MadGraph5_aMC@非直瞄是一个框架,旨在提供SM和BSM现象学所需的所有要素,例如横截面的计算、硬事件的生成及其与事件生成器的匹配,以及与事件操作和分析相关的各种工具的使用。对于任何用户定义的拉格朗日函数,过程都可以模拟到LO精度,对于支持这种计算的模型,NLO精度也是如此,其中最突出的是对SM过程的QCD和EW校正。还可以获得树级和单环级的矩阵元素。
MadGraph5_aMC@非直瞄是MadGraph5和美国海军陆战队@NLO它统一了MadGraph系列中自动化工具的LO和NLO开发线。因此,它取代了所有的MadGraph5 1.5.x版本和aMC@非直瞄。因此,该代码允许人们模拟几乎所有感兴趣的配置中的过程,特别是强子和e+电子对撞机;从3.2.0版开始,后者包括初始状态辐射和束流辐射效应。
使用该代码的标准参考文献是:J.Alwall等人,“树级和相邻阶微分截面的自动计算,及其与部分子簇射模拟的匹配”,arXiv:1405.0301[hep-ph]。除此之外,混合耦合展开和/或非QCD理论(如NLO EW)中NLO校正的计算需要引用:R.Frederix等人,“次前导阶弱电计算的自动化”,arXiv:1804.10017[hep-ph]。以下是更完整的参考文献列表:网址://阿姆卡坦洛。web.cern。频道/amcatnlo/列表_refs。htm格式