附近也有轻微的过剩。

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通过最大熵法(MEM)绘制了Si晶体的电子密度图,其中30个结构因子在绝对尺度上通过彭德尔松方法[Saka&Kato(1986)。《水晶学报》。A类42, 469-478]. 结果表明,使用MEM进行准确的结构分析有以下三点好处。首先,可以获得精确的电子密度图;在最大熵图中可以清楚地看到键合电子的存在,尽管分析中没有包含禁止反射。根据最大熵图计算出的222和442个禁止反射的结构因子与不同实验测量的结果吻合良好。决赛由于测量的结构因子具有较高的准确性,该因子为0.05%。其次,在精确的结构分析中,无需寻求更好的结构模型,这可能是一个复杂且耗时的过程。第三,最大熵映射的分辨率远高于传统傅里叶变换绘制的映射。还发现,在硅的情况下,相位信息并不是绝对必要的,因为在没有任何相位信息的情况下可以获得与所有相位信息绘制的密度分布图完全相同的密度分布。

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综述了透射电子衍射法测量晶体结构因子振幅和相位的研究进展。振幅的准确度通常为百分之一的分数(转换为X射线结构因子后),而相位现在可以在有利的情况下使用三束电子衍射测量,其准确度远高于1°。在简要回顾理论之后,概述了主要技术。这些方法包括定量会聚束电子衍射、临界电压法、交叉菊池和HOLZ线方法以及基于广角模式中弱高阶反射的方法。讨论了对映体和极性。概述了平均内势和结构因子的测量结果。简要回顾了这项工作对合金中晶体键合和有序性研究的影响,及其在测试中的应用从头算电荷密度的计算。平均内电势是对价电子成键分布最敏感的量,它敏感地限制了精确的X射线结构因子测量。电子衍射技术是研究单个微晶或人工形成结构的首选技术,也是非常准确地测量具有小单元胞的无着丝粒晶体中的结构因子相的首选技术。

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通过测量X射线,确定了九次低阶反射下金刚石结构因子的绝对值彭德尔松在波长范围内跳动。合成金刚石单晶的平行边晶片被用于样品。变形电荷密度与德拜-沃勒效应B类从结构因子中评估因子。堆积电子的电荷密度估计为0.44(17)e Au-3个在最近邻原子之间的中点。密度略小于通过粉末衍射法测定的密度。获得的B类系数,0.142(9)Ω2,与迄今为止中子衍射测量评估的结果一致。

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根据SPring-8,BL02B2测得的粉末衍射数据,确定了硅和金刚石的准确结构因子。评估了结构因子的准确性。还报告了当前结构因子的有用性。

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本文介绍了使用多通道电子能量分析仪的微分电子产额(DEY)-EXAFS方法。DEY-EXAFS提供了一个特定的吸收边光谱,在EXAFS振荡(NK(K)-本研究中氮化硅的边缘),通过傅里叶变换进行局部结构分析。

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考虑了平截面和楔形截面多层膜中X射线劳厄衍射的动力学理论。得到了描述深度不均匀结构中劳厄衍射的递推关系。

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提出了一种精确测量氧化膜织构的方法。该方法涉及从复杂的掠角衍射光谱中分离积分强度,并导致氧化物薄膜中存在的择优取向的改进表示。

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