Poly[aqua­(μ3-benzene-1,2-dicarboxyl­ato)(μ2-hydroxo)indium(III)]

Wang, Y.-L.; Liu, Q.-Y.; Zhong, S.-L.

doi:10.1107/S0108270106026679

聚[aqua（μ_三-苯-1,2-二羧基原子）（μ₂-氢化铟（III）]

在标题化合物中，[In（C₈H（H）₄O（运行）₄)（OH）（H）₂O） ]_n个，In的协调^三该离子由三个二价苯-1,2-二羧酸盐配体的六个O原子、两个羟基和一个配位的水分子组成，呈扭曲的八面体几何结构。In公司³⁺离子通过羟基连接形成锯齿状In–OH–In链，然后通过苯-1,2-二羧酸配体进一步桥接，形成具有三种类型环（六元、十四元和二十元）的二维层状结构。层内观察到水分子和羧酸氧原子之间以及羟基和羧酸O原子之间的氢键。在晶体堆积中，相邻层的苯环之间存在π–π堆积相互作用，质心到质心的距离为3.668（3）°，二面角为4.8（2）°。

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支持信息

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CCDC参考：621253

注释顶部

配位聚合物的构造是近年来的材料研究。对这些材料的浓厚兴趣是作为功能材料（催化、，磁性、导电性、气体储存和非线性光学），以及因为其有趣的结构拓扑（Janiak，2003；Kitagawaet（等）阿尔。, 2004; 奥基夫等。, 2000). 在连接分子中，刚性芳香羧酸，例如1,3,5-苯三甲酸，1,2,4,5-苯四甲酸和1,4-苯二甲酸由于其多功能协调模式（Yaghi等。, 1997; 戴等。, 2002; 卡拉诺维奇等。，2002). 1,2-苯二甲酸（H₂BDC）是一种重要的二羧酸盐配体具有多种配位模式金属离子的配位几何结构导致了产物的产生包含一维链、二维层和三维框架（Ma等。, 2004; Thirumurugan公司&Natarajan，2004年）。

到目前为止，人们在过渡金属基的研究方面付出了大量努力配位聚合物。然而，相对较少的关注主族金属离子的配位聚合物，尽管它们很重要在离子交换或电致发光器件中的应用（林等。，2005; Liu&Xu，2006）。据推测族金属离子可能会产生不同于它们的不同结构含有过渡金属离子。在搜索其他类别的材料中，我们按顺序引入了一种三价金属，即铟（III）研究金属中心的变化对金属装配过程中的协调结构带H的中心₂BDC公司。In公司^三离子容易水解，这限制了其用于构建配位聚合物。但是，通过添加脱质子H的合适碱性试剂₂BDC并仔细控制反应条件，我们发现In^三离子可以用来建造新框架。InCl的水热反应_三带H₂BDC位于2-甲基吡啶的存在产生标题络合物，（I），我们提出它的结构。据我们所知，没有In–BDC物种之前报告过。

（I）的非对称单元由一个In组成^三离子，一个BDC^2-二阴离子，一个羟基和一个配位水分子。如图1所示，输入^三原子由来自三个BDC的四个O原子六配位^2-配体和一个配位水分子在扭曲的方形平面几何形状中，以及顶部位置的两个羟基的两个O原子。In–O系列八面体轻微压缩，轴向In-O键长为2.071（3）和2.093（3）Å，赤道In-O键长为2.133（3）–2.244（4）Å，O-In-O键角从80.4（1）到173.5（2）°不等（表1）。涉及In的键合尺寸是正常的，与相关铟（III）配合物（太阳等。, 2002).

邻八面体共享轴向O原子角，形成之字形···OH-In-OH-In···链沿c（c）轴，带有In-OH-In角度为126.4（1）°，如图2所示。In-OH-In（I）中的角度远大于在三维框架中为118.6（2）-120.6（2）°{[英寸（OH）(第页-BDC）]₄[第页-H（H）₂BDC]_三}_n个(第页-H（H）₂BDC公司是1,4-苯二甲酸），其中第页-H（H）₂BDC客体分子是在框架内观察到（Anokhina等。, 2005). In-In分离度为3.72º，与化合物中的3.63º值相似{[英寸（OH）(第页-BDC）]₄[第页-H（H）₂BDC]_三}_n个和3.77º化合物{[In₂（俄亥俄州）_三(第页-BDC）_1.5]}_n个（戈梅兹-洛尔et（等）阿尔。，2002年）。这些值如预期的那样更长，但与纯无机结构的，如类刚玉In₂O（运行）_三结构或铟金属(d日两种情况下均=3.34Ω）（Prewittet（等）阿尔。, 1969). 相邻输入^三锯齿链中的离子也被桥接通过双齿羧酸基团形成六元环，A类（图。2). 沿着c（c）方向，与c（c）轴。

BDC^2-配体通过其双齿和单齿羧酸基团。赤道羧酸盐O原子与BDC共享^2-交联八面体链的阴离子成二维层状结构（图3）。另外两种类型的环在二维层中观察到。戒指B类是14人环，由两个BDC组成^2-阴离子和两个In^三原子和环C类是一个包含两个BDC的20元环^2-阴离子，五In^三原子和两个羟基O原子，如图4所示。在二维中层状结构，所有苯环均位于平面两侧由In-OH-In链形成。有趣的是一侧平行，相对于另一侧，二面角为86.1（1）°。

配位的水分子和羧酸盐O原子之间的氢键，在羟基和羧酸氧原子之间二维层，O-O距离在范围内2.838（5）-3.149（5）？（表2）。有π——π叠加相互作用相邻层的苯环之间，具有中心到中心3.668（3）Ω的距离和4.8（2）°的二面角，这些是负责三维超分子框架结构（图。5).

实验顶部

标题化合物是在自生条件下通过水热法合成的压力。混合InCl_三（221毫克，1毫摩尔），1,2-苯二甲酸（166 mg，1 mmol）和蒸馏水（15 ml）在环境下搅拌条件。然后将2-吡啶（0.35 ml）缓慢添加到悬浮液中。这个将最终混合物密封在一个25ml的内衬特氟隆的钢制高压釜中，并在433 K持续4天，然后冷却至室温。无色板状得到了（I）的晶体，这些晶体通过过滤、洗涤进行回收使用蒸馏水并在空气中干燥（产率59%）。分析，计算对象C类₈H（H）₇O（运行）₆单位：C 30.58，H 2.25%；发现：C 30.55，H 2.21%。

计算详细信息顶部

数据收集：CrystalClear公司（Rigaku公司和分子结构公司，2000); 单元格细化：CrystalClear公司; 数据缩减：CrystalClear公司; 用于求解结构的程序：SHELXTL公司（Sheldrick，1997）；用于优化结构的程序：SHELXTL公司; 分子图形：SHELXTL公司和钻石（勃兰登堡，2005）；用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司.

数字顶部

	图1。标题化合物的图纸，显示原子编号方案。位移椭球是在40%的概率水平上绘制的。氢原子具有为了清楚起见，省略了。[对称代码：（i）-x个, -年+ 1/2,z（z）- 1/2; （ii）-x个- 1/2, -年+ 1/2,z（z）; （iii）-x个, -年+ 1/2,z（z）+ 1/2.]
	图2。关于Z字形··OH·In OH·In····链和六元戒指A类.
	图3。（I）的二维层状结构的透视图。
	图4。六元环、十四元环和二十元环的透视图A类，B类和C类（形成环的原子表示为球）。
	图5。（I）包装视图，向下查看c（c）轴。

聚[水（µ_三-苯-1,2-二羧基）（µ₂-氢化铟（III）]顶部

水晶数据顶部

[输入（C₈H（H）₄O（运行）₄)（OH）（H）₂O） ]	F类(000) = 2432
M（M）_第页= 313.96	D类_x个=2.270毫克^负极^三
正交晶系F类d日d日2	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：F 2-2d	2708次反射的单元参数
一= 11.915 (1) Å	θ= 3.3–27.5°
b条= 42.205 (5) Å	µ=2.58毫米^负极¹
c（c）= 7.3069 (9) Å	T型=295千
V（V）= 3674.4 (7) Å^三	板，无色
Z轴=16	0.25×0.18×0.01毫米

数据收集顶部

Rigaku水银70 衍射仪	1888独立反射
辐射源：细焦点密封管	1822次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.033
ω扫描	θ_最大值= 27.5°,θ_最小值= 3.3°
吸收校正：多扫描 (CrystalClear公司; Rigaku Corporation&Molecular Structure Corporation，2000年）	小时=负极14→15
T型_最小值= 0.589,T型_最大值= 0.976	k个=负极54→49
6877次测量反射	我=负极9→7

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：根据邻近站点推断
R（右）[F类²> 2σ(F类²)]=0.026	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²) = 0.058	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0306P（P）)²+ 12.2335P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.01	（Δ/σ)_最大值< 0.001
1888次反射	Δρ_最大值=1.11埃^负极^三
145个参数	Δρ_最小值=负极0.94埃^负极^三
4个约束	绝对结构：Flack（1983），有755对Friedel对
主原子位置定位：结构-变量直接方法	绝对结构参数：负极0.02 (4)

水晶数据顶部

[输入（C₈H（H）₄O（运行）₄)（OH）（H）₂O） ]	V（V）= 3674.4 (7) Å^三
M（M）_第页= 313.96	Z轴= 16
正交晶系F类d日d日2	钼K（K）α辐射
一= 11.915 (1) Å	µ=2.58毫米^负极¹
b条= 42.205 (5) Å	T型=295千
c（c）= 7.3069 (9) Å	0.25×0.18×0.01毫米

数据收集顶部

Rigaku水银70 衍射仪	1888独立反射
吸收校正：多扫描 (CrystalClear公司; Rigaku Corporation&Molecular Structure Corporation，2000年）	1822次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.589,T型_最大值= 0.976	R（右）_整数= 0.033
6877次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.026	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²)=0.058	w个= 1/[σ²(F类_o个²)+（0.0306P（P）)²+ 12.2335P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.01	Δρ_最大值=1.11埃^负极^三
1888次反射	Δρ_最小值=负极0.94埃^负极^三
145个参数	绝对结构：Flack（1983），有755对Friedel对
4个约束	绝对结构参数：负极0.02 (4)

特殊细节顶部

几何图形所有的e.s.d.（除了两个l.s.平面之间的二面角中的e.s.d.）使用全协方差矩阵进行估计在估计e.s.d.的距离、角度时单独考虑和扭转角；e.s.d.细胞内参数之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似（各向同性）细胞e.s.d.的处理用于估计涉及l.s.的e.s.d。飞机。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类为设置为零消极的F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.并且与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²从统计上看大约是两倍大作为那些基于F类、和R（右）-基于所有数据的系数将为甚至更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
输入1	负极0.01299 (2)	0.242869 (6)	0.36134 (6)	0.01885 (9)
O1公司	负极0.1127 (3)	0.28021 (9)	0.4814 (5)	0.0320 (8)
氧气	负极0.0747 (3)	0.29779 (9)	0.7603 (4)	0.0326 (8)
臭氧	负极0.3573 (3)	0.28897 (8)	0.4431（5）	0.0270 (8)
O4号机组	负极0.2902 (4)	0.30068 (10)	0.1636 (5)	0.0471 (11)
O5公司	0.0639 (2)	0.23700 (7)	0.6166 (5)	0.0232 (6)
H5A型	0.122 (3)	0.2239（10）	0.618（10）	0.035*
O6公司	0.1346 (3)	0.27530 (10)	0.3254 (5)	0.0414 (10)
H6B型	0.152 (6)	0.2837 (16)	0.216 (5)	0.062*
H6A型	0.164 (6)	0.2810 (17)	0.432 (6)	0.062*
C1类	负极0.1654 (3)	0.33230 (10)	0.5537 (6)	0.0196 (9)
指挥与控制	负极0.2455 (3)	0.33447 (11)	0.4147 (6)	0.0207 (9)
C3类	负极0.2822 (4)	0.36434 (11)	0.3620 (8)	0.0302 (9)
H3级	负极0.3360	0.3662	0.2704	0.036*
补体第四成份	负极0.2405 (4)	0.39120 (12)	0.4425 (9)	0.0343 (12)
H4型	负极0.2653	0.4110	0.4040	0.041*
C5级	负极0.1613（4）	0.38890（11）	0.5818 (7)	0.0348 (11)
H5B型	负极0.1338	0.4071	0.6380	0.042*
C6级	负极0.1239 (4)	0.35947 (11)	0.6356 (7)	0.0284 (10)
H6C型	负极0.0703	0.3578	0.7276	0.034*
抄送7	负极0.1141 (3)	0.30111 (10)	0.6030 (7)	0.0212 (8)
抄送8	负极0.2991 (4)	0.30590 (11)	0.3295 (7)	0.0259 (10)

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
输入1	0.02296（13）	0.02252 (14)	0.01106 (13)	0.00047 (11)	0.00091 (16)	负极0.00076 (17)
O1公司	0.038 (2)	0.0265 (19)	0.032 (2)	0.0138 (15)	负极0.0075 (16)	负极0.0132 (15)
氧气	0.048 (2)	0.034 (2)	0.0162 (17)	0.0150（17）	负极0.0079（16）	负极0.0011 (14)
臭氧	0.0245 (17)	0.034 (2)	0.0225 (17)	负极0.0091 (14)	负极0.0019 (14)	0.0026 (14)
O4号机组	0.064 (2)	0.058 (3)	0.019 (2)	负极0.023 (2)	负极0.0018 (17)	负极0.0055 (16)
O5公司	0.0225 (14)	0.0346 (16)	0.0125 (14)	0.0079 (12)	负极0.0032（15）	负极0.0018 (17)
O6公司	0.045 (2)	0.056 (3)	0.023 (2)	负极0.0224 (19)	负极0.0046 (17)	0.0037 (17)
C1类	0.0168 (19)	0.025 (2)	0.017 (2)	负极0.0011 (16)	0.0003 (15)	0.0007 (15)
指挥与控制	0.018 (2)	0.026 (2)	0.018 (2)	负极0.0007（17）	0.0022 (15)	0.0044 (18)
C3类	0.030 (2)	0.035 (2)	0.026 (2)	0.0022 (19)	0.003（3）	0.012 (3)
补体第四成份	0.036 (3)	0.021 (2)	0.046 (3)	0.006 (2)	0.010 (2)	0.009 (2)
C5级	0.040 (3)	0.025 (2)	0.039（3）	负极0.0031 (19)	0.004 (2)	负极0.002 (2)
C6级	0.029 (2)	0.029 (2)	0.027 (3)	负极0.0036 (17)	负极0.002 (2)	负极0.0101 (19)
抄送7	0.0146（16）	0.026 (2)	0.023（2）	0.0026 (14)	0.004 (2)	0.002 (2)
抄送8	0.022 (2)	0.032 (2)	0.024 (3)	负极0.0010 (17)	负极0.0052 (19)	0.0022 (18)

几何参数（λ，º）顶部

In1-O5（五氧化二铟）^我	2.071 (3)	O6-H6B型	0.90 (5)
In1-O5（五氧化二铟）	2.093 (3)	O6-H6A型	0.89 (5)
铟-O3^ii（ii）	2.133 (3)	C1-C6号机组	1.385 (6)
In1-O2^我	2.140 (3)	C1-C2类	1.397 (6)
In1-O1型	2.159 (3)	C1-C7号机组	1.496 (6)
In1-O6	2.244 (4)	C2-C3型	1.389 (6)
O1至C7	1.252 (6)	C2-C8型	1.500 (6)
氧气-C7	1.250 (6)	C3-C4型	1.370 (7)
O2-In1型^三	2.140 (3)	C3-H3型	0.9300
臭氧-C8	1.297 (5)	C4-C5型	1.392（8）
O3-In1氧化物^ii（ii）	2.133 (3)	C4-H4型	0.9300
O4-C8型	1.237 (6)	C5至C6	1.377 (7)
O5-In1型^三	2.071 (3)	C5-H5B型	0.9300
O5-H5A型	0.89 (4)	C6-H6C型	0.9300

O5公司^我-In1-O5（五氧化二铟）	161.18 (2)	C6-C1-C2型	120.3 (4)
O5公司^我-铟-O3^ii（ii）	106.74 (13)	C6-C1-C7型	118.6 (4)
O5-In1-O3^ii（ii）	89.60 (13)	C2-C1-C7型	120.8 (4)
O5公司^我-In1-O2^我	100.03 (12)	C3-C2-C1	118.5 (4)
O5-In1-O2^我	89.92 (12)	C3-C2-C8型	118.7 (4)
臭氧^ii（ii）-In1-O2^我	86.85 (14)	C1-C2-C8型	122.7 (4)
O5公司^我-In1-O1型	83.70 (13)	C4-C3-C2型	121.2 (5)
O5-In1-O1	88.01 (12)	C4-C3-H3型	119.4
臭氧^ii（ii）-In1-O1型	86.99（15）	C2-C3-H3型	119.4
氧气^我-In1-O1型	173.51 (15)	C3-C4-C5型	120.2（5）
O5公司^我-In1-O6	83.02 (13)	C3-C4-H4型	119.9
O5-In1-O6	80.40 (13)	C5-C4-H4	119.9
臭氧^ii（ii）-In1-O6	169.97 (14)	C6-C5-C4	119.4 (5)
氧气^我-In1-O6	93.79 (16)	C6-C5-H5B型	120.3
O1-In1-O6	91.93 (16)	C4-C5-H5B型	120.3
C7-O1-In1型	144.1 (3)	C5-C6-C1	120.5 (5)
C7-O2-In1型^三	126.2 (3)	C5-C6-H6C	119.7
C8-O3-In1型^ii（ii）	123.7 (3)	C1-C6-H6C细胞	119.7
输入1^三-O5-In1型	126.35 (13)	O2-C7-O1型	124.7 (4)
输入1^三-O5-H5A型	118 (5)	O2-C7-C1	118.3 (4)
In1-O5-H5A	115（5）	O1-C7-C1	117.0 (4)
In1-O6-H6B	122 (5)	O4-C8-O3	125.1 (4)
In1-O6-H6A	112 (5)	O4-C8-C2型	120.9 (4)
H6B-O6-H6A型	126 (6)	O3-C8-C2型	113.9 (4)

O5公司^我-In1-O1-C7	负极134.5 (6)	C4-C5-C6-C1型	负极0.7 (8)
O5-In1-O1-C7	28.6 (6)	C2-C1-C6-C5型	0.3 (7)
臭氧^ii（ii）-In1-O1-C7	118.3 (6)	C7-C1-C6-C5	173.9 (4)
O6-In1-O1-C7	负极51.7 (6)	输入1^三-O2-C7-O1型	3.6 (7)
O5公司^我-In1-O5-In1型^三	74.5 (4)	输入1^三-O2-C7-C1	负极175.6 (3)
臭氧^ii（ii）-In1-O5-In1型^三	负极76.2 (2)	In1-O1-C7-O2	负极39.0 (9)
氧气^我-In1-O5-In1^三	负极163.1（2）	In1-O1-C7-C1	140.1 (4)
O1-In1-O5-In1型^三	10.8 (2)	C6-C1-C7-O2	30.6 (6)
O6-In1-O5-In1^三	103.1 (2)	C2-C1-C7-O2	负极155.9 (4)
C6-C1-C2-C3型	负极0.2 (7)	C6-C1-C7-O1	负极148.6 (4)
C7-C1-C2-C3	负极173.7 (4)	C2-C1-C7-O1型	24.9 (6)
C6-C1-C2-C8型	负极175.9 (4)	输入1^ii（ii）-O3-C8-O4型	负极18.7 (7)
C7-C1-C2-C8型	10.7 (6)	输入1^ii（ii）-O3-C8-C2型	158.2（3）
C1-C2-cc-C4	0.6（7）	C3-C2-C8-O4	64.0 (7)
C8-C2-C3-C4	176.4 (5)	C1-C2-C8-O4	负极120.4 (5)
C2-C3-C4-C5型	负极1.0 (8)	C3-C2-C8-O3	负极113.1 (5)
C3-C4-C5-C6型	1.1 (8)	C1-C2-C8-O3	62.6（6）

对称代码：（i）负极x个，负极年+1/2,z（z）负极1/2; （ii）负极x个负极1/2,负极年+1/2,z（z）; （iii）负极x个，负极年+1/2,z（z）+1/2。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-小时···A类	D类-小时	H（H）···A类	D类···A类	D类-小时···A类
O5-H5型A类···O4号机组^三	0.89 (4)	2.28 (2)	3.149 (5)	166 (5)
O6-H6型A类···O4号机组^iv（四）	0.89 (5)	1.96 (3)	2.838 (5)	169 (7)
O6-H6型B类···臭氧^v（v）	0.90 (5)	2.01 (3)	2.854 (5)	156 (6)

对称代码：（iii）负极x个，负极年+1/2,z（z）+1/2; （iv）x个+1/2,年，z（z）+1/2; （v）x个+1/2,年，z（z）负极1/2.

实验细节

水晶数据
化学配方	[输入（C₈H（H）₄O（运行）₄)（OH）（H）₂O） ]
M（M）_第页	313.96
晶体系统，空间组	正交晶系F类d日d日2
温度（K）	295
一，b条，c（c）(Å)	11.915 (1), 42.205 (5), 7.3069 (9)
V（V）（Å）^三)	3674.4 (7)
Z轴	16
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米^负极¹)	2.58
晶体尺寸（mm）	0.25 × 0.18 × 0.01

数据收集
衍射仪	Rigaku水银70 衍射仪
吸收校正	多扫描 (CrystalClear公司; Rigaku Corporation&Molecular Structure Corporation，2000年）
T型_最小值，T型_最大值	0.589, 0.976
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	6877, 1888, 1822
R（右）_整数	0.033
（罪θ/λ)_最大值（Å）^负极¹)	0.649

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.026、0.058、1.01
反射次数	1888
参数数量	145
约束装置数量	4
氢原子处理	通过独立和约束精化的混合物处理的H原子
	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0306P（P）)²+ 12.2335P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）^负极^三)	1.11,负极0.94
绝对结构	Flack（1983），755对Friedel
绝对结构参数	负极0.02 (4)

计算机程序：CrystalClear公司（Rigaku公司和分子结构公司，2000),CrystalClear公司，SHELXTL公司（谢尔德里克，1997），SHELXTL公司和钻石（勃兰登堡，2005年）。

选定的几何参数（Å，º）顶部

In1-O5（五氧化二铟）^我	2.071 (3)	In1-O6	2.244 (4)
In1-O5（五氧化二铟）	2.093 (3)	O1-C7型	1.252 (6)
铟-O3^ii（ii）	2.133 (3)	氧气-C7	1.250 (6)
In1-O2^我	2.140 (3)	臭氧层-8	1.297 (5)
In1-O1型	2.159 (3)	O4-C8型	1.237 (6)

O5公司^我-铟-O3^ii（ii）	106.74 (13)	氧气^我-In1-O1型	173.51 (15)
O5-In1-O3^ii（ii）	89.60（13）	O5公司^我-In1-O6元素	83.02 (13)
O5-In1-O2^我	89.92 (12)	O5-In1-O6	80.40 (13)
臭氧^ii（ii）-In1-O2^我	86.85 (14)	氧气^我-In1-O6	93.79 (16)
O5公司^我-In1-O1型	83.70 (13)	O1-In1-O6	91.93 (16)
O5-In1-O1	88.01 (12)	输入1^三-O5-In1型	126.35 (13)
臭氧^ii（ii）-In1-O1型	86.99 (15)

对称代码：（i）负极x个，负极年+1/2,z（z）负极1/2; （ii）负极x个负极1/2,负极年+1/2,z（z）; （iii）负极x个，负极年+1/2,z（z）+1/2.

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-小时···A类	D类-小时	H（H）···A类	D类···A类	D类-小时···A类
O5-H5A··O4^三	0.89 (4)	2.28（2）	3.149 (5)	166 (5)
O6-H6A···O4^iv（四）	0.89（5）	1.96 (3)	2.838 (5)	169 (7)
O6-H6B···O3^v（v）	0.90 (5)	2.01 (3)	2.854（5）	156（6）

对称代码：（iii）负极x个，负极年+1/2,z（z）+1/2; （iv）x个+1/2,年，z（z）+1/2; （v）x个+1/2,年，z（z）负极1/2.

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聚[aqua­（μ三-苯-1,2-二羧基原子）（μ2-氢化铟（III）]

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