The three-dimensional hydrogen-bonded structures in the ammonium and sodium salt hydrates of 4-amino­phenyl­arsonic acid

Smith, G.; Wermuth, U.D.

doi:10.1107/S2053229614014867

4-氨基苯基胂酸铵盐和钠盐水合物中的三维氢键结构

G.史密斯和U.D.Wermuth公司

4-氨基苯基胂酸两种水合盐的结构(第页-胂酸），即4-氨基苯基胂酸铵一水合物，NH₄⁺·C类₆H（H）₇作为NO_三⁻·H（H）₂O、（I）和一维配位聚合物链-聚[[（4-氨基苯基胂酸盐-κO（运行）)双水钠]-μ-水]，[Na（C₆H（H）₇作为NO_三)（H）₂O）_三]_n个，（II），已确定。在铵盐的结构中，（I），铵阳离子、胂化阴离子和水分子通过谱间N-H相互作用

O和纵火和水O-H

O氢键，使常见的二维层平行于（010）。这些层通过桥接氢键相互作用延伸到三维，包括对位-胺基团既是供体又是受体。在钠盐的结构中，（II），Na⁺阳离子由五个O原子供体配位，一个来自单个单齿胂酸配体，两个来自单齿水分子，两个来源桥联水分子，形成了非常扭曲的方锥配位环境。水桥产生一维链，沿着c（c）和广泛的链间O-H

O和N-H

O氢键相互作用将这些链连接起来，形成一个整体的三维结构。这里报道的两种结构是第一个报道的第页-胂酸。

关键词：晶体结构；第页-胂酸盐；氢键；4-氨基苯胂酸铵；一维配位聚合物；4-氨基苯胂酸钠；原子基；药用化合物.

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支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S2053229614014867/ky3057sup1.cif 包含全局、I、II数据块
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S2053229614014867/ky3057Isup2.hkl 包含数据块I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S2053229614014867/ky3057IIsup3.hkl 包含数据块II
	化学标记语言（CML）文件https://doi.org/10.107/S2053229614014867/ky3057Isup4.cml 标题化合物的CML文件

CCDC参考：1009992；1009993

介绍顶部

4-氨基苯基胂酸(第页-胂酸）具有悠久的历史兽医应用中的抗蠕虫（Thomas，1905；Steverding，2010年）和更常见的是作为以前使用的抗梅毒药物（埃利希&伯特海姆，1907年；伯克，1925），用作水合钠时盐，在各种常见名称，主要是atoxyl（Jolliffe，1993；O'Neil，2001; 博世公司&Rosich，2008年）。母体酸（Shimada，1961年；Nuttall&Hunter，1996）已确认存在Ph–NH（相对湿度）_三⁺–AsO公司_三H（H）^-固体中的两性离子。这些结构是在晶体学文献中只有少数几个例子以任何形式涉及这种酸，包括与银、锌的络合物，镉和铅（Lesikar-Parrish等。，2013），铀（阿德拉尼et（等）阿尔。，2012）和混合有机-无机盐的钠盐与砷化物阴离子形成的聚氧钒酸盐簇合物（Breen&施密特，2008）。类似地，涉及苯胂酸的结构为不常见，仅限于母体酸[Shimada，1960；Lloydet（等）阿尔。，2008（包括4-氟-，4-氟-3-硝基-，3-氨基-4-羟基-和3-氨基-4-甲氧基-衍生物）]和盐加合物苯胂酸胍-胍-水（1/1/2）（Smith&Wermuth，2010),双（胍基）苯胂酸盐-水（1/2）（拉萨姆等。，2011年）和4-硝基苯基胂酸铵（阳等。, 2002).

我们的1:1化学计量反应第页-含任一铵的胂酸乙醇水溶液中的碳酸盐或碳酸钠生成铵4-氨基苯基胂酸一水合物，（I），一维配位聚合物链-聚[[（4-氨基苯基胂酸盐-κO（运行）)二水钠]-µ-水]，（二），报告了其结构和氢键封装方式此处。三水合物络合物（II）是药物化合物atoxy（Bosch&Rosich，2008）。

实验顶部

合成和结晶顶部

标题化合物是通过在回流下加热10分钟，4-氨基苯基胂酸（1 mmol，217 mg）和碳酸铵合成的（1 mmol，96 mg）[对于（I）]或碳酸钠（1 mmol106 mg）[针对（II）]in50%含水乙醇（30 ml）。溶液的室温蒸发提供了（I）和（II）两种无色针头，样本适合进行了X射线分析。

精炼顶部

总结了晶体数据、数据收集和结构细化的细节在表1中。参与正式氢键相互作用的氢原子是差分法定位及其位置和各向同性位移允许使用参数，限制N-H和O-H键的长度分别为0.88±0.020和0.94±0.02ΩU型_{国际标准化组织}（H）=1.2U型_当量（N）或1.5U型_当量（O） ●●●●。芳香族H原子包括在计算位置进行细化（C-H=0.95Ω），并被视为骑行，带U型_{国际标准化组织}（H） =1.2U型_当量（C） ●●●●。Flack结构参数（Flack，1983），尽管与两者无关分子的报告的结构，（I）为0.002（16）（937对Friedel），（15）为0.020（15）（991 Friedel对）用于（II）。

结果和讨论顶部

在铵盐（I）的结构中，铵阳离子、纵火阴离子和水分子（图1）通过谱间N-H··O和砷化物和水O-H··O氢键（表2），给出二维平行于（010）的层。这些层扩展为三层通过氢键相互作用的尺寸对位-相关胺基团兼作供体和受体（图2）。在相互作用中，有一些扩展的循环图案，例如图形集R（右）_三^三（10）（埃特等。，1990）（一铵和两个砷酸盐物种）和R（右）₅⁴（12）（两个铵和两个砷酸盐物种和水分子）。二维层的形成羧酸铵盐与观察结果一致（奥登达尔等。，2010），其中苯甲酸铵是铵的示例和剑桥结构数据库中的铵盐结构（5.34版；Allen，2002），以及4-硝基苯甲酸铵盐和2,4-二氯苯甲酸（Smith，2014）一). 从两个扩展-进入之内三维结构只存在于氢键相互作用中通过立体化学定位的供体/受体基团在层之间，例如如（I）和4-硝基邻氨基苯甲酸铵一水合物结构所示（史密斯，2014b条).

在钠盐的配位聚合物结构中第页-砷化物，（II），碱性NaO₅复合重复单元（图3）由一个单齿砷化物O原子供体和两个单齿水O组成原子（O1W公司和O3W公司)两个来自桥接水分子（氧气W公司和O2W公司^我)[对称码：（i）-x个+1/2,年，z（z）-1/2）]（表3）。复杂的立体化学是非常扭曲的正方形金字塔形，Na-O键长范围为2.376（4）–2.482（5）℃。这个单桥链使一维链聚合物结构延伸沿着晶体学c（c）方向（图4），Na1··Na1^我分离4.452（3）。与钠盐中观察到的不同具有配位缔合的芳香苯甲酸第页-相关的取代基，例如4-硝基邻氨基苯甲酸钠二水合物（Smith，2013），无链间或层间聚合物键接延伸通过4-氨基的与格相互作用存在于（II）中。然而，在晶体中，存在广泛的氢键关联（表4），涉及O1-H··O中的配位水分子和胂酸基团与主要是纵火O原子受体，只有一个例外（氧气W公司-H···O1W公司)，并连接到单胺N原子受体（臭氧W公司-H···N4）。胺H原子形成N-H··O氢键到水分子（O3W公司)以及胂化O-原子受体（表4). 这些相互作用形成了复杂链之间的网络链接，生成三维框架结构（图5）。

（I）和（II）中的单阴离子砷酸盐基团在以下方面相似离域As-O11和As-O12键，它们基本相等[1.672（3）和1.677（3）Å在（I）中，以及1.670（3）和1.659（3）Å在（II）中]。这些值与两性离子母体酸（Nuttall&Hunter，1996）和1.655（3）以及1.673（3）英寸苯胂酸铵（阳等。, 2002). As-O13（H）债券（一）和（II）分别为1.746（3）和1.745（4）Ω，可以是与母体酸中的1.737（8）Å和铵中的1.732（2）Å相比苯胂酸盐。

此处报告的工作提供了前两个三维示例盐中的氢键结构第页-胂酸（历史上重要的药物砷（atoxyl），即。一个水合铵盐和配位聚合物钠盐三水合物。

相关文献顶部

有关相关文献，请参阅：Adelani等。(2012);艾伦（2002）；博世和罗西奇（2008）；Breen&Schmitt（2008）；伯克（1925）；埃利希和伯特海姆（1907）；埃特等。(1990);Flack（1983）；乔利夫（1993）；拉萨姆等。(2011);Lesikar-Parrish，Neilson&Richards（2013）；劳埃德等。(2008);Nuttall和Hunter（1996）；奥尼尔（2001）；登代耳等。(2010);岛田（1960、1961）；史密斯（2013年、2014年一, 2014b条);Smith&Wermuth（2010）；史蒂文丁（2010）；托马斯（1905）；杨等。(2002).

计算详细信息顶部

对于这两种化合物，数据收集：CrysAlis专业（安捷伦，2013）；单元格细化：CrysAlis专业（安捷伦，2013）；数据缩减：CrysAlis专业（安捷伦，2013）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）。用于优化结构的程序：货架xl97（Sheldrick，2008），用于（I）；货架xl97（谢尔德里克，2008）WinGX公司（Farrugia，2012），用于（II）。对于这两种化合物，分子图形：柏拉图式的（斯佩克，2009）；用于准备出版材料的软件：柏拉图式的（斯佩克，2009）。

数字顶部

	图1。分子构型和原子命名方案第页-砷化阴离子、铵离子和水分子（I）中的溶剂化。谱间氢键如虚线所示。位移椭球是在50%的概率水平上绘制的。
	图2。（I）的三维氢键框架结构，向下查看c（c）-单元单元的轴向，显示以虚线表示的氢键关联。非缔合氢原子具有已被省略。对称代码见表2。
	图3。复杂单元的分子构型和原子命名方案第（二）条。位移椭球是在50%的概率水平上绘制的。[对称代码：（i）-x个+1/2,年，z（z）-1/2.]
	图4。一维配位聚合物链（II），沿延伸c（c）.[对称代码：（i）-x个+1/2,年，z（z）-1/2.]
	图5。三维结构中的氢键延伸（二）单位单元格中，向下查看c（c）以虚线表示氢键行。省略了非缔合氢原子。有关对称代码，请参见表4。

（一） 4-氨基苯胂酸铵一水合物顶部

水晶数据顶部

全日空航空公司₄⁺·C类₆H（H）₇阿斯诺_三⁻·H（H）₂O（运行）	F类(000) = 512
M（M）_第页= 252.10	D类_x个=1.610毫克⁻^三
正交各向异性，P（P）c（c）一2₁	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：P 2c-2ac	1760次反射的细胞参数
一= 11.4287 (18) Å	θ= 3.8–28.7°
b条= 12.068 (2) Å	µ=3.26毫米⁻¹
c（c）= 7.5427 (13) Å	T型=200 K
V（V）= 1040.3 (3) Å^三	板，无色
Z轴= 4	0.35×0.35×0.08毫米

数据收集顶部

牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪	1506独立反射
辐射源：增强（Mo）X射线源	1385次反射我>2个σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.031
探测器分辨率：16.077像素mm^-1	θ_最大值= 26.0°,θ_最小值= 3.4°
ω扫描	小时=−14→14
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）	k个=−14→14
T型_最小值= 0.670,T型_最大值= 0.980	我=−9→5
3581次测量反射

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：根据邻近站点推断
R（右）[F类²>2个σ(F类²)] = 0.027	通过独立和约束精化的混合物处理的H原子
水风险(F类²) = 0.067	w个= 1/[σ²(F类_哦²) + (0.0368P（P）)²] 哪里P（P）= (F类_哦²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.04	(Δ/σ)_最大值= 0.001
1506次反射	Δρ_最大值=0.33埃⁻^三
145个参数	Δρ_最小值=−0.55埃⁻^三
10个约束	绝对结构：Flack（1983），937对Friedel对
主原子位置定位：结构-变量直接方法	绝对结构参数：0.002（17）

水晶数据顶部

全日空航空公司₄⁺·C类₆H（H）₇作为NO_三⁻·H（H）₂O（运行）	V（V）= 1040.3 (3) Å^三
M（M）_第页= 252.10	Z轴= 4
正交各向异性，P（P）c（c）一2₁	钼K（K）α辐射
一= 11.4287 (18) Å	µ=3.26毫米⁻¹
b条= 12.068 (2) Å	T型=200 K
c（c）= 7.5427 (13) Å	0.35×0.35×0.08毫米

数据收集顶部

牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪	1506独立反射
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）	1385次反射我>2个σ(我)
T型_最小值= 0.670,T型_最大值= 0.980	R（右）_整数= 0.031
3581次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²>2个σ(F类²)] = 0.027	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²) = 0.067	Δρ_最大值=0.33埃⁻^三
S公司= 1.04	Δρ_最小值=−0.55埃⁻^三
1506次反射	绝对结构：Flack（1983），937对Friedel对
145个参数	绝对结构参数：0.002（17）
10个约束

特殊细节顶部

几何图形粘合距离、角度等.已使用四舍五入计算分数坐标。所有su都是根据（完整）方差-方差矩阵距离、角度和扭转角的估计

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类设置为零消极的F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.并且与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²从统计上看大约是两倍大作为那些基于F类、和R（右）-基于所有数据的系数将为甚至更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数（Å²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_当量
作为1	0.37887 (3)	0.69813（3）	0.83352 (9)	0.0184 (1)
O11号机组	0.4879 (2)	0.6316 (2)	0.7310 (4)	0.0260 (9)
O12号机组	0.2461 (2)	0.6448 (2)	0.7922 (4)	0.0299 (9)
第13页	0.4115 (3)	0.6822 (3)	1.0582 (4)	0.0285 (10)
4号机组	0.3830 (3)	1.2004 (3)	0.7348 (6)	0.0287 (14)
C1类	0.3801 (3)	0.8535 (3)	0.7905 (5)	0.0192 (13)
指挥与控制	0.4733 (3)	0.9058 (4)	0.7062（5）	0.0257 (12)
C3类	0.4747 (3)	1.0208 (3)	0.6881 (6)	0.0260 (14)
补体第四成份	0.3824 (3)	1.0852 (4)	0.7514 (6)	0.0210 (11)
C5级	0.2882（3）	1.0317 (3)	0.8357 (10)	0.0397 (14)
C6级	0.2862 (3)	0.9167 (3)	0.8519 (9)	0.0364 (16)
O1瓦	0.3081 (3)	0.3203 (3)	1.0573 (5)	0.0356 (11)
N1型	0.1296（3）	0.4874 (3)	0.9783 (6)	0.0267 (12)
氢气	0.53630	0.86290	0.66090	0.0310*
H3级	0.53930	1.05580	0.63190	0.0310*
H5型	0.22540	1.07440	0.88200	0.0480美元*
H6型	0.22080	0.88120	0.90490	0.0440*
H13型	0.347 (3)	0.676 (4)	1.136 (6)	0.0430*
H41型	0.446（3）	1.223 (4)	0.679 (6)	0.0340*
H42型	0.319 (3)	1.220 (4)	0.681 (6)	0.0340*
H11瓦	0.374 (3)	0.328 (5)	1.128 (7)	0.0540*
高12瓦	0.344 (5)	0.298 (4)	0.953 (5)	0.0540*
甲型H1A	0.168 (4)	0.544 (3)	0.929 (6)	0.0320*
H1B型	0.081 (3)	0.455 (3)	0.905 (5)	0.0320*
H1C型	0.083 (4)	0.519 (4)	1.056 (5)	0.0320*
甲型H1D	0.182 (3)	0.440 (3)	1.019 (6)	0.0320*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
阿斯1	0.0151 (2)	0.0190 (2)	0.0212 (2)	−0.0012 (1)	−0.0033 (3)	0.0012 (3)
O11号机组	0.0264 (15)	0.0247 (15)	0.0270 (15)	0.0031 (13)	0.0003 (12)	−0.0028（12）
O12号机组	0.0246 (13)	0.0282 (14)	0.037 (2)	−0.0111 (12)	−0.0114 (13)	0.0069 (14)
O13号机组	0.0193 (14)	0.046 (2)	0.0202 (16)	−0.0035 (15)	−0.0036 (13)	0.0061 (15)
4号机组	0.026（2）	0.023 (2)	0.037 (3)	−0.0002 (16)	0.0050 (16)	0.0062 (16)
C1类	0.0217 (18)	0.0179 (19)	0.018 (3)	−0.0023 (15)	−0.0028 (15)	−0.0024（15）
指挥与控制	0.022 (2)	0.028 (2)	0.027 (2)	0.0048 (19)	0.0086 (17)	0.0001（19）
C3类	0.019 (2)	0.028 (2)	0.031 (3)	−0.0003 (19)	0.0076 (18)	0.011 (2)
补体第四成份	0.023 (2)	0.021 (2)	0.0190 (18)	−0.0007 (18)	0.0011 (15)	−0.0011（17）
C5级	0.030 (2)	0.028 (2)	0.061 (3)	0.0056 (18)	0.023 (3)	0.003 (3)
C6级	0.0213 (17)	0.026 (2)	0.062 (4)	−0.0003 (17)	0.020 (3)	0.006 (3)
O1瓦	0.044 (2)	0.0333 (18)	0.0295 (18)	0.0020（17）	−0.0048 (16)	−0.0056 (15)
N1型	0.025 (2)	0.027 (2)	0.028 (2)	−0.0065 (18)	0.0053 (15)	−0.0051 (17)

几何参数（λ，º）顶部

As1-O11型	1.672（3）	N1-H1D型	0.88 (4)
As1-O12型	1.677 (2)	N1-H1A型	0.89 (4)
As1-O13型	1.746 (3)	C1-C6号机组	1.396 (5)
As1-C1	1.903 (4)	C1-C2类	1.392 (5)
2013年1月13日	0.95 (4)	C2-C3型	1.395 (6)
O1W-H12W型	0.93 (4)	C3-C4型	1.395 (5)
O1W-H11W型	0.93 (4)	C4-C5型	1.407 (6)
N4-C4型	1.396 (6)	C5至C6	1.393 (5)
N4-H42型	0.87 (4)	C2-H2型	0.9500
N4-H41型	0.88（4）	C3-H3型	0.9500
N1-H1C型	0.88 (4)	C5-H5型	0.9500
N1-H1B型	0.88 (4)	C6-H6型	0.9500

O11-As1-O12型	113.83 (13)	C2-C1-C6型	119.5 (4)
O11-As1-O13型	103.70 (15)	As1-C1-C2类	122.0 (3)
O11-As1-C1	112.88 (14)	C1-C2-C3	120.3 (4)
O12-As1-O13型	109.35 (16)	C2-C3-C4型	120.8 (4)
O12-As1-C1	110.67 (13)	编号4-C4-C3	121.4 (4)
O13-As1-C1型	105.81（17）	编号4-C4-C5	120.1 (4)
As1-O13-H13	116 (2)	C3-C4-C5型	118.5 (4)
H11W-O1W-H12W型	99 (4)	C4-C5-C6	120.6 (4)
C4-N4-H41型	111 (3)	C1-C6-C5型	120.2 (4)
C4-N4-H42型	108 (3)	C1-C2-羟基	120
H41-N4-H42型	113 (4)	C3二氧化碳	120
H1A-N1-H1B型	113 (4)	C2-C3-H3型	120
H1A-N1-H1C型	104 (4)	C4-C3-H3型	120
H1C-N1-H1D型	117（4）	C4-C5-H5型	120
H1A-N1-H1D型	108 (4)	C6-C5-H5型	120
H1B-N1-H1C	103 (4)	C1-C6-H6型	120
H1B-N1-H1D型	111 (3)	C5-C6-H6	120
As1-C1-C6	118.4 (3)

O11-As1-C1-C2	−9.6（4）	As1-C1-C6-C5	174.9 (5)
O11-As1-C1-C6	172.8 (4)	C2-C1-C6-C5型	−2.8 (8)
O12-As1-C1-C2	−138.5 (3)	C1-C2-cc-C4	−1.0 (6)
O12-As1-C1-C6	44.0 (4)	C2-C3-C4-N4型	179.7（4）
O13-As1-C1-C2型	103.1 (3)	C2-C3-C4-C5型	0.6（7）
O13-As1-C1-C6	−74.4 (4)	N4-C4-C5-C6	179.5 (5)
As1-C1-C2-C3	−175.5 (3)	C3-C4-C5-C6型	−1.4 (8)
C6-C1-C2-C3型	2.0 (6)	C4-C5-C6-C1	2.5 (9)

氢键几何结构（Å，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N1-H1型A类···O12号机组	0.89 (4)	1.83 (4)	2.711 (5)	170 (4)
N1-H1型B类···O11号机组^我	0.88 (4)	1.99 (4)	2.857 (5)	173 (4)
N1-H1型C···O11号机组^ii（ii）	0.88（4）	2.06 (4)	2.909 (5)	162 (4)
N1-H1型D类···O1公司W公司	0.88 (4)	2.06 (4)	2.930 (5)	168 (4)
N4-H41··O13^三	0.88 (4)	2.19 (4)	3.049 (5)	167 (4)
N4-H42···O1W公司^iv（四）	0.87（4）	2.11 (4)	2.942 (5)	161 (4)
O13-H13···O12^ii（ii）	0.95 (4)	1.63 (4)	2.562（4）	167 (4)
O1公司W公司-第11页W公司···O11号机组^v（v）	0.93 (4)	1.83 (4)	2.737 (4)	167 (5)
O1公司W公司-H12型W公司···4号机组^{不及物动词}	0.93 (4)	2.07 (4)	2.957 (6)	159 (5)

对称代码：（i）x个−1/2,−年+1,z（z）; （ii）−x个+1/2,年，z（z）+1/2; （iii）−x个+1,−年+2,z（z）−1/2; （iv）−x个+1/2,年+1,z（z）−1/2; （v）−x个+1,−年+1,z（z）+1/2; （vi）x个，年−1,z（z）.

（二）链-聚[[（4-氨基苯基胂酸盐-κO（运行）)二水钠]-µ-水]顶部

水晶数据顶部

[钠（C₆H（H）₇作为NO_三)（H）₂O）_三]	F类(000) = 592
M（M）_第页= 293.08	D类_x个=1.770毫克⁻^三
正交各向异性，P（P）c（c）一2₁	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：P 2c-2ac	1282次反射的单元参数
一= 10.4069 (13) Å	θ=3.9–28.4°
b条= 13.6410 (17) Å	µ=3.14毫米⁻¹
c（c）= 7.7494 (9) Å	T型=200 K
V（V）= 1100.1 (2) Å^三	块，无色
Z轴= 4	0.25×0.20×0.18毫米

数据收集顶部

牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪	1637次独立反射
辐射源：增强（Mo）X射线源	1529次反射我>2个σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.037
探测器分辨率：16.077像素mm^-1	θ_最大值= 26.0°,θ_最小值= 3.6°
ω扫描	小时=−11→12
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）	k个=−8→16
T型_最小值= 0.816,T型_最大值= 0.980	我=−9→9
2790次测量反射

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：根据邻近站点推断
R（右）[F类²>2个σ(F类²)] = 0.033	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²) = 0.073	w个= 1/[σ²(F类_哦²)+（0.0311P（P）)²] 哪里P（P）= (F类_哦²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.00	(Δ/σ)_最大值< 0.001
1637次反射	Δρ_最大值=0.67埃⁻^三
163个参数	Δρ_最小值=−0.52埃⁻^三
10个约束	绝对结构：Flack（1983），991 Friedel对
主原子位置定位：结构-变量直接方法	绝对结构参数：0.020（15）

水晶数据顶部

[钠（C₆H（H）₇作为NO_三)（H）₂O）_三]	V（V）= 1100.1 (2) Å^三
M（M）_第页= 293.08	Z轴= 4
正交各向异性，P（P）c（c）一2₁	钼K（K）α辐射
一=10.4069（13）Å	µ=3.14毫米⁻¹
b条= 13.6410 (17) Å	T型=200 K
c（c）= 7.7494 (9) Å	0.25×0.20×0.18毫米

数据收集顶部

牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪	1637次独立反射
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）	1529次反射我>2个σ(我)
T型_最小值=0.816，T型_最大值= 0.980	R（右）_整数= 0.037
2790次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²>2个σ(F类²)]=0.033	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²) = 0.073	Δρ_最大值=0.67埃⁻^三
S公司= 1.00	Δρ_最小值=−0.52埃⁻^三
1637次反射	绝对结构：Flack（1983），991 Friedel对
163个参数	绝对结构参数：0.020（15）
10个约束

特殊细节顶部

几何图形粘合距离、角度等.已使用四舍五入计算分数坐标。所有su都是根据（完整）方差-方差矩阵距离、角度和扭转角的估计

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数（Å²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_当量
作为1	0.61030 (4)	0.28209 (3)	0.83909 (8)	0.0143 (1)
Na1号机组	0.35537（18）	0.40646 (15)	0.7093 (3)	0.0215 (6)
O1瓦	0.4553 (3)	0.5655 (3)	0.7299 (5)	0.0224 (11)
O2瓦	0.1892（3）	0.4587 (3)	0.9084 (5)	0.0227 (11)
O3瓦	0.2208 (3)	0.2715 (3)	0.6391 (5)	0.0210 (12)
O11号机组	0.7486 (3)	0.3375 (2)	0.8884 (4)	0.0201（11）
O12号机组	0.4826 (3)	0.3308 (3)	0.9344 (4)	0.0211 (11)
O13号机组	0.5776 (4)	0.2987 (3)	0.6202 (5)	0.0247 (11)
4号机组	0.6110 (4)	−0.1607 (4)	0.9238 (6)	0.0230 (17)
C1类	0.6174（4）	0.1445 (4)	0.8751 (6)	0.0177 (16)
指挥与控制	0.7147 (5)	0.0870 (4)	0.8007 (6)	0.0193 (16)
C3类	0.7128 (4)	−0.0130 (4)	0.8161（7）	0.0193 (16)
补体第四成份	0.6126 (4)	−0.0592 (4)	0.9063 (7)	0.0173 (16)
C5级	0.5199 (4)	−0.0018 (4)	0.9866 (6)	0.0190 (17)
C6级	0.5207 (4)	0.0982（4）	0.9698 (6)	0.0187（16）
氢气	0.78250	0.11780	0.73920	0.0230*
H3级	0.77930	−0.05120	0.76570	0.0240*
H5型	0.45510	−0.03230	1.05410	0.0230*
H6型	0.45510	0.13620	1.02280	0.0230*
H11瓦	0.389 (4)	0.597 (4)	0.786 (6)	0.0340*
高12瓦	0.481 (5)	0.602 (3)	0.633（5）	0.0340*
H13型	0.647 (4)	0.300 (4)	0.546 (6)	0.0370*
H21瓦	0.122 (4)	0.451 (4)	0.830 (6)	0.0340*
H22瓦	0.213 (5)	0.5246 (18)	0.918（7）	0.0340*
H31瓦	0.151 (4)	0.286 (4)	0.569 (6)	0.0320*
高32W	0.272 (5)	0.224 (3)	0.589 (8)	0.0320*
H41型	0.642 (4)	−0.183 (4)	0.828 (4)	0.0270*
H42型	0.540 (3)	−0.186 (4)	0.962 (7)	0.0270*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
作为1	0.0129（2）	0.0163 (2)	0.0138 (2)	−0.0013（2）	−0.0018 (3)	0.0010 (3)
Na1号机组	0.0219 (10)	0.0212 (11)	0.0215 (10)	0.0004 (9)	−0.0025 (9)	0.0008 (10)
O1瓦	0.0197 (19)	0.025 (2)	0.0225（19）	0.0030 (16)	0.0018 (18)	0.0004 (18)
O2瓦	0.027 (2)	0.0199 (19)	0.0212 (18)	−0.0005 (17)	−0.0030 (15)	0.0009 (17)
O3瓦	0.019 (2)	0.022 (2)	0.022 (2)	−0.0005 (16)	−0.0007 (15)	−0.0005 (17)
第11页	0.0136 (17)	0.0247 (19)	0.022 (2)	−0.0058 (15)	−0.0053 (14)	0.0045 (16)
O12号机组	0.0182 (19)	0.026 (2)	0.0190 (19)	0.0023（16）	0.0019 (15)	0.0000 (17)
O13号机组	0.020 (2)	0.038 (2)	0.0160 (19)	−0.0033 (17)	−0.0016 (16)	0.0088 (18)
4号机组	0.024 (3)	0.018 (3)	0.027 (3)	−0.0016（19）	0.007 (2)	0.003 (2)
C1类	0.016 (2)	0.013 (2)	0.024 (4)	−0.0008 (18)	−0.004 (2)	0.003 (2)
指挥与控制	0.014 (2)	0.024 (3)	0.020 (3)	−0.003 (2)	0.0046 (19)	0.001 (2)
C3类	0.019 (2)	0.021 (3)	0.018 (3)	0.0061 (19)	0.002 (2)	−0.002 (3)
补体第四成份	0.021 (3)	0.016 (3)	0.015 (2)	0.003 (2)	−0.0034 (19)	0.002 (2)
C5级	0.014 (3)	0.023（3）	0.020 (3)	0.002 (2)	0.004 (2)	0.002 (3)
C6级	0.015 (3)	0.023 (3)	0.018（2）	0.007 (2)	0.005 (2)	0.001 (2)

几何参数（λ，º）顶部

钠-O1W	2.411 (4)	O13-H13型	0.92（4）
Na1-O2W钠	2.425 (4)	N4-C4型	1.391 (8)
钠-O3W	2.376 (4)	N4-H42型	0.87 (4)
钠-O12	2.421 (4)	N4-H41型	0.87 (4)
Na1-O2W钠^我	2.482 (5)	C1-C6号机组	1.397 (6)
As1-O11型	1.670 (3)	C1-C2类	1.405 (7)
As1-O12型	1.659 (3)	C2-C3型	1.370 (8)
As1-O13型	1.745 (4)	C3-C4型	1.405 (7)
As1-C1	1.899 (5)	C4-C5型	1.390 (7)
O1W-H11W型	0.92（5）	C5至C6	1.370 (8)
O1W-H12W型	0.94 (4)	C2-H2型	0.9500
O2W-H21W型	0.93 (4)	C3-H3型	0.9500
O2W-H22W型	0.94 (3)	C5-H5型	0.9500
O3W-H31W型	0.93 (4)	C6-H6型	0.9500
臭氧层-高32瓦	0.92 (5)

O11-As1-O12型	114.03 (16)	钠-O3W-H32W	107 (3)
O11-As1-O13型	109.38 (17)	H31W-O3W-H32W型	111 (5)
O11-As1-C1	112.35（16）	钠-O3W-H31W	116（3）
O12-As1-O13型	102.98 (18)	As1-O13-H13	117 (3)
O12-As1-C1	111.20 (19)	C4-N4-H42型	116 (4)
O13-As1-C1型	106.2 (2)	H41-N4-H42型	118 (5)
O1W-Na1-O2W型	90.06 (14)	C4-N4-H41	105 (4)
O1W-Na1-O3W	165.12 (16)	As1-C1-C2	121.3（4）
O1W-Na1-O12	95.74 (15)	As1-C1-C6	119.8 (4)
O1W-Na1-O2W型^我	83.37（14）	C2-C1-C6型	118.9 (5)
O2W-Na1-O3W	87.31 (14)	C1-C2-C3	120.7 (5)
O2W-Na1-O12	93.26 (14)	C2-C3-C4型	120.1 (5)
O2W-Na1-O2W型^我	112.34 (14)	编号4-C4-C3	120.3 (4)
O3W-Na1-O12	99.03（15）	编号4-C4-C5	120.6 (4)
O2瓦^我-钠-O3W	84.10 (15)	C3-C4-C5型	119.0 (5)
O2瓦^我-钠-O12	154.36 (14)	C4至C5至C6	120.9 (4)
Na1-O2W-Na1^ii（ii）	130.30 (17)	C1-C6-C5型	120.3 (4)
As1-O12-Na1	106.74 (16)	C1-C2-羟基	120
钠-O1W-H11W	97 (3)	C3二氧化碳	120
钠-O1W-H12W	123 (3)	C2-C3-H3型	120
H11W-O1W-H12W型	110 (4)	C4-C3-H3基因	120
H21W-O2W-H22W	111 (5)	C4-C5-H5型	120
Na1号机组^ii（ii）-O2W-H21W型	116 (3)	C6-C5-H5型	120
Na1号机组^ii（ii）-O2W-H22W型	105 (3)	C1-C6-H6型	120
Na1-O2W-H21W	95 (3)	C5-C6-H6型	120
钠-O2W-H22W	98 (3)

O11-As1-O12-Na1	111.88 (17)	O2瓦^我-钠-O12-As1	−4.3 (5)
O13-As1-O12-Na1	−6.5 (2)	O1W-Na1-O2W型^我-Na1号机组^我	−155.4 (2)
C1-As1-O12-Na1	−119.9 (2)	O2W-Na1-O2W^我-Na1号机组^我	−68.1 (3)
O11-As1-C1-C2	−53.3 (4)	O3W-Na1-O2W^我-Na1号机组^我	16.6 (2)
O11-As1-C1-C6	130.1 (4)	O12-Na1-O2W^我-Na1号机组^我	115.1 (3)
O12-As1-C1-C2	177.5 (4)	As1-C1-C2-C3	−174.7 (4)
O12-As1-C1-C6	0.9 (4)	C6-C1-C2-C3型	2.0 (7)
O13-As1-C1-C2型	66.2 (4)	As1-C1-C6-C5	175.5（3）
O13-As1-C1-C6	−110.4 (4)	C2-C1-C6-C5型	−1.2 (7)
O1W-Na1-O2W-Na1^ii（ii）	−111.2 (2)	C1-C2-cc-C4	0.3 (7)
O3W-Na1-O2W-Na1^ii（ii）	83.4 (2)	C2-C3-C4-N4型	−179.3 (5)
O12-Na1-O2W-Na1^ii（ii）	−15.5 (2)	C2-C3-C4-C5型	−3.3 (7)
第2周^我-Na1-O2W-Na1^ii（ii）	165.93 (19)	N4-C4-C5-C6	−179.9 (4)
O1W-Na1-O12-As1型	−90.9 (2)	C3-C4-C5-C6型	4.1 (7)
O2W-Na1-O12-As1型	178.68（19）	C4-C5-C6-C1型	−1.8 (7)
O3W-Na1-O12-As1型	90.9 (2)

对称代码：（i）−x个+1/2,年，z（z）−1/2; （ii）−x个+1/2,年，z（z）+1/2.

氢键几何结构（Å，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N4-H41···O3W公司^三	0.87 (4)	2.07 (4)	2.908 (6)	164 (5)
N4-H42··O13^iv（四）	0.87 (4)	2.32（5）	3.117 (6)	154 (4)
O13-H13···O11^v（v）	0.92 (4)	1.71 (5)	2.604 (5)	161 (5)
O1W公司-H11型W公司···O11号机组^{不及物动词}	0.92 (5)	1.89 (5)	2.808 (5)	177 (5)
O1W公司-H12型W公司···O12号机组^vii（七）	0.94 (4)	1.83 (4)	2.768 (5)	175 (5)
氧气W公司-H21型W公司···O1公司W公司^{不及物动词}	0.93 (4)	1.91（4）	2.819 (5)	163 (4)
氧气W公司-H22（H22）W公司···O11号机组^{不及物动词}	0.94 (3)	1.93 (3)	2.852 (5)	168 (5)
臭氧层W公司-第31页W公司···O12号机组^我	0.93 (4)	1.84 (5)	2.766 (5)	173（5）
臭氧层W公司-第32页W公司···4号机组^{viii（八）}	0.92 (5)	1.97 (6)	2.852 (6)	160 (5)

对称代码：（i）−x个+1/2,年，z（z）−1/2; （iii）x个+1/2,−年，z（z）; （iv）−x个+1,−年，z（z）+1/2; （v）−x个+3/2,年，z（z）−1/2; （vi）x个−1/2,−年+1,z（z）; （vii）−x个+1,−年+1,z（z）−1/2; （viii）−x个+1,−年，z（z）−1/2.

实验细节

	（一）	（二）
水晶数据
化学配方	全日空航空公司₄⁺·C₆H（H）₇作为NO_三⁻·H（H）₂O（运行）	[钠（C₆H（H）₇作为NO_三)（H）₂O）_三]
M（M）_第页	252.10	293.08
晶体系统，空间组	正交各向异性，P（P）c（c）一2₁	正交各向异性，P（P）c（c）一2₁
温度（K）	200	200
一，b条，c（c）(Å)	11.4287 (18), 12.068 (2), 7.5427 (13)	10.4069 (13), 13.6410 (17), 7.7494 (9)
V（V）(Å^三)	1040.3 (3)	1100.1（2）
Z轴	4	4
辐射类型	钼K（K）α	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	3.26	3.14
晶体尺寸（mm）	0.35 × 0.35 × 0.08	0.25 × 0.20 × 0.18

数据收集
衍射仪	牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪	牛津衍射Gemini-S CCD探测器衍射仪
吸收校正	多重扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）	多重扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2013）
T型_最小值，T型_最大值	0.670, 0.980	0.816, 0.980
测量、独立和观察到的[我>2个σ(我)]反射	3581, 1506, 1385	2790、1637、1529年
R（右）_整数	0.031	0.037
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.617	0.617

精炼
R（右）[F类²>2个σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.027, 0.067, 1.04	0.033, 0.073, 1.00
反射次数	1506	1637
参数数量	145	163
约束装置数量	10	10
氢原子处理	用独立和约束精化的混合物处理H原子	用独立和约束精化的混合物处理H原子
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.33,−0.55	0.67,−0.52
绝对结构	Flack（1983），937对Friedel	Flack（1983），991对Friedel
绝对结构参数	0.002 (17)	0.020 (15)

计算机程序：CrysAlis专业（安捷伦，2013），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），货架xl97（Sheldrick，2008）WinGX公司（Farrugia，2012），柏拉图式的（斯佩克，2009）。

（I）的氢键几何结构（Å，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N1-H1A··O12	0.89 (4)	1.83 (4)	2.711 (5)	170 (4)
N1-H1B··O11^我	0.88 (4)	1.99 (4)	2.857 (5)	173（4）
N1-H1C··O11^ii（ii）	0.88 (4)	2.06 (4)	2.909 (5)	162 (4)
N1-H1D···O1W	0.88 (4)	2.06 (4)	2.930 (5)	168 (4)
N4-H41··O13^三	0.88 (4)	2.19（4）	3.049 (5)	167 (4)
N4-H42···O1W^iv（四）	0.87 (4)	2.11 (4)	2.942 (5)	161 (4)
O13-H13···O12^ii（ii）	0.95 (4)	1.63 (4)	2.562 (4)	167 (4)
O1W-H11W··O11^v（v）	0.93 (4)	1.83（4）	2.737 (4)	167 (5)
O1W-H12W··N4^{不及物动词}	0.93 (4)	2.07 (4)	2.957 (6)	159（5）

对称代码：（i）x个−1/2,−年+1,z（z）; （ii）−x个+1/2,年，z（z）+1/2; （iii）−x个+1,−年+2,z（z）−1/2; （iv）−x个+1/2,年+1,z（z）−1/2；（v）−x个+1,−年+1,z（z）+1/2; （vi）x个，年−1,z（z）.

（II）的选定键长（λ）顶部

钠-O1W	2.411 (4)	钠-O12	2.421 (4)
钠-O2W	2.425 (4)	钠-O2W^我	2.482 (5)
钠-O3W	2.376 (4)

对称代码：（i）−x个+1/2,年，z（z）−1/2.

（II）的氢键几何（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N4-H41···O3W^ii（ii）	0.87 (4)	2.07 (4)	2.908 (6)	164 (5)
N4-H42··O13^三	0.87 (4)	2.32 (5)	3.117 (6)	154 (4)
O13-H13···O11^iv（四）	0.92 (4)	1.71 (5)	2.604（5）	161 (5)
O1W-H11W··O11^v（v）	0.92 (5)	1.89 (5)	2.808 (5)	177 (5)
O1W-H12W··O12^{不及物动词}	0.94 (4)	1.83 (4)	2.768（5）	175 (5)
O2W-H21W··O1W^v（v）	0.93 (4)	1.91 (4)	2.819 (5)	163 (4)
O2W-H22W··O11^v（v）	0.94 (3)	1.93 (3)	2.852 (5)	168 (5)
O3W-H31W··O12^我	0.93 (4)	1.84（5）	2.766 (5)	173 (5)
O3W-H32W···N4^vii（七）	0.92 (5)	1.97 (6)	2.852 (6)	160 (5)

对称代码：（i）−x个+1/2,年，z（z）−1/2; （ii）x个+1/2,−年，z（z）; （iii）−x个+1,−年，z（z）+1/2; （iv）−x个+3/2,年，z（z）−1/2; （v）x个−1/2,−年+1,z（z）; （vi）−x个+1,−年+1,z（z）−1/2; （vii）−x个+1,−年，z（z）−1/2.

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