本文描述了一种根据德拜-谢勒强度确定细胞参数的程序，该程序已成功地用于分析抵抗先前攻击方法的三斜相位。它最大限度地减少了观察到的和计算出的粉末图案轮廓之间的差异，新颖性的主要因素是一些新的策略，以避免陷入虚假的局部极小值，同时将精细化引导到正确的方向。需要一个细胞中原子分布的初步模型来计算强度。到目前为止，该方法仅适用于分子晶体，其试验分子坐标可以借助于能量最小化算法生成。除了对虚假极小值的区分之外，该程序还提供了这样的优点，即不需要临时分配反射，反射的重叠，即使在严重的情况下，也不会引起特别的麻烦。
