帕特里克·波拉科夫斯基
人员信息
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2010 – 2019
2016 【c4】 乌韦·施罗德 , 米兰佩西奇 , 托尼·申克 , 哈利德·穆拉奥斯马诺维奇 , 斯特凡·斯莱萨泽克 , 约翰内斯·奥克 , 克劳迪娅·里希特 , 叶卡捷琳娜·尤丘克 , K.Khullar公司 , 约翰内斯·米勒 , 帕特里克·波拉科夫斯基 , E.D.格里姆利 , J.M.勒博 , 斯特凡·弗拉乔夫斯基 , S.詹森 , 萨宾·科洛丁斯基 , 拉尔夫·范·本特姆 , 阿尔弗雷德·科什 , 克里斯托弗·库内斯 , 托马斯·米科拉吉克 :
场循环对基于HfO2的非易失性存储设备的影响。 ESSDERC公司 2016 : 364-368 【c3】 温克·温瑞奇(Wenke Weinreich) , 康拉德·塞德尔 , 帕特里克·波拉科夫斯基 , 马克西米利安·德雷舍尔 , A.Gummenscheimer公司 , 马克·诺兰 , L.程 , D.H.特里约索 :
掺镧氧化锆基BEoL去耦电容器。 ICICDT公司 2016 : 1-4 2014 【c2】 D.H.特里约索 , 温克·温瑞奇(Wenke Weinreich) , 康拉德·塞德尔 , 马克·诺兰 , 帕特里克·波拉科夫斯基 , D.乌特斯 , 苏珊·奥西克 , K.迪特马尔 , M.Weisheit先生 , M.Licbau先生 , R.福克斯 :
用于BEOL兼容MIM的ALD Ta2O5和Hf掺杂Ta2O5。 ICICDT公司 2014 : 1-4 [c1] 温克-温雷希 , 康拉德·塞德尔 , 帕特里克·波拉科夫斯基 , 斯特凡·里德尔 , 卢兹·王尔德 , 迪娜·特里约索 , 马克·诺兰 :
用于BEoL设备应用的ALD ZrO2工艺。 ICICDT公司 2014 : 1-4
合著者索引
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