dl-Valine-fumaric acid (2/1)

Alagar, M.; Krishnakumar, R.V.; Subha Nandhini, M.; Natarajan, S.

doi:10.1107/S1600536803010560

DL公司-缬氨酸-腐植酸（2/1）

M.阿拉加,R.V.Krishnakumar公司,M.Subha Nandhini先生和S.Natarajan公司

在标题化合物中，C₅H（H）₁₁不₂·0.5摄氏度₄H（H）₄O（运行）₄缬氨酸分子以两性离子的形式存在，富马酸分子处于未电离状态，形成加合物，这在类似晶体结构中是罕见的。富马酸分子具有对称中心，并与反式关于中心C=C键的配置。富马酸分子之间没有氢键相互作用，只介导两者之间的相互作用DL公司-缬氨酸层，形成三维分子网络。

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支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.1107/S16053603010560/lh6060sup1.cif 包含全局数据块，I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S1600536803010560/lh6060Isup2.hkl 包含数据块I

CCDC参考：214847

checkCIF报告

关键指标

单晶X射线研究
T型=293千
平均值（C-C）=0.003º
R（右）系数=0.058
水风险系数=0.154
数据与参数之比=13.7

检查CIF结果

未发现语法错误ADDSYM报告没有额外的对称性

注释顶部

富马酸是有机酸生物合成的关键中间体，已知它容易与其他有机分子形成加合物/络合物。缬氨酸是一种必需氨基酸，具有非极性烃链的疏水性，在蛋白质分子的稳定中起着至关重要的作用。对目前的晶体结构（I）进行了测定，以检查化学计量和电离状态，这似乎是第一次涉及富马酸和氨基酸的晶体结构。此外，氨基酸-羧酸复合物中观察到的聚集和相互作用模式可能有助于理解可能导致原始多分子系统出现的自组装过程。最近，DL-缬氨酸与马来酸（Alagar）配合物的晶体结构等人。和三氯乙酸（Rajagopal等人。2002年）。

图1显示了采用原子编号方案的（I）的分子结构。缬氨酸分子以两性离子的形式存在，富马酸分子以未电离状态形成包含两种不同物种的加合物，这在类似的晶体结构中是罕见的。通常在氨基酸-羧酸络合物的晶体中，氨基酸分子以阳离子状态存在（带有中性羧酸基团和带正电的氨基），二羧酸以阴离子状态存在（具有中性羧酸基和带负电的羧酸基）通过质子转移促进。所观察到的DL-缬氨酸的两性离子形式和富马酸在当前结构中的未电离状态是由于在此类络合物中观察到的常规质子转移中发生了“分解”。缬氨酸分子的共形成由χ¹¹[−58.9（2）°]和χ¹²[68.5（2）°]与单斜形式DL-valine（Mallikarjunan&Rao，1969）和三斜形式DL-valine（Dalhus&Görbitz，1996）的观测值存在显著差异。然而，该值与在DL-马来酸盐（Alagar等人。，2001），尽管氨基酸分子的电离状态不同。富马酸分子具有对称中心，并与反式关于中心C的构象═C债券。

DL-缬氨酸和富马酸形成的加合物通过氢键相互作用结合在一起（图2）。DL-碱性分子聚集成平行于公元前氨基酸之间存在滑动和螺旋相关的头尾氢键的飞机。富马酸分子之间没有氢键相互作用。它们仅通过氢键介导DL-valine层之间的相互作用，从而形成三维分子网络。单个分子的聚集模式与DL-丙氨酸与马来酸和三氯乙酸的络合物中观察到的聚集模式明显不同。

实验顶部

从含有DL-缬氨酸和富马酸的饱和水溶液中，以1:1的化学计量比，以透明针状生长无色单晶（I）。

计算详细信息顶部

数据收集：CAD-4软件（恩拉夫·诺尼乌斯，1989年）；单元格细化：CAD-4软件; 数据缩减：CAD-4软件; 用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，1990年）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，1997）；分子图形：铂（斯佩克，1999年）；用于准备出版材料的软件：SHELXL97型.

数字顶部

	图1。（I）的分子结构，具有50%概率水平的原子编号方案和椭球体[对称代码：（I）−x个, −年, −z（z）].
	图2。（I）分子的堆积图，向下看b条轴。

DL-碱性半富马酸顶部

水晶数据顶部

C₅H（H）₁₁不₂·0.5摄氏度₄H（H）₄O（运行）₄	F类(000) = 752
M（M）_第页= 175.18	D类_x个=1.332毫克⁻^三 D类_米=1.34（2）毫克⁻^三 D类_米通过在二甲苯-溴仿中浮选测定
单诊所，C2/c（c）	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：-C 2yc	25次反射的细胞参数
一= 24.417 (4) Å	θ= 7–13°
b条= 7.5713 (10) Å	µ=0.11毫米⁻¹
c（c）= 10.013 (2) Å	T型=293千
β= 109.268 (10)°	无色针
V（V）= 1747.4 (5) Å^三	0.28×0.22×0.14毫米
Z轴= 8

数据收集顶部

Enraf-Nonius CAD-4公司衍射仪	1356次反射我> 2σ(我)
辐射源：细焦点密封管	R（右）_整数= 0.10
石墨单色仪	θ_最大值= 25.0°,θ_最小值= 2.8°
ω–2θ扫描	小时= 0→28
吸收校正：ψ扫描（North等人，1968年）	k个=−8→8
T型_最小值= 0.88,T型_最大值= 0.98	我=−11→11
2600次测量反射	每100次反射中有2次标准反射
1524个独立反射	强度衰减：<1%

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：根据邻近站点推断
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.058	受约束的氢原子参数
水风险(F类²) = 0.154	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0869对)²+ 1.3337对] 哪里对= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.07	(Δ/σ)_最大值< 0.001
1524次反射	Δρ_最大值=0.32埃⁻^三
111个参数	Δρ_最小值=−0.28埃⁻^三
0个约束	消光校正：SHELXL97型，Fc（预测值）^*=kFc[1+0.001xFc²λ^三/罪（2θ)]^-1/4
主原子位置定位：结构-变量直接方法	消光系数：0.007（2）

水晶数据顶部

C₅H（H）₁₁不₂·0.5摄氏度₄H（H）₄O（运行）₄	V（V）= 1747.4 (5) Å^三
M（M）_第页= 175.18	Z轴= 8
单诊所，C2/c（c）	钼K（K）α辐射
一= 24.417 (4) Å	µ=0.11毫米⁻¹
b条= 7.5713 (10) Å	T型=293千
c（c）= 10.013 (2) Å	0.28×0.22×0.14毫米
β= 109.268 (10)°

数据收集顶部

Enraf-Nonius CAD-4公司衍射仪	1356次反射我> 2σ(我)
吸收校正：ψ扫描（North等人，1968年）	R（右）_整数= 0.10
T型_最小值= 0.88,T型_最大值= 0.98	每100次反射中有2次标准反射
2600次测量反射	强度衰减：<1%
1524个独立反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.058	0个约束
水风险(F类²) = 0.154	受约束的氢原子参数
S公司= 1.07	Δρ_最大值=0.32埃⁻^三
1524次反射	Δρ_最小值=−0.28埃⁻^三
111个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（除了两个l.s.平面之间二面角中的e.s.d.）均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时，单独考虑单元e.s.d；只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时，才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类²针对所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类负值设置为零F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²在统计上大约是基于F类、和R（右）-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_当量
O1公司	0.27658 (5)	0.5467 (2)	0.38149 (14)	0.0333 (4)
氧气	0.24030 (5)	0.4490 (2)	0.15951 (14)	0.0351 (4)
臭氧	0.12567 (5)	−0.0296 (2)	0.12750 (15)	0.0371 (4)
H3A型	0.1555	0.0033	0.1147	0.056*
O4号机组	0.08326 (5)	0.1308 (2)	−0.06608 (15)	0.0431 (5)
N1型	0.17990 (5)	0.7020 (2)	0.38135 (14)	0.0240 (4)
甲型H1A	0.1447	0.7406	0.3754	0.036*
H1B型	0.2029	0.7937	0.3831	0.036*
H1C型	0.1946	0.6390	0.4602	0.036*
C1类	0.23603 (7)	0.5223 (2)	0.26606 (18)	0.0230 (4)
指挥与控制	0.17563 (7)	0.5892 (2)	0.25650 (17)	0.0230 (4)
氢气	0.1617	0.6641	0.1722	0.028*
C3类	0.13226 (8)	0.4356 (3)	0.2373 (2)	0.0332 (5)
H3级	0.1350	0.3647	0.1578	0.040*
补体第四成份	0.14757 (14)	0.3151 (4)	0.3640 (3)	0.0630 (8)
H4A型	0.1870	0.2760	0.3863	0.094*
H4B型	0.1221	0.2147	0.3432	0.094*
H4C型	0.1434	0.3778	0.4434	0.094*
C5级	0.06993 (10)	0.5041 (4)	0.1948 (4)	0.0689 (9)
H5A型	0.0622	0.5788	0.1133	0.103*
H5B型	0.0649	0.5703	0.2717	0.103*
H5C型	0.0435	0.4060	0.1729	0.103*
C6级	0.08116 (7)	0.0364 (2)	0.0300 (2)	0.0277 (5)
抄送7	0.02520 (7)	−0.0165 (3)	0.0492 (2)	0.0317 (5)
H7型	0.0259	−0.0738	0.1319	0.038*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
O1公司	0.0259 (7)	0.0428 (9)	0.0285 (8)	0.0043 (5)	0.0053 (5)	−0.0091 (6)
氧气	0.0365 (7)	0.0389 (9)	0.0297 (8)	0.0075 (6)	0.0107 (6)	−0.0098 (6)
臭氧	0.0263 (7)	0.0401 (9)	0.0437 (8)	−0.0014 (6)	0.0101 (6)	0.0121 (7)
O4号机组	0.0314 (7)	0.0500 (10)	0.0471 (9)	−0.0044 (6)	0.0119 (6)	0.0192 (8)
N1型	0.0253 (7)	0.0219 (8)	0.0249 (8)	0.0007 (5)	0.0084 (6)	−0.0034 (6)
C1类	0.0287 (9)	0.0179 (8)	0.0237 (9)	0.0011 (6)	0.0102 (7)	−0.0007 (7)
指挥与控制	0.0268 (8)	0.0212 (9)	0.0197 (8)	0.0016 (7)	0.0059 (6)	−0.0022 (7)
C3类	0.0351 (10)	0.0323 (11)	0.0331 (10)	−0.0100 (8)	0.0128 (8)	−0.0127 (8)
补体第四成份	0.097 (2)	0.0484 (16)	0.0454 (13)	−0.0372 (14)	0.0264 (13)	−0.0037 (12)
C5级	0.0340 (12)	0.0668 (18)	0.104 (2)	−0.0138 (12)	0.0200 (13)	−0.0308 (18)
C6级	0.0279 (9)	0.0236 (10)	0.0325 (10)	−0.0022 (7)	0.0113 (7)	0.0004 (8)
抄送7	0.0300 (9)	0.0295 (10)	0.0376 (11)	−0.0019 (7)	0.0138 (7)	0.0075 (8)

几何参数（λ，º）顶部

O1-C1型	1.263 (2)	C3-C4型	1.507 (3)
氧气-C1	1.237 (2)	C3-C5型	1.529 (3)
臭氧-C6	1.297 (2)	C3-H3型	0.9800
臭氧-H3A	0.8200	C4-H4A型	0.9600
O4-C6型	1.214 (2)	C4-H4B型	0.9600
N1-C2型	1.489 (2)	C4-H4C型	0.9600
N1-H1A型	0.8900	C5-H5A型	0.9600
N1-H1B型	0.8900	C5-H5B型	0.9600
N1-H1C型	0.8900	C5-H5C型	0.9600
C1-C2类	1.532 (2)	C6至C7	1.496 (2)
C2-C3型	1.541 (3)	C7-C7号机组^我	1.322 (4)
C2-H2型	0.9800	C7-H7型	0.9300

C6-O3-H3A型	109.5	C5-C3-H3	106.7
C2-N1-H1A型	109.5	C2-C3-H3型	106.7
C2-N1-H1B型	109.5	C3-C4-H4A	109.5
H1A-N1-H1B型	109.5	C3-C4-H4B型	109.5
C2-N1-H1C	109.5	H4A-C4-H4B型	109.5
H1A-N1-H1C	109.5	C3-C4-H4C型	109.5
H1B-N1-H1C型	109.5	周四至周四	109.5
氧气-C1-O1	126.24 (16)	H4B-C4-H4C型	109.5
O2-C1-C2型	116.59 (14)	C3-C5-H5A型	109.5
O1-C1-C2型	117.17 (15)	C3-C5-H5B型	109.5
N1-C2-C1	109.74 (12)	H5A-C5-H5B型	109.5
N1-C2-C3型	113.11 (14)	C3-C5-H5C型	109.5
C1-C2-C3	111.48 (15)	H5A-C5-H5C型	109.5
N1-C2-H2型	107.4	H5B-C5-H5C型	109.5
C1-C2-H2	107.4	O4-C6-O3型	125.38 (16)
C3-C2-H2	107.4	O4-C6-C7	122.61 (16)
C4-C3-C5	112.7 (2)	臭氧-C6-C7	112.01 (16)
C4-C3-C2型	112.48 (16)	抄送7^我-C7-C6型	121.3 (2)
C5-C3-C2型	111.04 (19)	抄送7^我-C7-H7型	119.4
C4-C3-H3型	106.7	C6-C7-H7型	119.4

O2-C1-C2-N1型	−169.55 (15)	C1-C2-C3-C4型	65.3 (2)
O1-C1-C2-N1型	10.6 (2)	N1-C2-C3-C5型	68.5 (2)
O2-C1-C2-C3	64.3 (2)	C1-C2-cc-C5	−167.25 (18)
O1-C1-C2-C3	−115.49 (17)	O4-C6-C7-C7^我	9.7 (4)
N1-C2-C3-C4	−58.9 (2)	O3-C6-C7-C7^我	−170.6 (2)

对称代码：（i）−x个,−年,−z（z）.

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
臭氧-H3A类···O1公司^ii（ii）	0.82	1.68	2.4860 (18)	168
N1-H1型A类···O4号机组^三	0.89	2.03	2.8755 (19)	158
N1-H1型B类···氧气^iv（四）	0.89	1.97	2.826 (2)	161
N1-H1型C···氧气^三	0.89	2.05	2.9201 (19)	166
C2-H2···O3^v（v）	0.98	2.47	3.233 (2)	135

对称代码：（ii）−x个+1/2,年−1/2,−z（z）+1/2; （iii）x个,−年+1,z（z）+1/2; （iv）−x个+1/2,年+1/2,−z（z）+1/2; （v）x个,年+1,z（z）.

实验细节

水晶数据
化学配方	C₅H（H）₁₁不₂·0.5摄氏度₄H（H）₄O（运行）₄
M（M）_第页	175.18
晶体系统，空间组	单诊所，C2/c（c）
温度（K）	293
一,b条,c（c）(Å)	24.417 (4), 7.5713 (10), 10.013 (2)
β(°)	109.268 (10)
V（V）(Å^三)	1747.4 (5)
Z轴	8
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.11
晶体尺寸（mm）	0.28 × 0.22 × 0.14

数据收集
衍射仪	Enraf-Nonius CAD-4公司衍射仪
吸收校正	ψ扫描（North等人，1968年）
T型_最小值,T型_最大值	0.88, 0.98
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	2600, 1524, 1356
R（右）_整数	0.10
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.595

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.058, 0.154, 1.07
反射次数	1524
参数数量	111
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.32,−0.28

计算机程序：CAD-4软件（恩拉夫·诺尼乌斯，1989年），CAD-4软件,SHELXS97标准（谢尔德里克，1990年），SHELXL97型（谢尔德里克，1997），铂（斯佩克，1999年），SHELXL97型.

选定的几何参数（λ，º）顶部

O1-C1型	1.263 (2)	C2-C3型	1.541 (3)
氧气-C1	1.237 (2)	C3-C4型	1.507 (3)
臭氧-C6	1.297 (2)	C3-C5型	1.529 (3)
O4-C6型	1.214 (2)	C6至C7	1.496 (2)
N1-C2型	1.489 (2)	C7-C7号机组^我	1.322 (4)
C1-C2类	1.532 (2)

氧气-C1-O1	126.24 (16)	C4-C3-C2型	112.48 (16)
O2-C1-C2型	116.59 (14)	C5-C3-C2型	111.04 (19)
O1-C1-C2型	117.17 (15)	O4-C6-O3型	125.38 (16)
N1-C2-C1	109.74 (12)	O4-C6-C7	122.61 (16)
N1-C2-C3型	113.11 (14)	臭氧-C6-C7	112.01 (16)
C1-C2-C3	111.48 (15)	抄送7^我-C7-C6型	121.3 (2)
C4-C3-C5	112.7 (2)

O2-C1-C2-N1型	−169.55 (15)	N1-C2-C3-C4	−58.9 (2)
O1-C1-C2-N1型	10.6 (2)	C1-C2-C3-C4型	65.3 (2)
O2-C1-C2-C3	64.3 (2)	N1-C2-C3-C5型	68.5 (2)
O1-C1-C2-C3	−115.49 (17)	C1-C2-cc-C5	−167.25 (18)

对称代码：（i）−x个,−年,−z（z）.

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O3-H3A···O1^ii（ii）	0.82	1.68	2.4860 (18)	168
N1-H1A··O4^三	0.89	2.03	2.8755 (19)	158
N1-H1B···O2^iv（四）	0.89	1.97	2.826 (2)	161
N1-H1C··O2^三	0.89	2.05	2.9201 (19)	166
C2-H2···O3^v（v）	0.98	2.47	3.233 (2)	135

对称代码：（ii）−x个+1/2,年−1/2,−z（z）+1/2; （iii）x个,−年+1,z（z）+1/2; （iv）−x个+1/2,年+1/2,−z（z）+1/2; （v）x个,年+1,z（z）.

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