将掠角X射线散射技术与硬X射线共振磁散射相结合，对稀土多层膜磁性界面粗糙度进行实验研究的准备工作正在进行中。理论考虑表明，对于小散射角，2θ不对称比率，一个= [我(+) −我(−)]/[我(+) +我（−）]，取决于2θ并以1/cos变化θ.通过测量化学粗糙度，朝着确定磁性粗糙度的目标迈出了第一步(通过Gd薄膜样品在接近L（左）三产生色散校正的吸收边缘，（f）'和（f）′，到Gd原子形状因子，与Cromer&Liberman的计算一致[化学杂志。物理. (1970),53, 1891–1898].
