LiTHO博士 swMATH ID: 28878 软件作者： 弗劳恩霍夫IISB；T.Fíuhner、T.Schnattinger、G.Ardelean、A.Erdmann 描述： LiTHO博士是Fraunhofer IISB开发的光刻综合模拟环境。其主要重点是开发和研究应用。LiTHO博士包括使用光学或EUV图像投影模拟、评估和优化光刻工艺的模型和算法。这些模型描述了先进的掩模照明方案、来自掩模的光衍射、干式和浸没投影系统中的图像形成、光与光致抗蚀剂的相互作用以及烘焙步骤和化学显影期间的抗蚀剂处理。LiTHO博士的几个模块支持对计算图像进行评估，并根据工艺变化对抗蚀剂轮廓进行评估。LiTHO博士灵活的脚本概念支持建立复杂的仿真流程，并与其他仿真包进行耦合，例如IISB开发的高级优化算法和第三方软件包。此外，LiTHO博士还提供了描述半导体光刻投影打印过程的模拟模型。LiTHO博士还可以用于模拟替代曝光方法以及光刻技术在其他微纳制造领域的应用。 主页： http://www.drlitho.com/html/pages/en_drlitho_index.html 相关软件： JCM套件 引用于： 0个文档