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使用Procrustes投影进行圆形和其他非线性约束布局。 (英文) Zbl 1284.68459号

David Eppstein(编辑)等人,《图形绘制》。第17届国际研讨会,2009年GD,美国伊利诺伊州芝加哥,2009年9月22日至25日。修改后的文件。柏林:施普林格出版社(ISBN 978-3-642-11804-3/pbk)。计算机科学课堂讲稿5849393-404(2010)。
摘要:最近关于约束图布局的工作涉及在优化或基于梯度投影的优化环境中投影简单的二变量线性等式和不等式约束。虽然可以使用该框架构建有用的包容、对齐和矩形非重叠约束类,但一个严重的限制是布局使用了轴分离方法,因此所有约束都必须轴对齐。本文使用Procrustes分析中的技术将梯度投影方法扩展到有用的非线性约束类型。这些约束要求将子图局部固定为各种几何结构,如循环或通过组合算法(例如正交或分层定向)获得的局部布局,但随后允许通过平移、旋转和缩放将这些子图几何结构集成到更大的布局中。
关于整个系列,请参见[Zbl 1185.68005号].

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68兰特 计算机科学中的图论(包括图形绘制)
68单位05 计算机图形;计算几何(数字和算法方面)
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全文: 内政部