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J.同步辐射。
(2018).
25
,
1433-1443
https://doi.org/10.107/S1600577518010408
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通过调节总电子产额和镜面反射的软X射线折射率：石墨光学常数的实验测定
C.詹辛
,
H.瓦哈布
,
H.蒂默斯
,
A.高普
和
H.-C.梅廷斯
开发了一种新的程序，通过一致地考虑同时测量电子产额和反射率来确定软X射线区材料的复折射率。
为了证明该程序在石墨应用中的有效性，测定了线偏振光入射时的光学常数
第页
-和
秒
-几何图形。
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