来自晶体完美性的扰动将导致X射线散射,可以通过地形成像来获得缺陷信息,而不需要完美晶体散射的淹没作用。本文阐明了探针形状对获取该扩散区域地形图像的重要性,不仅有助于解释,而且有助于隔离散射的贡献者,硅和锗衬底晶体已被映射到非常高的分辨率,漫反射散射已被地形成像。结果表明,大部分散射源于表面损伤和位错,而不是点缺陷或热扩散散射(TDS)。后两种成分通常是二阶效应,在高度完美的晶体中只能作为非常微弱的背景强度来识别。这种地形学方法对表面损伤非常敏感。这是因为靠近布拉格峰的相关散射可以用来形成图像。因此,这种相对强烈的散射提供了几个小时内的地形图,用于评估基底表面质量。该方法的灵敏度通过非常完美的半导体中的表面缺陷和位错的图像来说明。本文还介绍了一种测量微缺陷散射的方法。