在线购买文章-需要在线订阅或购买单篇文章才能访问本文。
为了研究硼硅酸盐玻璃中氦气泡的形成，进行了小角度X射线散射（SAXS）测量。氦是由He引入的+在1至2 MeV的能量范围内进行注入，以在～1µm深度上获得均匀分布。植入剂量为9×1013至2.8×1016 离子厘米−2对应于注入深度上平均的40到11200个百万分之原子（a.p.p.m）的局部浓度范围。SAXS响应与Percus–Yevick硬球相互作用势相匹配，以解释粒子间干扰。拟合得到的氦气泡半径和氦气泡体积分数在5到15º和10º之间变化−3到10−1随着剂量从9×10增加13至2.8×1016 厘米−2SAXS数据也与硼硅酸盐玻璃基质中40至200 a.p.p.m.之间气泡形成的最大氦溶解度一致。
订阅应用晶体学杂志
