射频磁控溅射沉积过程中的时间分辨掠入射对分布函数

在射频磁控溅射薄膜沉积过程中，获得了可靠的高能掠入射X射线散射数据。现场实现了对分布函数分析，从而可以研究沉积过程。

实时全散射薄膜生长研究

原子对分布（PDF）分析已被证明是探测非晶、晶体和晶体学挑战材料结构的一种非常强大的工具。本期IUCrJ大学在薄膜的X射线PDF方法上向前迈出了重要一步，在灵敏度和时间分辨率方面都有了实质性的改进。

通过对表面高能X射线衍射（时间分辨率为秒）收集的数据进行PDF分析，研究了厚度小于3nm的薄膜的短序和长序。

高品质中分辨率(问_最大值≤ 28.5 Å⁻¹)原子对分布函数（PDF）是用成像探测器从晶体材料中获得的。良好的计数统计和快速的数据收集使该技术在研究纳米晶体和无序材料的结构方面非常有前景。

这个SAS公司提出了将原子对分布函数（PDF）分析扩展到小角散射（SAS）领域的PDF方法。该方法用于表征具有不同结构有序度的纳米颗粒组件的结构。

它表明了如何利用法向入射X射线总散射从更厚衬底上的非晶和晶体薄膜中获得高质量的对分布函数，从而可以对薄膜材料的局部结构进行一系列研究。

掠入射全X射线散射只需一次测量就可以对氧化铟薄膜的取向对分布函数进行分析。演示了诸如膜各向异性对相对于衬底的特定取向上的键长的影响以及X射线非晶膜中取向的确定等信息的阐明。

讨论了总散射方法在磁性系统中的最新应用。确定磁对分布函数的能力为研究从多铁到稀磁半导体的磁性系统的局部有序性打开了大门。

提出了一种利用晶体模型模拟离散粒子对分布函数的方法。

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