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高斯过程可变形模型的误差控制模型近似。 (英语) Zbl 1443.65030号

摘要:高斯过程变形模型(GPMM)统一了用于表面和图像配准的各种非刚性变形模型。变形模型,如B样条曲线、径向基函数和PCA模型被定义为使用高斯过程的概率分布。该方法在很大程度上依赖于高斯过程的低阶近似,这对于获得模型的参数表示是必需的。在本文中,我们建议将枢轴Cholesky分解用于此任务,它具有以下优点:(1)与GPMM中使用的最新技术相比,它提供了完全可控的近似误差。该算法贪婪地计算新的基函数,直到达到用户定义的近似精度。(2) 与当前使用的方法不同,该方法可用于类似于黑盒的场景,而该方法自动选择给定模型和精度的基函数数量。(3) 我们建议牛顿基作为GPMM的替代基。所提出的基不需要SVD计算,并且可以迭代细化。我们表明,所提出的基函数实现了竞争注册结果,同时为其计算提供了上述优势。

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65平方英尺 线性系统和矩阵反演的直接数值方法
第68页第45页 机器视觉和场景理解
94A08型 信息与通信理论中的图像处理(压缩、重建等)
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