J.同步辐射。（2010年）。17,69-74
https://doi.org/10.107/S0909049509045658

XeF同步辐射模拟刻蚀聚二甲基硅氧烷2作为反应气体

T.Y.Chiang先生,马村T.Makimura,T.何,S.Torii公司,吉田（T.Yoshida）,R.特罗,C.王和T.乌里苏

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