1.化学背景
同时瞄准新锡的合成四、配合物,盐晶体C4H(H)7N个2+·否三−,(二)在硝酸存在下,通过将乙酸三甲基锡与2-甲基咪唑混合,偶然获得。在寻找新的可溶于有机溶剂的铵盐以用于进一步的金属有机合成的过程中,我们启动了该盐的目标制备。然而,通过改变硝酸和2-甲基咪唑的比率,我们也获得了化合物(I)的晶体,C4H(H)6N个2·C类4H(H)7N个2+·否三−,并报告此通信中的两种结构。
6.精炼
晶体数据、数据采集和结构精炼表3总结了详细信息对于(I),所有H原子都可以从不同的傅里叶图中清楚地分辨出来,并且可以自由地进行细化。H1的一半占用是由于结构原因而需要的,并且由差分傅立叶图中发现的残余密度峰值的值表示(0.83与0.47埃−3占用率分别为1和0.5)。对于(II),将与C结合的H原子放置在计算位置,然后使用骑马模型对其进行细化,C-H=0.95?(芳香族)和0.98?(甲基)U型国际标准化组织(H) =1.2和1.5U型等式(C) 分别为。由于2-甲基-1的镜像对称性H(H)-咪唑-3-离子,甲基H原子在两个位置上出现统计无序。结合到N原子上的H原子是从不同的傅里叶图中定位的,并且可以自由地进行细化。
| (一) | (二) | 水晶数据 | 化学配方 | C类4H(H)6N个2+·否三−·C类4H(H)7N个2 | C类4H(H)7N个2+·否三− | M(M)第页 | 227.23 | 145.13 | 晶体系统,空间组 | 单诊所,C类2/c(c) | 正交的,P(P)n个米一 | 温度(K) | 100 | 110 | 一,b条,c(c)(Å) | 10.1879 (4), 10.0912 (4), 11.9055 (5) | 14.1402 (11), 6.2297 (5), 7.4571 (6) | α,β,γ(°) | 90, 115.188 (2), 90 | 90, 90, 90 | 五(Å三) | 1107.60 (8) | 656.89 (9) | Z轴 | 4 | 4 | 辐射类型 | 镓K(K)α,λ= 1.34139 Å | 镓K(K)α,λ= 1.34139 Å | μ(毫米−1) | 0.58 | 0.70 | 晶体尺寸(mm) | 0.25 × 0.19 × 0.19 | 0.09 × 0.04 × 0.03 | | 数据收集 | 衍射仪 | Bruker Venture Metaljet公司 | Bruker Venture Metaljet公司 | 吸收校正 | 多扫描(SADABS公司; 克劳斯等。, 2015) | 多扫描(SADABS公司; 克劳斯等。, 2015) | T型最小值,T型最大值 | 0.682, 0.752 | 0.471, 0.752 | 测量、独立和观察的数量[我>2个σ(我)]反射 | 8771, 1286, 1210 | 13253, 817, 761 | R(右)整数 | 0.033 | 0.060 | (罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.650 | 0.651 | | 精炼 | R(右)[F类2>2个σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.034, 0.100, 1.04 | 0.049, 0.146, 1.04 | 反射次数 | 1286 | 817 | 参数数量 | 102 | 68 | 氢原子处理 | 所有氢原子参数均已细化 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 | Δρ最大值,Δρ最小值(eó)−3) | 0.25, −0.20 | 0.22, −0.28 | 计算机程序:APEX2型和,圣保罗(布鲁克,2014年),SHELXT公司(Sheldrick,2015年一),SHELXL2014标准(Sheldrick,2015年b条),有机发光二极管2(多洛曼诺夫等。, 2009),水银(麦克雷等。, 2008)、和公共CIF(Westrip,2010年). | |
支持信息
对于这两种化合物,数据收集:APEX2型(布鲁克,2014);细胞精细化: 圣保罗(布鲁克,2014);数据缩减:圣保罗(布鲁克,2014);用于求解结构的程序:SHELXT(Sheldrick,2015a);用于优化结构的程序:SHELXL2014标准(谢尔德里克,2015b);分子图形:有机发光二极管2(多洛曼诺夫等。2009年)和水银(麦克雷等。, 2008); 用于准备出版材料的软件:有机发光二极管2(多洛曼诺夫等。2009年)和公共CIF(Westrip,2010)。
(一) 2-甲基-1H(H)-咪唑-3-硝酸铵-2-甲基-1H(H)-咪唑(1/1)顶部 水晶数据 顶部 C类4H(H)6N个2+·否三−·C类4H(H)7N个2 | F类(000) = 480 |
M(M)第页=227.23 | D类x个=1.363毫克−三 |
单诊所,C类2/c(c) | 镓K(K)α辐射,λ= 1.34139 Å |
一= 10.1879 (4) Å | 6125次反射的电池参数 |
b条= 10.0912 (4) Å | θ= 5.7–60.7° |
c(c)= 11.9055 (5) Å | µ=0.58毫米−1 |
β= 115.188 (2)° | T型=100 K |
五= 1107.60 (8) Å三 | 块状,透明无色 |
Z轴= 4 | 0.25×0.19×0.19毫米 |
数据收集 顶部 Bruker Venture Metaljet公司 衍射仪 | 1286个独立反射 |
辐射源:金属射流、镓液体金属射流源 | 1210次反射我>2个σ(我) |
Helios MX镜面光学单色仪 | R(右)整数= 0.033 |
探测器分辨率:10.24像素mm-1个 | θ最大值= 60.7°,θ最小值= 5.7° |
ω和φ扫描 | 小时=−12→13 |
吸收校正:多扫描 (SADABS;克劳斯等。, 2015) | k个=−13→13 |
T型最小值= 0.682,T型最大值= 0.752 | 我=−15→13 |
8771次测量反射 | |
精炼 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 氢位置:差分傅里叶图 |
R(右)[F类2>2个σ(F类2)] = 0.034 | 所有氢原子参数均已细化 |
水风险(F类2) = 0.100 | 周= 1/[σ2(F类o(o)2) + (0.053P(P))2+ 0.953P(P)] 哪里P(P)= (F类o(o)2+ 2F类c(c)2)/3 |
S公司=1.04 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
1286次反射 | Δρ最大值=0.25埃−三 |
102个参数 | Δρ最小值=−0.20埃−三 |
0个约束 | |
特殊细节 顶部 实验从安装在环形光纤上的单晶样品中收集了I的X射线晶体学数据。使用配备Photon 100 CMOS探测器、Helios MX光学元件和Kappa测角仪的Bruker Venture衍射仪收集数据。晶体到探测器的距离为4.0 cm,数据采集以1024 x 1024像素模式进行。 |
几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。细胞esd的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的esd。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z | U型国际标准化组织*/U型等式 | 开路特性。(<1) |
N1型 | 0.56964(11) | 0.62468 (10) | 0.37404 (10) | 0.0219 (3) | |
上半年 | 0.533 (4) | 0.626 (3) | 0.297 (3) | 0.034 (9)* | 0.5 |
氮气 | 0.59828 (11) | 0.655353(10) | 0.56421 (9) | 0.0198 (2) | |
C1类 | 0.37127 (14) | 0.74799 (14) | 0.39888 (12) | 0.0265 (3) | |
甲型H1A | 0.386 (2) | 0.837 (2) | 0.3796 (19) | 0.053 (6)* | |
H1B型 | 0.303 (2) | 0.713 (2) | 0.3230 (19) | 0.049 (5)* | |
H1C型 | 0.333 (2) | 0.741 (2) | 0.454 (2) | 0.058 (6)* | |
指挥与控制 | 0.51030 (12) | 0.67449 (11) | 0.44456 (10) | 0.0189 (3) | |
氢气 | 0.578 (2) | 0.6791 (19) | 0.6223(17) | 0.036 (4)* | |
C3类 | 0.70215 (14) | 0.57154 (12) | 0.45264 (12) | 0.0251 (3) | |
H3级 | 0.766(2) | 0.5300 (18) | 0.4208 (15) | 0.037 (4)* | |
补体第四成份 | 0.72067 (13) | 0.58907 (12) | 0.57091 (12) | 0.0238 (3) | |
H4型 | 0.802 (2) | 0.5656(17) | 0.6485 (16) | 0.034 (4)* | |
O1公司 | 0.45994 (10) | 0.92001 (9) | 0.82112 (8) | 0.0274 (2) | |
氧气 | 0.5000 | 0.73329 (12) | 0.7500 | 0.0229 (3) | |
N3号机组 | 0.5000 | 0.85988 (14) | 0.7500 | 0.0194 (3) | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
N1型 | 0.0253 (5) | 0.0217 (5) | 0.0215 (5) | 0.0005 (4) | 0.0127 (4) | 0.0000 (4) |
氮气 | 0.0216 (5) | 0.0213 (5) | 0.0177 (5) | 0.0016 (4) | 0.0094 (4) | 0.0007 (4) |
C1类 | 0.0218 (6) | 0.0317 (7) | 0.0260 (6) | 0.0055(5) | 0.0100 (5) | 0.0035 (5) |
指挥与控制 | 0.0198 (5) | 0.0183 (5) | 0.0196 (5) | −0.0012 (4) | 0.0094 (4) | 0.0005(4) |
C3类 | 0.0253 (6) | 0.0228 (6) | 0.0315 (6) | 0.0045 (5) | 0.0164 (5) | 0.0010 (5) |
补体第四成份 | 0.0216 (6) | 0.0215 (6) | 0.0269 (6) | 0.0036(4) | 0.0089 (5) | 0.0029 (4) |
O1公司 | 0.0335 (5) | 0.0278 (5) | 0.0261(5) | 0.0028 (4) | 0.0176 (4) | −0.0026 (3) |
氧气 | 0.0258 (6) | 0.0211 (6) | 0.0238 (6) | 0 | 0.0123 (5) | 0 |
N3号机组 | 0.0164 (6) | 0.0234 (7) | 0.0170 (6) | 0 | 0.0056 (5) | 0 |
几何参数(λ,º) 顶部 N1-H1型 | 0.83 (3) | C1-H1C | 0.90 (2) |
N1-C2型 | 1.3247 (15) | C1-C2类 | 1.4821 (16) |
N1-C3型 | 1.3822 (17) | C3-H3型 | 0.974 (19) |
N2至C2 | 1.3381 (15) | C3-C4型 | 1.3504 (18) |
N2-H2气体 | 0.845 (19) | C4-H4型 | 0.971 (18) |
N2-C4气体 | 1.3783 (16) | 臭氧-N3 | 1.2433 (11) |
C1-H1A型 | 0.95(2) | 氧气-N3 | 1.2774 (19) |
C1-H1B型 | 0.94 (2) | N3-O1型我 | 1.2433 (11) |
| | | |
C2-N1-H1型 | 125(3) | N1-C2-N2 | 109.58 (10) |
C2-N1-C3 | 107.21 (10) | N1-C2-C1 | 125.45 (11) |
C3-N1-H1 | 128 (3) | N2-C2-C1 | 124.91 (11) |
C2-N2-H2 | 122.4 (13) | N1-C3-H3型 | 121.6(10) |
C2-N2-C4 | 108.41 (10) | C4-C3-N1型 | 108.53 (11) |
C4-N2-H2 | 129.1 (13) | C4-C3-H3型 | 129.9 (10) |
H1A-C1-H1B型 | 104.5 (17) | N2-C4-H4气体 | 123.6 (10) |
H1A-C1-H1C型 | 114.3 (18) | C3-C4-N2型 | 106.26 (11) |
H1B-C1-H1C型 | 107.4 (19) | C3-C4-H4型 | 130.1 (10) |
C2-C1-H1A型 | 109.7 (13) | O1-N3-O1型我 | 121.58 (14) |
C2-C1-H1B型 | 111.1 (12) | O1公司我-N3-O2 | 119.21 (7) |
C2-C1-H1C型 | 109.7 (14) | O1-N3-O2 | 119.21 (7) |
| | | |
N1-C3-C4-N2 | −0.02(14) | C3-N1-C2-C1 | 176.33 (12) |
C2-N1-C3-C4型 | 0.57 (14) | C4-N2-C2-N1 | 0.92 (13) |
C2-N2-C4-C3型 | −0.53 (14) | C4-N2-C2-C1型 | −176.35 (11) |
C3-N1-C2-N2 | −0.91(13) | | |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
N2-H2··O1我 | 0.845 (19) | 2.594 (19) | 3.1837 (14) | 127.9 (15) |
N2-H2··O2 | 0.845 (19) | 2.06 (2) | 2.9031(10) | 172.5 (18) |
N1-H1··N1二 | 0.83 (3) | 1.86 (3) | 2.678 (2) | 173 (4) |
对称代码:(i)−x个+1中,年,−z+3/2; (ii)−x个+1中,年,−z+1/2. |
(二) 2-甲基-1H(H)-咪唑-3-硝酸铵顶部 水晶数据 顶部 C类4H(H)7N个2+·否三− | D类x个=1.467毫克−三 |
M(M)第页= 145.13 | 镓K(K)α辐射,λ= 1.34139 Å |
正交各向异性,P(P)n个米一 | 9976次反射的细胞参数 |
一= 14.1402 (11) Å | θ= 5.2–60.7° |
b条= 6.2297 (5) Å | µ=0.70毫米−1 |
c(c)= 7.4571 (6) Å | T型=110 K |
五= 656.89 (9) Å三 | 块状,清亮无色 |
Z轴= 4 | 0.09×0.04×0.03毫米 |
F类(000) = 304 | |
数据收集 顶部 Bruker Venture Metaljet公司 衍射仪 | 817个独立反射 |
辐射源:金属射流、镓液体金属射流源 | 761次反射我>2个σ(我) |
Helios MX镜面光学单色仪 | R(右)整数= 0.060 |
探测器分辨率:10.24像素mm-1个 | θ最大值= 60.8°,θ最小值= 8.1° |
ω和φ扫描 | 小时=−16→18 |
吸收校正:多扫描 (SADABS;克劳斯等。, 2015) | k个=−8→8 |
T型最小值= 0.471,T型最大值= 0.752 | 我=−9→9 |
13253次测量反射 | |
精炼 顶部 优化于F类2 | 0个约束 |
最小二乘矩阵:完整 | 氢站点位置:混合 |
R(右)[F类2>2个σ(F类2)]=0.049 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
水风险(F类2) = 0.146 | 周= 1/[σ2(F类o(o)2) + (0.0855P(P))2+ 0.2528P(P)] 哪里P(P)= (F类o(o)2+ 2F类c(c)2)/3 |
S公司= 1.04 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
817次反射 | Δρ最大值=0.22埃−三 |
68个参数 | Δρ最小值=−0.28埃−三 |
特殊细节 顶部 实验从安装在环形光纤上的单晶样品中收集了I的X射线晶体学数据。使用配备Photon 100 CMOS探测器、Helios MX光学元件和Kappa测角仪的Bruker Venture衍射仪收集数据。晶体到探测器的距离为4.0厘米,数据采集以1024 x 1024像素模式进行。 |
几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。细胞esd的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的esd。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z | U型国际标准化组织*/U型等式 | 开路特性。(<1) |
N1型 | 0.75103 (14) | 0.2500 | 0.7473 (3) | 0.0489 (5) | |
上半年 | 0.791 (3) | 0.2500 | 0.828 (5) | 0.104 (14)* | |
氮气 | 0.62239 (12) | 0.2500 | 0.5968 (2) | 0.0383 (5) | |
氢气 | 0.558 (2) | 0.2500 | 0.566 (4) | 0.065 (9)* | |
C1类 | 0.6012 (2) | 0.2500 | 0.9290 (3) | 0.0581 (7) | |
甲型H1A | 0.6415 | 0.2943 | 1.0295 | 0.087* | 0.5 |
H1B型 | 0.5768 | 0.1053 | 0.9515 | 0.087* | 0.5 |
H1C型 | 0.5483 | 0.3504 | 0.9170 | 0.087* | 0.5 |
指挥与控制 | 0.65719 (16) | 0.2500 | 0.7623 (3) | 0.0409 (5) | |
C3类 | 0.77534 (16) | 0.2500 | 0.5686(3) | 0.0493 (6) | |
H3级 | 0.8376 | 0.2500 | 0.5208 | 0.059* | |
补体第四成份 | 0.69503 (16) | 0.2500 | 0.4755 (3) | 0.0448 (6) | |
H4型 | 0.6892 | 0.2500 | 0.3486 | 0.054* | |
O1公司 | 0.42825 (10) | 0.2500 | 0.55858 (18) | 0.0449(5) | |
氧气 | 0.46812 (12) | 0.2500 | 0.2772 (2) | 0.0498 (5) | |
臭氧 | 0.32003 (10) | 0.2500 | 0.3546(2) | 0.0482 (5) | |
N3号机组 | 0.40563 (11) | 0.2500 | 0.3932 (2) | 0.0384 (5) | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
N1型 | 0.0421(10) | 0.0503 (11) | 0.0542 (11) | 0 | −0.0184 (8) | 0 |
氮气 | 0.0319 (8) | 0.0507 (10) | 0.0324 (8) | 0 | −0.0023 (6) | 0 |
C1类 | 0.0775 (18) | 0.0625 (15) | 0.0342(11) | 0 | 0.0076 (10) | 0 |
指挥与控制 | 0.0430 (11) | 0.0460 (11) | 0.0337 (10) | 0 | −0.0045 (8) | 0 |
C3类 | 0.0357 (11) | 0.0509 (13) | 0.0612 (14) | 0 | 0.0057 (9) | 0 |
补体第四成份 | 0.0448 (12) | 0.0522 (12) | 0.0374 (10) | 0 | 0.0064 (8) | 0 |
O1公司 | 0.0360 (8) | 0.0681 (10) | 0.0308 (7) | 0 | −0.0011 (5) | 0 |
氧气 | 0.0449 (9) | 0.0686(11) | 0.0359 (8) | 0 | 0.0092 (6) | 0 |
臭氧 | 0.0348 (7) | 0.0592 (10) | 0.0507 (9) | 0 | −0.0103 (6) | 0 |
N3号机组 | 0.0344(8) | 0.0485 (10) | 0.0323 (8) | 0 | −0.0005 (6) | 0 |
几何参数(λ,º) 顶部 N1-H1型 | 0.82 (4) | C1-H1C | 0.9800 |
N1-C2型 | 1.332 (3) | C1-C2类 | 1.474 (3) |
N1-C3型 | 1.376 (3) | C3-H3型 | 0.9500 |
N2-H2气体 | 0.94(3) | C3-C4型 | 1.331(3) |
N2至C2 | 1.329 (2) | C4-H4型 | 0.9500 |
N2-C4气体 | 1.369 (3) | 臭氧-N3 | 1.274 (2) |
C1-H1A型 | 0.9800 | 氧气-N3 | 1.237 (2) |
C1-H1B型 | 0.9800 | 臭氧-N3 | 1.244 (2) |
| | | |
C2-N1-H1型 | 128(3) | N1-C2-C1 | 127.3 (2) |
C2-N1-C3 | 109.29 (19) | N2-C2-N1型 | 106.91 (18) |
C3-N1-H1 | 122 (3) | N2-C2-C1 | 125.8 (2) |
C2-N2-H2 | 126.1 (18) | N1-C3-H3型 | 126.5 |
C2-N2-C4 | 109.63 (18) | C4-C3-N1型 | 106.98 (19) |
C4-N2-H2 | 124.3 (18) | C4-C3-H3型 | 126.5 |
H1A-C1-H1B型 | 109.5 | N2-C4-H4气体 | 126.4 |
H1A-C1-H1C型 | 109.5 | C3-C4-N2型 | 107.19 (19) |
H1B-C1-H1C型 | 109.5 | C3-C4-H4型 | 126.4 |
C2-C1-H1A型 | 109.5 | O2-N3-O1型 | 119.85 (17) |
C2-C1-H1B型 | 109.5 | O2-N3-O3 | 122.22 (18) |
C2-C1-H1C型 | 109.5 | 臭氧-N3-O1 | 117.93 (16) |
| | | |
N1-C3-C4-N2 | 0.000 (1) | C3-N1-C2-C1 | 180.000 (1) |
C2-N1-C3-C4型 | 0.000 (1) | C4-N2-C2-N1 | 0.000 (1) |
C2-N2-C4-C3型 | 0.000 (1) | C4-N2-C2-C1型 | 180.000 (1) |
C3-N1-C2-N2 | 0.000 (1) | | |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
N1-H1··O1我 | 0.82 (4) | 2.12 (4) | 2.894(2) | 157 (4) |
N1-H1··O3我 | 0.82 (4) | 2.41 (4) | 3.125 (3) | 147 (4) |
N2-H2··O1 | 0.94(3) | 1.83 (3) | 2.760 (2) | 167 (3) |
N2-H2··O2 | 0.94 (3) | 2.50 (3) | 3.231 (2) | 135 (2) |
致谢
作者感谢达喀尔谢赫·安塔·迪奥普大学、加拿大创新基金会和蒙特利尔大学提供的财政支持。
参考文献
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