在ICP-OES中，可以从轴向（轴向）和侧面（径向）两个方向观察等离子体的发光。一般来说，轴向测光能得到比径向测光更高的发光强度，因此用于微量分析。但是，虽说发光强度很高，但实际上来自氩的背景强度也会变高，所以并不是生强度的增加会改善灵敏度。但是，另一方面，也有意见认为，轴向测光观测到等离子体的氩密度低的地方，所以背景应该会变低。确实，径向测光是观测通过侧面的氩发光部的，所以背景上升也不奇怪。
这次，在轴向测光和径向测光中哪个包倒圆角强度低哪一个能降低吗？这样的疑问想要解决，所以取得了数据。老实说，这对大多数分析人士来说都是好事。只是个人兴趣的话题。第一次写的话，意外的是，考虑到各种各样的条件，这次就不能决定了。但是，我想就使用能得到高发光强度的轴向测光，如果能设定低背景的测定条件，就能进行更高灵敏度的测定这一点进行解说。我不知道正确答案。这是只写个人意见的不负责任的一次。有正确答案的人请务必联系我。
首先显示轴向测光和径向测光的光谱。这里介绍了热等离子体和冷等离子体两种条件。
【アキシャル的后场更高！？】
红线：热等离子体条件（等离子体10L/min、喷雾器气体0.6L/min、RF1500W）
蓝线：冷等离子体条件（等离子体17L/min、喷雾器气体1.0L/min、RF1100W）
实线：轴向
虚线：径向
显示了观察到Zn 206.200nm和Fe 238.204nm的波长位置处的背景轮廓（均为离子线）。测定溶液中不含各元素，导入超纯水进行测定。背景最低的是冷等离子体条件的径向测光。背景高度的顺序，即使改变等离子条件，也是轴向＞径向的顺序。
轴向（热）＞径向（热）＞轴向（冷）＞径向（冷）
【アキシャル的后场比较低！？】
这里显示的光谱是在波长位置观察到Na589.592nm和Al396.153nm的背景的轮廓（均为中性原子线）。在热等离子体条件下都是径向的背景低但是在冷等离子体条件下轴向背景低我明白了。与刚才不同，根据等离子体条件的不同，背景高度的顺序也不同。
轴向（热）＞径向（热）＞径向（冷）＞轴向（冷）
这样，如果也有径向背景较低情况也有轴向比较低的情况明白了。
这里令人在意的是，为什么轴向有比径向背景低的条件？这一点。因此，我们调查了氩发光线。
从氩420.069nm（I）的发光强度来看，轴向（冷）的发光强度最小。强度的关系看起来与其他波长范围内的背景强度大致相关。这里的冷条件主要是通过增加喷雾器气体流量来设定的。
这样，根据等离子条件背景强度（来自氩的发光）变化的事明确。因此，我们通过改变对等离子体温度（状态）有很大影响的雾化器气体流量，调查了背景强度的变化。
【喷雾器气体流量与背景高度的关系】
如果使喷雾器气体流量变化，则Zn206.200nm位置处轴向与径向的背景高度的关系不变，无论在哪个条件下轴向都较高在Al396.153nm位置，从中途开始反转，轴向的背景变低。即，仅在冷等离子体条件下存在轴向背景强度变低的情况被认为是。（但是，使雾化器气体流量变化的话，径向的最佳发光位置应该是变化的，所以这次是固定在测光高度15mm的位置的情况。）
因为有点长了，所以这次就到这里总结一下。
观察到“轴向背景变低”这种现象的人，有可能在有点冷的等离子体条件下进行测定，在现行的多数ICP的默认设定即热等离子体条件下，背景均匀地提高的明细栏样式中定义的设置。遵命
- 氩发光强度与背景高度具有相关性
- 若比较热等离子体条件和冷等离子体条件，则由于冷等离子体条件背景较低
- 轴向比径向低，但由于大量采光发光量，与此相比，背景有较高倾向
- 根据波长不同，由于冷等离子体条件轴向测光比径向测光低背景
如果假设背景低、发光强度高是理想的高灵敏度化，那么该如何设定才好呢什么是最合适的……那还是下次以后吧。
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