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Muffin-tin势用于检查散射几何体对EXAFS数据的贡献,这些散射几何体未在用于计算这些势的原子簇中表示。

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这项工作讨论了X射线吸收光谱(XAS)研究纳米材料局部结构的可能性。以NiO纳米粒子为例,描述并举例说明了扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)解释的最新技术,包括基于经典分子动力学的先进方法。此外,结合ZnO基稀磁半导体和氧化铁纳米粒子的发展,还讨论了X射线吸收近边光谱(XANES)在确定与材料纳米晶性质相关的几种效应方面的局限性和可能性。

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在散射势计算中使用自我一致性对EXAFS分析影响不大。

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扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)光谱的表面敏感性通过使用厚度定义的SiO证明了差异电子产额2(12.4nm)/Si样品。Si公司K(K)-边缘EXAFS光谱表明分析深度约为4.2nm,导出的第一近邻(Si-O)距离为1.63μ,在SiO的报告值范围内2.

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概述了应用于X射线吸收光谱的X射线吸收理论,重点介绍了EXAFS,显示了结构参数是如何包含在理论中的。还包括散射问题和非弹性效应的完整描述,以及如何从实验数据中提取结构信息的描述。重点是曲线设置方法,包括允许包含外部约束的技术。

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微分EXAFS是一种新的XAS技术,专门用于直接测量由磁致伸缩、压电和热膨胀等应变诱导现象引起的微小原子位移。这些新的实验表明需要新的分析工具来提取和量化测量的原子应变,这一需求已通过开发DEXA公司代码。

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基于最近的EXAFS实验结果,对平行和垂直均方相对位移(MSRD)的性质进行了更新讨论。平行MSRD的准手征分析允许评估键Grüneisen参数。

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