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IUCrJ大学
(2018).
5
,
158-165
https://doi.org/10.107/S2052252517018334
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正常开放
接近
激子绝缘体Ta中的压力诱导相干滑移层跃迁
2
NiSe公司
5
A.中野
,
K.Sugawara(苏加瓦拉)
,
S.Tamura公司
,
北片山
,
K.Matsubayashi公司
,
T.冈田
,
Y.Uwatoko先生
,
K.穆纳卡塔
,
A.中尾
,
H.佐山
,
R.Kumai先生
,
K.杉本
,
N.前岛
,
A.马奇达
,
T.Watanuki
和
H.萨瓦
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