半导体、液晶相关产品

随着半导体产业及液晶产业的显著发展,对各工序中使用的产品“需要高纯度”的需求越来越高。

为了应对这样的顾客需求,多摩化学工业以合理的价格稳定地供给着高品质的原材料·产品。

本公司以显影液为首,生产着清洗液,薄膜形成材料,胶态二氧化硅,半导体用高纯度Cu镀液等多方面的面向半导体的高纯度药品。

产品特点
显影液特性

・国内外多个据点(国内3个据点、海外3个据点)从合成到填充。
・在国内外拥有稀释、填充的据点(国内4个据点、海外4个据点)。
・原料使用不使用卤化物的独自制法制造。
·TMAH的最大浓度为25%。

 

薄膜形成材料(TEOS)的特性

是金属杂质,水分,有机杂质,粒子非常少的产品。

半导体用Cu镀液、添加剂特性

·可成套交付基本液和添加剂。
●可与客户演示并提供定制添加剂。

超高纯度清洗液特点

・清洗液中的胆碱在国内从合成到填充。

阵容

光刻用显影液

TMAH系
胆碱类

薄膜形成材料

超高纯度碱清洗剂

半导体用Cu镀液

查看PDF文件需要杂技阅读器。※如果PDF在浏览器中打不开,请下载文件后再打开。
get adobe reader←杂技阅读器的下载从这里开始。
  • 质量方针 环境方针公开了。
    本公司在所有事业所都取得了ISO9001及ISO14001认证。(但是ISO9001有对象外的产品)
转到页首