推特 Facebook Instagram YouTube
Now Loading。。。

Now Loading。。。

热电式冷却器:水冷式 ThermoRack1201/1801 Plasma Etch for Ultimate Rack Mount Chiller

ThermoRack1201/1801在半导体制造工序的等离子体蚀刻中
最适合作为温度控制冷却器设计。

基于珀尔帖模块热电原理的温度控制方式,以快速的温度响应性和高的温度稳定性控制冷却/加热。
±0.05℃的温度稳定性可改善晶片间、批次间的偏差。(First wafer effect的削减)另外,与传统的冷却装置相比,耗电量最多可以减少93%。
因为驱动部只有泵和冷却风扇两个,所以与以往的冷却器相比,可以降低噪音、振动,也可以抑制故障引起的系统下降。
19英寸机架式紧凑型设计可节省无尘室的空间。