相关文献
有关标题化合物的应用背景,请参见:清水等。(2011
). 欲了解更多合成细节,请参见:霞多丽和萨拉明(1968
).
实验
水晶数据
C类22H(H)16英国2哦2 M(M)第页= 472.17 单诊所,P(P)21/n个 一= 9.855 (2) Å b= 12.064 (2) Å c(c)= 16.345 (3) Å β= 97.61 (3)° V(V)= 1926.2 (7) Å三 Z轴= 4 钼K(K)α辐射 μ=4.22毫米−1 T型=293千 0.20×0.10×0.10mm
|
数据收集:CAD-4快递(Enraf–Nonius,1994年
); 细胞精细化: CAD-4快递; 数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995年
); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年
); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年
); 分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008年
); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.
支持信息
标题化合物是根据公布的程序合成的(霞多丽和萨拉明,1968)。通过将其(0.5g)溶解在四氢呋喃(20ml)中并在室温下缓慢蒸发溶剂约10d来获得无色嵌段。
H原子被几何定位并细化为骑基团,芳香族H的C-H=0.93º,并限制骑在其母原子上U型国际标准化组织(H)=xU(xU)等式(C) ,其中x个芳香族H=1.2,以及x个其他H=1.5。
数据收集:CAD-4快递(Enraf–Nonius,1994);细胞精细化: CAD-4表达(Enraf–Nonius,1994);数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。
水晶数据 顶部 C类22H(H)16英国2哦2 | F类(000) = 936 |
M(M)第页= 472.17 | D类x个=1.628毫克米−三 |
单诊所,P(P)21/n个 | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:-P 2yn | 25次反射的细胞参数 |
一= 9.855 (2) Å | θ= 10–13° |
b= 12.064 (2) Å | µ=4.22毫米−1 |
c(c)= 16.345 (3) Å | T型=293千 |
β= 97.61 (3)° | 块,无色 |
V(V)= 1926.2 (7) Å三 | 0.20×0.10×0.10mm |
Z轴= 4 | |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 1518次反射我> 2σ(我) |
辐射源:细焦点密封管 | R(右)整数= 0.054 |
石墨单色仪 | θ最大值= 25.2°,θ最小值= 2.1° |
ω/2θ扫描 | 小时=−11→11 |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | k个= 0→14 |
T型最小值= 0.486,T型最大值= 0.678 | 我= 0→19 |
3664次测量反射 | 每200次反射中有3次标准反射 |
3452次独立反射 | 强度衰减:无 |
精细化 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.065 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
水风险(F类2) = 0.133 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.00 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.050P(P))2] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
3452次反射 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
235个参数 | Δρ最大值=0.46埃−三 |
48个约束 | Δρ最小值=−0.40埃−三 |
水晶数据 顶部 C类22H(H)16英国2哦2 | V(V)= 1926.2 (7) Å三 |
M(M)第页= 472.17 | Z轴= 4 |
单诊所,P(P)21/n个 | 钼K(K)α辐射 |
一= 9.855 (2) Å | µ=4.22毫米−1 |
b= 12.064 (2) Å | T型=293千 |
c(c)= 16.345 (3) Å | 0.20×0.10×0.10mm |
β= 97.61 (3)° | |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 1518次反射我> 2σ(我) |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | R(右)整数= 0.054 |
T型最小值= 0.486,T型最大值= 0.678 | 每200次反射中有3次标准反射 |
3664次测量反射 | 强度衰减:无 |
3452次独立反射 | |
精细化 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.065 | 48个约束 |
水风险(F类2) = 0.133 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.00 | Δρ最大值=0.46埃−三 |
3452次反射 | Δρ最小值=−0.40埃−三 |
235个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形.所有e.s.d.(除了两个l.s.平面之间二面角中的e.s.d.)均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时,单独考虑单元e.s.d;只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时,才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。 |
精细化.改进F类2对抗所有反射。加权R(右)-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规R(右)-因素R(右)基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算R(右)-因子(gt)等.与选择反射进行细化无关。R(右)-因素基于F类2在统计上大约是基于F类、和R(右)-基于所有数据的因素将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数(Å2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
溴1 | 0.19197 (8) | 0.40011 (8) | 0.45593 (5) | 0.0639 (3) | |
O1公司 | −0.2881 (7) | 0.1341 (5) | 0.3699 (4) | 0.095 (2) | |
C1类 | −0.6659 (9) | 0.2445 (8) | 0.6544 (5) | 0.105 (4) | |
甲型H1A | −0.6484 | 0.3109 | 0.6864 | 0.158* | |
H1B型 | −0.6483 | 0.1810 | 0.6897 | 0.158* | |
H1C型 | −0.7597 | 0.2436 | 0.6295 | 0.158* | |
溴化氢 | −0.44399 (8) | 0.39910 (9) | 0.28265 (5) | 0.0788 (4) | |
氧气 | 0.0549 (6) | 0.6656 (5) | 0.3651 (3) | 0.0740 (18) | |
指挥与控制 | −0.5731 (9) | 0.2412 (9) | 0.5877 (5) | 0.066 (3) | |
C3类 | −0.5798 (8) | 0.1529 (7) | 0.5314 (5) | 0.060 (2) | |
H3A型 | −0.6427 | 0.0962 | 0.5349 | 0.072* | |
补体第四成份 | −0.4954 (8) | 0.1491 (7) | 0.4718 (5) | 0.059 (2) | |
H4A型 | −0.5023 | 0.0903 | 0.4347 | 0.071* | |
C5级 | −0.3983 (7) | 0.2326 (7) | 0.4658 (4) | 0.045 (2) | |
C6级 | −0.3985 (8) | 0.3206 (7) | 0.5191 (5) | 0.058 (2) | |
H6A型 | −0.3403 | 0.3800 | 0.5138 | 0.070* | |
抄送7 | −0.4805 (10) | 0.3237 (7) | 0.5792 (5) | 0.068 (3) | |
H7A型 | −0.4738 | 0.3832 | 0.6156 | 0.081* | |
C8 | −0.3040 (8) | 0.2209 (7) | 0.4062 (5) | 0.053 (2) | |
C9级 | −0.2155 (7) | 0.3172 (6) | 0.3889 (4) | 0.0425 (18) | |
C10号机组 | −0.0778 (8) | 0.3180 (6) | 0.4244 (4) | 0.0504 (19) | |
H10A型 | −0.0436 | 0.2619 | 0.4603 | 0.061* | |
C11号机组 | 0.0067 (6) | 0.4036 (6) | 0.4052 (4) | 0.0404 (17) | |
第12项 | −0.0358 (7) | 0.4850 (6) | 0.3498 (4) | 0.0422 (18) | |
第13页 | −0.1739 (7) | 0.4818 (6) | 0.3136 (4) | 0.0483 (19) | |
H13A型 | −0.2061 | 0.5361 | 0.2755 | 0.058* | |
第14页 | −0.2627 (7) | 0.4003 (7) | 0.3332 (4) | 0.0464 (18) | |
第15项 | 0.0537 (8) | 0.5788 (7) | 0.3286 (4) | 0.051 (2) | |
第16号 | 0.1406 (7) | 0.5582 (7) | 0.2634 (4) | 0.0385 (18) | |
第17页 | 0.1434 (7) | 0.4579 (7) | 0.2242 (4) | 0.051 (2) | |
H17A型 | 0.0876 | 0.4002 | 0.2374 | 0.062* | |
第18号 | 0.2315 (7) | 0.4427 (7) | 0.1637 (4) | 0.050 (2) | |
H18A型 | 0.2341 | 0.3739 | 0.1383 | 0.060* | |
第19号 | 0.3118 (7) | 0.5248 (8) | 0.1418 (4) | 0.053 (2) | |
C20个 | 0.3079 (8) | 0.6253 (8) | 0.1798 (5) | 0.067 (3) | |
H20A型 | 0.3628 | 0.6828 | 0.1652 | 0.080* | |
C21型 | 0.2236 (8) | 0.6427 (7) | 0.2394 (5) | 0.065 (2) | |
H21A型 | 0.2220 | 0.7120 | 0.2642 | 0.078* | |
C22型 | 0.4080 (8) | 0.5080 (8) | 0.0781 (4) | 0.085 (3) | |
H22A型 | 0.3981 | 0.4339 | 0.0567 | 0.127* | |
H22B水 | 0.5006 | 0.5192 | 0.1033 | 0.127* | |
H22C(H22C) | 0.3864 | 0.5600 | 0.0339 | 0.127* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
溴1 | 0.0470 (5) | 0.0762 (6) | 0.0651 (6) | −0.0002 (5) | −0.0061 (4) | 0.0053 (5) |
O1公司 | 0.116 (6) | 0.083 (5) | 0.098 (5) | −0.033 (4) | 0.055 (4) | −0.022 (4) |
C1类 | 0.081 (7) | 0.159 (11) | 0.087 (7) | 0.057 (7) | 0.054 (6) | 0.042 (7) |
溴2 | 0.0463 (6) | 0.1113 (8) | 0.0740 (7) | −0.0026 (6) | −0.0098 (4) | 0.0075 (6) |
氧气 | 0.091 (5) | 0.074 (5) | 0.064 (4) | −0.010 (4) | 0.039 (3) | −0.018 (3) |
指挥与控制 | 0.058 (6) | 0.095 (8) | 0.046 (5) | 0.018 (5) | 0.013 (5) | 0.029 (6) |
C3类 | 0.045 (5) | 0.065 (6) | 0.072 (6) | −0.006 (4) | 0.013 (5) | 0.018 (5) |
补体第四成份 | 0.054 (5) | 0.076 (6) | 0.049 (5) | 0.005 (5) | 0.010 (4) | 0.011 (5) |
C5级 | 0.042 (5) | 0.056 (5) | 0.040 (5) | −0.009 (4) | 0.012 (4) | 0.002 (4) |
C6级 | 0.052 (5) | 0.074 (7) | 0.047 (5) | −0.013 (5) | 0.002 (4) | −0.009 (5) |
抄送7 | 0.094 (7) | 0.062 (6) | 0.053 (6) | 0.004 (6) | 0.033 (5) | 0.006 (5) |
抄送8 | 0.045 (5) | 0.061 (6) | 0.052 (5) | −0.003 (5) | 0.008 (4) | −0.018 (5) |
C9级 | 0.046 (4) | 0.051 (5) | 0.035 (4) | −0.001 (4) | 0.023 (3) | 0.002 (3) |
C10号机组 | 0.063 (4) | 0.051 (4) | 0.040 (4) | 0.005 (4) | 0.015 (3) | 0.008 (4) |
C11号机组 | 0.038 (4) | 0.045 (4) | 0.041 (4) | 0.005 (3) | 0.012 (3) | −0.003 (4) |
第12项 | 0.050 (4) | 0.056 (5) | 0.026 (4) | 0.002 (4) | 0.022 (3) | 0.006 (3) |
第13页 | 0.054 (4) | 0.058 (5) | 0.032 (4) | 0.010 (4) | 0.000 (3) | 0.014 (4) |
第14页 | 0.047 (4) | 0.056 (4) | 0.037 (4) | 0.001 (4) | 0.010 (3) | −0.001 (4) |
第15项 | 0.052 (5) | 0.071 (7) | 0.032 (5) | −0.005 (5) | 0.011 (4) | −0.006 (4) |
第16号 | 0.034 (4) | 0.058 (5) | 0.025 (4) | 0.005 (4) | 0.008 (3) | 0.001 (4) |
第17页 | 0.043 (5) | 0.078 (6) | 0.037 (5) | −0.001 (4) | 0.023 (4) | −0.001 (4) |
第18号 | 0.046 (5) | 0.050 (5) | 0.055 (5) | 0.005 (4) | 0.007 (4) | 0.001 (4) |
第19号 | 0.042 (5) | 0.085 (7) | 0.032 (5) | 0.015 (5) | 0.010 (4) | 0.010 (5) |
C20个 | 0.063 (6) | 0.083 (8) | 0.056 (6) | −0.025 (5) | 0.016 (5) | 0.010 (5) |
C21型 | 0.065 (6) | 0.074 (6) | 0.060 (6) | −0.011 (5) | 0.019 (5) | 0.003 (5) |
C22型 | 0.070 (6) | 0.136 (9) | 0.054 (6) | −0.015 (6) | 0.032 (5) | 0.004 (6) |
几何参数(λ,º) 顶部 溴-1-C11 | 1.904 (6) | C10-C11号机组 | 1.388 (9) |
O1-C8型 | 1.224 (8) | C10-H10A型 | 0.9300 |
C1-C2类 | 1.514 (10) | C11-C12号机组 | 1.363 (9) |
C1-H1A型 | 0.9600 | C12-C13型 | 1.410 (9) |
C1-H1B型 | 0.9600 | C12-C15型 | 1.503 (9) |
C1-H1C型 | 0.9600 | C13至C14 | 1.382 (9) |
溴代甲烷-C14 | 1.867 (7) | C13-H13A型 | 0.9300 |
氧气-C15 | 1.204 (8) | C15至C16 | 1.475 (9) |
C2-C7型 | 1.369 (11) | C16-C17号 | 1.371 (9) |
C2-C3型 | 1.403 (11) | C16-C21型 | 1.395 (10) |
C3-C4型 | 1.363 (9) | C17-C18型 | 1.411 (9) |
C3-H3A型 | 0.9300 | C17-H17A型 | 0.9300 |
C4-C5型 | 1.402 (10) | C18-C19号 | 1.346 (9) |
C4-H4A型 | 0.9300 | C18-H18A型 | 0.9300 |
C5至C6 | 1.374 (9) | C19-C20型 | 1.365 (10) |
C5-C8型 | 1.439 (9) | C19-C22号 | 1.512 (9) |
C6-C7型 | 1.352 (9) | C20-C21型 | 1.378 (10) |
C6-H6A型 | 0.9300 | C20-H20A型 | 0.9300 |
C7-H7A型 | 0.9300 | C21-H21A型 | 0.9300 |
C8-C9型 | 1.502 (10) | C22-H22A型 | 0.9600 |
C9-C14型 | 1.391 (9) | C22-H22B型 | 0.9600 |
C9-C10型 | 1.404 (9) | C22-H22C型 | 0.9600 |
| | | |
C2-C1-H1A型 | 109.5 | C11-C12-C13型 | 117.0 (7) |
C2-C1-H1B | 109.5 | C11-C12-C15型 | 123.8 (7) |
H1A-C1-H1B型 | 109.5 | C13-C12-C15型 | 119.1 (7) |
C2-C1-H1C型 | 109.5 | C14-C13-C12 | 121.8 (7) |
H1A-C1-H1C型 | 109.5 | C14-C13-H13A | 119.1 |
H1B-C1-H1C型 | 109.5 | C12-C13-H13A型 | 119.1 |
C7-C2-C3号机组 | 117.3 (8) | C13-C14-C9 | 119.8 (6) |
C7-C2-C1号机组 | 121.9 (9) | C13-C14-Br2型 | 120.1 (6) |
C3-C2-C1 | 120.8 (9) | C9-C14-Br2 | 120.1 (6) |
C4-C3-C2型 | 120.9 (8) | 氧气-C15-C16 | 122.5 (7) |
C4-C3-H3A型 | 119.5 | 氧气-C15-C12 | 120.5 (7) |
C2-C3-H3A型 | 119.5 | C16-C15-C12 | 117.0 (7) |
C3-C4-C5型 | 120.9 (8) | C17-C16-C21 | 117.7 (7) |
C3-C4-H4A型 | 119.6 | C17-C16-C15型 | 122.4 (7) |
C5-C4-H4A | 119.6 | C21-C16-C15型 | 119.9 (7) |
C6-C5-C4 | 116.9 (7) | C16-C17-C18型 | 119.6 (7) |
C6-C5-C8型 | 124.1 (8) | C16-C17-H17A型 | 120.2 |
C4-C5-C8型 | 119.0 (8) | C18-C17-H17A | 120.2 |
C7-C6-C5型 | 122.2 (8) | C19-C18-C17 | 121.9 (8) |
C7-C6-H6A型 | 118.9 | C19-C18-H18A型 | 119 |
C5-C6-H6A型 | 118.9 | C17-C18-H18A型 | 119 |
C6-C7-C2型 | 121.6 (9) | C18-C19-C20型 | 118.7 (7) |
C6-C7-H7A型 | 119.2 | C18-C19-C22型 | 121.9 (8) |
C2-C7-H7A型 | 119.2 | C20-C19-C22型 | 119.4 (9) |
O1-C8-C5 | 123.2 (8) | C19-C20-C21号 | 120.8 (8) |
O1-C8-C9 | 117.1 (7) | C19-C20-H20A型 | 119.6 |
C5-C8-C9 | 119.7 (7) | C21-C20-H20A型 | 119.6 |
C14-C9-C10型 | 119.1 (7) | C20-C21-C16型 | 121.2 (8) |
C14-C9-C8 | 121.9 (7) | C20-C21-H21A型 | 119.4 |
C10-C9-C8号机组 | 118.8 (7) | C16-C21-H21A型 | 119.4 |
C11-C10-C9 | 119.2 (7) | C19-C22-H22A型 | 109.5 |
C11-C10-H10A型 | 120.4 | C19-C22-H22B型 | 109.5 |
C9-C10-H10A | 120.4 | H22A-C22-H22B型 | 109.5 |
C12-C11-C10 | 123.1 (7) | C19-C22-H22C型 | 109.5 |
C12-C11-Br1型 | 119.9 (5) | H22A-C22-H22C型 | 109.5 |
C10-C11-溴1 | 117.0 (6) | H22B-C22-H22C型 | 109.5 |
| | | |
C7-C2-C3-C4 | 1.1 (12) | C11-C12-C13-C14 | 0.1 (10) |
C1-C2-C3-C4型 | −179.3 (7) | C15-C12-C13-C14 | −177.3 (7) |
C2-C3-C4-C5型 | 0.8 (12) | C12-C13-C14-C9 | −1.3 (11) |
C3-C4-C5-C6型 | −3.8 (11) | C12-C13-C14-Br2 | −179.4 (5) |
C3-C4-C5-C8型 | 175.1 (7) | C10-C9-C14-C13 | 0.1 (10) |
C4-C5-C6-C7型 | 5.0 (11) | C8-C9-C14-C13号机组 | −174.2 (7) |
C8-C5-C6-C7 | −173.8 (7) | C10-C9-C14-Br2型 | 178.2 (5) |
C5-C6-C7-C2型 | −3.2 (13) | C8-C9-C14-Br2型 | 3.9 (9) |
C3-C2-C7-C6 | 0.0 (12) | C11-C12-C15-O2 | −92.6 (10) |
C1-C2-C7-C6 | −179.6 (8) | C13-C12-C15-O2 | 84.6 (9) |
C6-C5-C8-O1 | 166.2 (8) | C11-C12-C15-C16 | 86.1 (8) |
C4-C5-C8-O1型 | −12.7 (12) | C13-C12-C15-C16 | −96.7 (8) |
C6-C5-C8-C9 | −11.4 (11) | O2-C15-C16-C17型 | 177.2 (7) |
C4-C5-C8-C9 | 169.8 (7) | C12-C15-C16-C17 | −1.4 (10) |
O1-C8-C9-C14型 | 98.5 (9) | O2-C15-C16-C21型 | −2.9 (11) |
C5-C8-C9-C14 | −83.8 (9) | C12-C15-C16-C21 | 178.4 (7) |
O1-C8-C9-C10 | −75.8 (9) | C21-C16-C17-C18 | 1.8 (10) |
C5-C8-C9-C10 | 101.9 (8) | C15-C16-C17-C18 | −178.4 (6) |
C14-C9-C10-C11 | 2.1 (10) | C16-C17-C18-C19 | −1.3 (11) |
C8-C9-C10-C11号机组 | 176.6 (6) | C17-C18-C19-C20 | 0.4 (11) |
C9-C10-C11-C12 | −3.4 (10) | C17-C18-C19-C22 | 178.9 (7) |
C9-C10-C11-Br1 | 179.7 (5) | C18-C19-C20-C21型 | 0.0 (12) |
C10-C11-C12-C13 | 2.2 (10) | C22-C19-C20-C21型 | −178.5 (7) |
溴1-C11-C12-C13 | 179.1 (5) | C19-C20-C21-C16 | 0.5 (12) |
C10-C11-C12-C15 | 179.5 (7) | C17-C16-C21-C20 | −1.4 (11) |
溴-1-C11-C12-C15 | −3.6 (9) | C15-C16-C21-C20 | 178.7 (7) |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C类22H(H)16英国2哦2 |
M(M)第页 | 472.17 |
晶体系统,空间组 | 单诊所,P(P)21/n个 |
温度(K) | 293 |
一,b,c(c)(Å) | 9.855 (2), 12.064 (2), 16.345 (3) |
β(°) | 97.61 (3) |
V(V)(Å三) | 1926.2 (7) |
Z轴 | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 4.22 |
晶体尺寸(mm) | 0.20 × 0.10 × 0.10 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 |
吸收校正 | ψ扫描 (北部等。, 1968) |
T型最小值,T型最大值 | 0.486, 0.678 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 3664, 3452, 1518 |
R(右)整数 | 0.054 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.598 |
|
精细化 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.065, 0.133, 1.00 |
反射次数 | 3452 |
参数数量 | 235 |
约束装置数量 | 48 |
氢原子处理 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.46,−0.40 |