Bis[4-(dimethyl­amino)­pyridinium] octa­aqua­chloridolanthanum(III) tetra­chloride trihydrate

Benslimane, M.; Merazig, H.; Daran, J.-C.; Zeghouan, O.

doi:10.1107/S1600536812040901

金属有机化合物

晶体学
通信

国际标准编号：2056-9890

第68卷| 第11部分| 2012年11月| 第m1321-m1322页

doi:10.1107/S1600536812040901

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双[4-（二甲胺基）-吡啶]八水-氯代甘草胺（III）四氯三水合物

梅里姆·本斯利曼,^一 ^* 霍奇尼·梅拉齐格,^一 Jean-Claude Daran女士 ^b条和瓦希达·泽霍恩 ^一

^一阿尔及利亚君士坦丁门托里大学凯米耶环境与摩尔库莱尔结构研究所、精确科学学院、凯米耶研究所、25000君士坦丁门托里大学和^b条法国图卢兹Cedex 4号，205 route de Narbonne，邮编31077，UPR-CNRS 8241，Chimie de Coordination实验室
^*通信电子邮件：b_meriem80@yahoo.fr

(收到日期：2012年9月25日； 2012年9月28日接受； 2012年10月3日在线)

标题有机-无机盐，（C₇H（H）₁₁N个₂)₂[氯化镧（H₂O）₈]氯离子₄·3小时₂O、由两个4-（二甲基氨基）吡啶和一个[La（H₂O）₈氯离子]²⁺阳离子、四种氯阴离子和三种溶剂水摩尔。在晶体中，各个单元通过N-H…Cl、O-H…Cl、O-H？O和N-H…O氢键连接，形成交替的有机层和无机层网络。4-（二甲基氨基）吡啶阳离子沿c（c）轴，而无机层平行于交流电平面。氯离子位于这些实体之间，与吡啶离子的NH原子和水分子形成氢键。还存在涉及4-（二甲氨基）吡啶阳离子之一的C-H…Cl氢键，导致形成三维超分子结构。

实验

水晶数据

（C）₇H（H）₁₁N个₂)₂[氯化镧（H₂O）₈]氯离子₄·3小时₂O（运行）
M（M）_第页= 760.69
三联诊所， $[P\上一行]$
一= 9.6741 (4) Å
b条= 12.6695 (7) Å
c（c）= 14.3601 (7) Å
α= 68.354 (5)°
β= 75.273 (4)°
γ= 84.264 (4)°
V（V）= 1582.16 (15) Å^三
Z轴= 2
钼K（K）α辐射
μ=1.82毫米⁻¹
T型=180 K
0.43×0.28×0.08毫米

数据收集

牛津Xcalibur Sapphire1衍射仪
吸收校正：多扫描(CrysAlis专业; 安捷伦，2011 )T型_最小值= 0.548,T型_最大值= 0.864
33782次测量反射
7144个独立反射
6518次反射我> 2σ(我)
R（右）_整数=0.038

精炼

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.023
水风险(F类²) = 0.056
S公司= 1.11
7144次反射
320个参数
H原子参数受约束
Δρ_最大值=0.76埃⁻³
Δρ_最小值=-1.03埃⁻³

表1
氢键几何形状（λ，°）

D类-H月A类	D类-H（H）	小时A类	D类⋯A类	D类-H月A类
N2-H2气体A类第五类氯^我	0.86	2.71	3.314 (3)	129
N2-H2气体A类2010年1月W公司^ii（ii）	0.86	2.24	2.909 (3)	134
N4-H4型A类●氯^三	0.86	2.51	3.213 (2)	140
N4-H4型A类●氯^iv（四）	0.86	2.77	3.418 (3)	133
O1-H11和Cl2^五	0.79	2.46	3.2316 (19)	165
O1-H12清除O1W公司^{不及物动词}	0.78	2.01	2.784 (2)	167
氧气W公司-H12型W公司氯乙烷^三	0.85	2.38	3.222 (2)	169
臭氧W公司-H13型W公司●氯离子^vii（七）	0.85	2.51	3.293 (2)	153
O2-H21有机氯^{viii（八）}	0.85	2.32	3.1537 (17)	166
O1公司W公司-H21型W公司●氯1	0.85	2.31	3.1538 (19)	173
O2-H22乙酰氯	0.85	2.27	3.1023 (17)	168
氧气W公司-H22（H22）W公司●氯离子	0.85	2.37	3.213（2）	172
臭氧W公司-H23（H23）W公司●氯离子^五	0.85	2.34	3.193 (2)	176
O3-H31……氯^{viii（八）}	0.84	2.34	3.1471 (17)	160
O3-H32·Cl1^{不及物动词}	0.84	2.36	3.1413 (16)	157
O4-H41…Cl3^{viii（八）}	0.84	2.31	3.1459 (17)	173
O4-H42氧气W公司	0.85	1.95	2.791 (3)	178
O5-H51…Cl1	0.84	2.38	3.1707 (19)	158
O5-H52…Cl2	0.85	2.43	3.241 (2)	160
O6-H61…Cl4	0.84	2.35	3.1708 (17)	164
O6-H62无氯	0.85	2.32	3.1250 (16)	158
O7-H71…Cl5^五	0.84	2.46	3.1402 (17)	139
O7-H72固体氯1	0.84	2.41	3.2287 (18)	162
O8-H81硫酸W公司	0.85	1.94	2.786 (3)	172
O8-H82固体Cl3	0.84	2.48	3.2711 (19)	156
C11-H11A类氯乙烷^三	0.93	2.80	3.612 (3)	147
C14-H14型B类●氯1	0.96	2.75	3.639 (4)	154
对称代码：（i）x个-1,年+1,z（z）; （ii）-x个+1, -年+2, -z（z）+1; （iii）x个,年-1,z（z）; （iv）-x个+1, -年, -z（z）+2; （v）-x个+2, -年+1, -z（z）+1; （vi）x个+1,年,z（z）; （vii）x个,年+1,z（z）; （viii）-x个+2, -年+1, -z（z）+2.

数据收集：CrysAlis专业（安捷伦，2011年); 细胞细化： CrysAlis专业; 数据缩减：CrysAlis专业; 用于求解结构的程序：SIR92型（阿尔托马雷等。, 1993 ); 用于细化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年 ); 分子图形：ORTEPIII公司（伯内特和约翰逊出版社，1996年）)和ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，2012年 ); 用于准备出版材料的软件：SHELXL97型.

支持信息

晶体结构：包含全局数据块I。内政部：10.1107/S1600536812040901/su2504sup1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536812040901/su2504Isup2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

有机-无机杂化化合物因其特殊的磁性（Cui等。，2000），电子（Lacroix等。（1994）和光电特性（Chakravarthy&Guloy，1997）。预计控制晶体组织的堆积相互作用将受到阳离子和阴离子特征的影响，而阳离子和阴离子又会影响固体的特定性质。当阳离子和阴离子能够参与氢键合时，超分子网络变得特别有趣。作为阳离子和阴离子对有机-无机化合物晶体结构影响研究的一部分，我们在此报告了晶体结构标题化合物的名称。这种杂化材料通常表现出由交替的有机-无机层组成的结构，其特征是与其他含有4-（二甲氨基）吡啶（Chao等。, 1977; Mayr-Stein&Bolte，2000年；Lo和Ng，2008年，2009年；孔等。, 2009).

标题结构包含三个阳离子，一个无机[La（H₂O）₈氯离子]²⁺阳离子和两个独立的单质子4-（二甲基氨基）吡啶鎓阳离子、四个氯阴离子和三个水分子（图1）。原子La1由八个距离为2.510（1）至2.588（2）Ye的水分子和一个氯离子与La1-Cl5=2.8829（6）Ye配位。整个结构由沿c轴堆叠的层组成。氯离子位于有机实体之间，与吡啶离子的NH原子和水分子形成氢键（表1）。

每个Cl^-阴离子接受可分为两组的氢键。第一组涉及连接Cl4的氢键^-通过吡啶鎓N4-H4A H原子与两个有机阳离子反应（表1），生成中心对称R₂²（4）图案（伯恩斯坦等。，1995）沿y=1/2处的c轴。第二个4-（二甲氨基）吡啶分子与一个[La（H₂O）₈氯离子]²⁺通过分子间N2-H2A···Cl5的阳离子^我氢键[对称码：（i）]x个- 1,年+ 1,z（z）]这可以用图形集基序D（3）来描述。第二类氢键，其中Cl^-阴离子是受体，是水分子（自由和配位）和氯离子之间的连接^-阴离子。无机[La（H₂O）₈氯离子]²⁺阳离子通过Cl间接连接^-通过分子间O-H··Cl和O-H··O氢键生成循环R的阴离子₂²（8）和R₆²（12）连接阳离子和阴离子实体（图2和表1）。

在4-（二甲氨基）吡啶阳离子中，将二甲氨基取代基连接到吡啶环的N-C键通常较短[1.321（3）和1.324（3）？]。二甲氨基位于吡啶环平面附近，吡啶和二甲胺平面（C/N/C原子）之间的二面角为3.5（3）和2.0（3）°。

在结构层面上，这种材料的原子排列由交替的有机-无机层网络组成。氯离子位于这些实体之间，与吡啶离子的NH原子和水分子形成氢键。还存在涉及4-（二甲氨基）吡啶阳离子之一的C-H··Cl相互作用（表1），这导致形成三维超分子结构。

相关文献顶部

有关有机-无机杂化材料的常见应用，请参见：Cui等。(2000); 拉克鲁瓦等。(1994); Chakravarthy和Guloy（1997年）。有关涉及4-（二甲氨基）吡啶的化合物的晶体结构，请参见：Chao等。(1977); Mayr-Stein和Bolte（2000）；Lo&Ng（2008年、2009年）；Koon公司等。(2009). 有关氢键图案，请参见：伯恩斯坦等。(1995).

实验顶部

将4-（二甲氨基）吡啶（1 mmol，0.08g）和盐酸（1M）缓慢添加到氯化镧溶液中_三.6小时₂O（1mol，0.08g）。将混合物在353 K下回流约1 h，然后冷却至室温。溶剂在室温下的缓慢蒸发导致标题化合物的无色板状晶体的形成。

计算详细信息顶部

数据收集：CrysAlis专业（安捷伦，2011）；细胞细化： CrysAlis专业（安捷伦，2011）；数据缩减：CrysAlis专业（安捷伦，2011）；用于求解结构的程序：92新加坡元（阿尔托马雷等。, 1993); 用于细化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：ORTEPIII公司（Burnett&Johnson，1996）和ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，2012）；用于准备出版材料的软件：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）。

数字顶部

	图1。标题化合物的分子结构，显示原子编号。在50%概率水平上绘制置换椭球。O-H··Cl氢键显示为双虚线。
	图2。标题化合物三维氢键网络A轴上的视图，显示氢键基序R的聚集₂²（4），右₂²（8）和R₆²(12). 氢键被画成虚线。[对称码：（i）-x+2，-y+1，-z+1；（ii）-x/2，-y/1，-z+2；（iii）x-1，y+1，z]。

双[4-（二甲胺基）吡啶]八水氯化物（III）四氯化物三水合物顶部

水晶数据顶部

（C）₇H（H）₁₁N个₂)₂[氯化镧（H₂O）₈]氯离子₄·3小时₂O（运行）	Z轴= 2
M（M）_第页=760.69	F类(000) = 772
三联诊所，P（P）1	D类_x个=1.597毫克⁻^三
大厅符号：-P 1	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
一= 9.6741 (4) Å	22004次反射的细胞参数
b条= 12.6695 (7) Å	θ= 3.0–28.3°
c（c）=14.3601（7）Å	µ=1.82毫米⁻¹
α= 68.354 (5)°	T型=180 K
β= 75.273 (4)°	板，无色
γ= 84.264 (4)°	0.43×0.28×0.08毫米
V（V）= 1582.16 (15) Å^三

数据收集顶部

牛津Xcalibur蓝宝石1 衍射仪	7144独立反射
辐射源：增强（Mo）X射线源	6518次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数=0.038
探测器分辨率：8.2632像素mm^-1	θ_最大值=27.5°，θ_最小值= 3.0°
ω扫描	小时=−12→12
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2011年）	k个=−16→16
T型_最小值= 0.548,T型_最大值= 0.864	我=−18→18
33782次测量反射

精炼顶部

优化于F类²	主原子位置定位：结构-变量直接方法
最小二乘矩阵：完整	二次原子位置：差分傅里叶映射
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.023	氢站点位置：从邻近站点推断
水风险(F类²) = 0.056	H原子参数受约束
S公司= 1.11	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0257P（P）)²+ 0.4439P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+2个F类_c（c）²)/3个
7144次反射	(Δ/σ)_最大值= 0.003
320个参数	Δρ_最大值=0.76埃⁻^三
0个约束	Δρ_最小值=−1.03埃⁻^三

水晶数据顶部

（C）₇H（H）₁₁N个₂)₂[氯化镧（H₂O）₈]氯离子₄·3小时₂O（运行）	γ= 84.264 (4)°
M（M）_第页= 760.69	V（V）= 1582.16 (15) Å^三
三联诊所，P（P）1	Z轴= 2
一= 9.6741 (4) Å	钼K（K）α辐射
b条=12.6695（7）Å	µ=1.82毫米⁻¹
c（c）= 14.3601 (7) Å	T型=180 K
α= 68.354 (5)°	0.43×0.28×0.08毫米
β= 75.273 (4)°

数据收集顶部

牛津Xcalibur蓝宝石1 衍射仪	7144独立反射
吸收校正：多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2011年）	6518次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.548,T型_最大值= 0.864	R（右）_整数=0.038
33782次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.023	0个约束
水风险(F类²) = 0.056	H原子参数受约束
S公司= 1.11	Δρ_最大值=0.76埃⁻^三
7144次反射	Δρ_最小值=−1.03埃⁻^三
320个参数

特殊细节顶部

几何图形键距离、角度等已使用四舍五入分数坐标计算。所有su都是根据（完全）方差-方差矩阵的方差估计的。在估计距离、角度和扭转角时考虑了单元esd

精炼.F的细化²对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F²，传统的R系数R基于F，对于负F，F设置为零²F的阈值表达式²>2西格玛（F²)仅用于计算R系数（gt）等，与选择反射进行细化无关。基于F的R系数²从统计上看，是基于F的因子的两倍，而基于ALL数据的R因子将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
拉丁美洲1	0.98356 (1)	0.46700 (1)	0.74019 (1)	0.0192 (1)
第5条	1.19118 (6)	0.36620 (5)	0.61364 (4)	0.0342 (2)
O1公司	1.12672 (17)	0.62452 (14)	0.58572（13）	0.0428（6）
氧气	0.95865 (16)	0.45114 (13)	0.92689 (11)	0.0297 (5)
臭氧	1.21742 (15)	0.45676 (15)	0.78883 (12)	0.0346 (5)
O4号机组	0.97883 (18)	0.26017 (13)	0.86085 (12)	0.0361 (5)
O5公司	0.85068 (17)	0.34195 (15)	0.68566 (14)	0.0436（6）
O6公司	0.71719 (15)	0.46052 (14)	0.83325 (11)	0.0343 (5)
O7公司	0.83661 (17)	0.59127 (14)	0.61058 (12)	0.0374 (5)
O8号机组	0.93133 (19)	0.65745 (14)	0.76941 (12)	0.0383 (6)
N1型	0.4241 (2)	0.81063 (18)	0.68388（17）	0.0442 (7)
氮气	0.4146 (3)	1.15628 (18)	0.59093 (18)	0.0461 (8)
C1类	0.4218 (2)	0.9227 (2)	0.65305（18）	0.0322（7）
指挥与控制	0.5477 (3)	0.9873 (2)	0.62318 (19)	0.0370 (8)
C3类	0.5401 (3)	1.1014 (2)	0.5933 (2)	0.0416 (8)
补体第四成份	0.2929 (3)	1.0995 (2)	0.6179 (2)	0.0479（9）
C5型	0.2927 (3)	0.9862 (2)	0.6480 (2)	0.0436 (9)
C6级	0.2940 (4)	0.7466 (3)	0.7103 (3)	0.0670 (11)
抄送7	0.5568 (4)	0.7456 (2)	0.6892 (3)	0.0618 (11)
N3号机组	0.4436 (2)	0.07909 (18)	0.85825 (17)	0.0432 (7)
4号机组	0.4840 (2)	−0.26628 (19)	0.94889 (18)	0.0473 (8)
抄送8	0.4561（2）	−0.0328 (2)	0.88707 (17)	0.0334 (7)
C9级	0.3378 (2)	−0.1043 (2)	0.9155 (2)	0.0395 (8)
第10条	0.3548（3）	−0.2174（2）	0.9445 (2)	0.0465 (9)
C11号机组	0.5998 (3)	−0.2022 (2)	0.9229 (2)	0.0444 (8)
第12项	0.5908 (2)	−0.0884 (2)	0.89126 (19)	0.0378 (8)
第13页	0.3050 (3)	0.1370（3）	0.8590 (3)	0.0613 (11)
第14项	0.5691 (4)	0.1508 (3)	0.8259 (3)	0.0609 (11)
第1类	0.54269 (5)	0.45268 (5)	0.68027 (4)	0.0344 (2)
二氧化氯	0.91549 (7)	0.13843 (5)	0.59452 (5)	0.0433 (2)
氯离子	0.97602 (7)	0.78867 (5)	0.91759 (4)	0.0388 (2)
第4类	0.65967 (6)	0.50633 (5)	1.04257（4）	0.0340 (2)
O1瓦	0.42022 (18)	0.63535 (14)	0.50183 (13)	0.0391 (5)
O2瓦	0.9449（3）	0.06121（17）	0.82838 (17)	0.0733 (9)
O3瓦	0.9016 (3)	0.86973 (17)	0.62175 (16)	0.0676 (8)
H11型	1.09960	0.68050	0.54710	0.0640*
H12型	1.20950	0.61670	0.56780	0.0640*
H21型	0.99110	0.39140	0.96650	0.0450*
H22（H22）	0.88380	0.47160	0.96220	0.0450*
第31页	1.22900	0.46190	0.84310	0.0520*
第32页	1.29400	0.44680	0.74990	0.0520*
H41型	0.99590	0.24250	0.91960	0.0540*
H42	0.96630	0.19990	0.85180	0.0540*
H51型	0.76890	0.35990	0.67430	0.0650*
H52型	0.88930	0.29500	0.65740	0.0650*
H61型	0.68810	0.48120	0.88450	0.0510*
H62型	0.65100	0.46360	0.80330	0.0510*
H71型	0.87490	0.61120	0.54710	0.0560*
H72型	0.75130	0.57010	0.62470	0.0560*
H81型	0.92450	0.71900	0.72020	0.0570*
H82型	0.95110	0.67060	0.81790	0.0570*
氢	0.63590	0.95080	0.62430	0.0440*
过氧化氢	0.41240	1.22910	0.57180	0.0550*
H3级	0.62340	1.14270	0.57390	0.0500*
H4型	0.20700	1.13940	0.61560	0.0570*
H5型	0.20670	0.94860	0.66590	0.0520*
H6A型	0.22750	0.76040	0.76690	0.1010*
人6b	0.31660	0.66700	0.72960	0.1010*
H6C型	0.25220	0.77020	0.65180	0.1010美元*
H7A型	0.61200	0.75610	0.62060	0.0920*
H7B型	0.53530	0.66650	0.72600	0.0920*
H7C型	0.61060	0.77130	0.72440	0.0920*
H4A型	0.49240	−0.33900	0.96850	0.0570*
H9型	0.24700	−0.07270	0.91420	0.0470*
H10型	0.27570	−0.26280	0.96190	0.0560*
H11A型	0.68830	−0.23740	0.92680	0.0530*
H12A型	0.67300	−0.04580	0.87200	0.0450*
H13A型	0.25120	0.10850	0.82580	0.0920*
H13B型	0.31940	0.21710	0.82290	0.0920*
H13C型	0.25350	0.12350	0.92890	0.0920*
H14A型	0.61670	0.13040	0.88130	0.0920*
H14B型	0.53970	0.22900	0.80830	0.0920*
H14C型	0.63330	0.14010	0.76690	0.0920*
H11瓦	0.43610	0.61070	0.45270	0.0590*
H21瓦	0.45310	0.59110	0.55210	0.0590*
H12W小时	0.96180	−0.00920	0.85550	0.1100*
H22瓦	0.94090	0.07510	0.76670	0.1100*
H13W型	0.92930	0.93010	0.62480	0.1010*
H23瓦	0.94670	0.86620	0.56370	0.1010*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
拉丁美洲1	0.0199 (1)	0.0190 (1)	0.0202 (1)	0.0010 (1)	−0.0061 (1)	−0.0082 (1)
第5类	0.0366 (3)	0.0363 (3)	0.0326 (3)	0.0084 (2)	−0.0054 (2)	−0.0195 (3)
O1公司	0.0333 (9)	0.0315 (10)	0.0442 (10)	0.0023 (7)	0.0006 (7)	0.0014 (8)
氧气	0.0320（8）	0.0342 (9)	0.0248 (7)	0.0070 (7)	−0.0090 (6)	−0.0129 (7)
臭氧	0.0220 (7)	0.0563（11）	0.0345 (8)	0.0010 (7)	−0.0080 (6)	−0.0258 (8)
O4号机组	0.0578 (11)	0.0232 (9)	0.0292（8）	−0.0007 (7)	−0.0161 (7)	−0.0077 (7)
O5公司	0.0318 (8)	0.0492（11）	0.0738 (13)	0.0131 (8)	−0.0257 (8)	−0.0438 (10)
O6公司	0.0251 (7)	0.0533 (11)	0.0307 (8)	0.0001（7）	−0.0078 (6)	−0.0214 (8)
O7公司	0.0343 (8)	0.0452 (11)	0.0312 (8)	0.0027 (7)	−0.0141 (7)	−0.0083 (8)
O8号机组	0.0621 (11)	0.0244 (9)	0.0325 (9)	0.0036 (8)	−0.0162 (8)	−0.0124 (7)
N1型	0.0510 (13)	0.0267 (12)	0.0516 (13)	−0.0011 (10)	−0.0022 (10)	−0.0167 (10)
氮气	0.0626 (15)	0.0242 (11)	0.0532 (14)	0.0006 (10)	−0.0205 (11)	−0.0114 (10)
C1类	0.0363 (12)	0.0279 (12)	0.0336 (12)	0.0008 (10)	−0.0043 (9)	−0.0153 (10)
指挥与控制	0.0324（12）	0.0374 (14)	0.0396 (13)	0.0019 (10)	−0.0075 (10)	−0.0130 (11)
C3类	0.0449 (14)	0.0366 (15)	0.0413 (14)	−0.0113 (12)	−0.0094 (11)	−0.0093 (12)
补体第四成份	0.0444（15）	0.0405（16）	0.0643 (18)	0.0127 (12)	−0.0178 (13)	−0.0249 (14)
C5型	0.0326 (12)	0.0411 (16)	0.0624 (17)	−0.0019 (11)	−0.0070 (12)	−0.0267 (14)
C6级	0.078 (2)	0.0392 (18)	0.082 (2)	−0.0244 (16)	−0.0016 (18)	−0.0250 (17)
抄送7	0.080 (2)	0.0334 (16)	0.068 (2)	0.0189 (15)	−0.0171 (17)	−0.0187 (15)
N3号机组	0.0473 (12)	0.0294 (12)	0.0466 (12)	0.0040 (10)	−0.0076 (10)	−0.0096 (10)
4号机组	0.0484 (13)	0.0284 (12)	0.0572 (14)	0.0009 (10)	−0.0025 (11)	−0.0133 (11)
抄送8	0.0348 (12)	0.0335 (13)	0.0300 (11)	0.0025 (10)	−0.0070 (9)	−0.0102 (10)
C9级	0.0262 (11)	0.0425 (15)	0.0491 (15)	0.0028 (10)	−0.0077 (10)	−0.0170 (12)
第10条	0.0385 (14)	0.0438 (17)	0.0563 (17)	−0.0104 (12)	−0.0038 (12)	−0.0193 (14)
C11号机组	0.0366（13）	0.0414 (16)	0.0491 (15)	0.0077 (11)	−0.0074 (11)	−0.0130 (13)
第12项	0.0267 (11)	0.0382 (15)	0.0451（14）	−0.0026（10）	−0.0058 (10)	−0.0123 (12)
第13页	0.072 (2)	0.0458 (18)	0.067 (2)	0.0261 (16)	−0.0248 (17)	−0.0222 (16)
第14项	0.076（2）	0.0347 (17)	0.0626 (19)	−0.0163 (15)	−0.0038 (16)	−0.0109 (15)
第1类	0.0247（2）	0.0445 (3)	0.0366 (3)	0.0009 (2)	−0.0099 (2)	−0.0158 (3)
二氧化氯	0.0529 (4)	0.0348 (3)	0.0459 (3)	0.0063 (3)	−0.0157 (3)	−0.0177 (3)
氯离子	0.0485 (3)	0.0358 (3)	0.0342 (3)	0.0040 (3)	−0.0174 (3)	−0.0110 (3)
第4类	0.0317 (3)	0.0403 (3)	0.0372 (3)	0.0066 (2)	−0.0128（2）	−0.0208 (3)
O1瓦	0.0455 (10)	0.0304 (9)	0.0404 (9)	0.0044 (7)	−0.0106 (8)	−0.0125 (8)
第2周	0.138（2）	0.0342 (12)	0.0592 (13)	0.0006 (13)	−0.0433 (14)	−0.0167 (10)
O3瓦	0.1061 (18)	0.0352 (12)	0.0511 (12)	0.0020 (11)	−0.0040 (12)	−0.0139 (10)

几何参数（λ，º）顶部

五氯化镧	2.8829 (6)	O1W-H11W型	0.8500
氧化镧	2.5585 (17)	O1W-H21W型	0.8500
氧化镧	2.5632 (15)	N4-H4A型	0.8600
镧-O3	2.5101 (15)	O2W-H22W型	0.8500
氧化镧	2.5505 (17)	O2W-H12W型	0.8500
氧化镧	2.5710 (19)	O3W-H13W型	0.8500
六氧化镧	2.5775 (15)	O3W-H23W型	0.8500
氧化镧	2.5885 (17)	C1-C2类	1.418（4）
镧-O8	2.5786 (19)	C1-C5号机组	1.419 (4)
O1-H11型	0.7900	C2-C3型	1.348 (4)
O1-H12型	0.7800	C4-C5型	1.338 (4)
氧气-H21	0.8500	C2-H2型	0.9300
氧气-H22	0.8500	C3-H3型	0.9300
臭氧-H31	0.8400	C4-H4型	0.9300
臭氧-H32	0.8400	C5-H5型	0.9300
O4-H41型	0.8400	C6-H6B型	0.9600
O4-H42型	0.8500	C6-H6C型	0.9600
O5-H51型	0.8400	C6-H6A型	0.9600
O5-H52型	0.8500	C7-H7C型	0.9600
O6-H61型	0.8400	C7-H7A型	0.9600
O6-H62型	0.8500	C7-H7B型	0.9600
O7-H71型	0.8400	C8-C9型	1.412 (3)
O7-H72型	0.8400	C8-C12号机组	1.422 (3)
O8-H81型	0.8500	C9-C10型	1.342 (4)
O8点至H82点	0.8400	C11-C12号机组	1.343 (4)
N1-C1型	1.322 (4)	C9-H9	0.9300
N1-C6型	1.456 (5)	C10-H10型	0.9300
N1-C7型	1.458 (4)	C11-H11A型	0.9300
N2-C3气体	1.339 (4)	C12-小时12a	0.9300
N2-C4气体	1.336 (4)	C13-H13B型	0.9600
N2-H2A气体	0.8600	C13-H13A型	0.9600
N3-C8号	1.324 (4)	C13-H13C型	0.9600
编号3-C14	1.462 (5)	C14-H14C型	0.9600
编号3-C13	1.462（4）	C14-H14A型	0.9600
N4-C10型	1.344（4）	C14-H14B型	0.9600
编号4-C11	1.341 (4)

Cl5-La1-O1	70.83 (4)	C4-N2-H2A型	120
Cl5-La1-O2	130.08 (4)	C8-N3-C14号机组	121.1 (2)
Cl5-La1-O3	72.34 (4)	C13-N3-C14型	116.7 (3)
Cl5-La1-O4	78.77 (4)	C8-N3-C13型	122.3 (2)
Cl5-La1-O5	71.63 (4)	C10-N4-C11号机组	120.3 (3)
Cl5-La1-O6	142.42（4）	H11W-O1W-H21W型	112
Cl5-La1-O7	101.27 (4)	C11-N4-H4A型	120
Cl5-La1-O8	139.80（4）	C10-N4-H4A	120
O1-La1-O2	122.67 (5)	H12W-O2W-H22W型	108
O1-La1-O3	77.88 (5)	H13W-O3W-H23W型	107
O1-La1-O4型	146.68 (6)	C2-C1-C5型	115.6 (2)
O1-La1-O5	112.45 (6)	N1-C1-C2型	122.3 (2)
O1-La1-O6型	130.10 (5)	N1-C1-C5	122.0（2）
O1-La1-O7型	65.71 (5)	C1-C2-C3	120.3 (3)
O1-La1-O8型	70.66 (6)	N2-C3-C2气体	121.1 (3)
O2-La1-O3	65.87 (5)	N2-C4-C5气体	121.1 (3)
O2-La1-O4型	68.56 (5)	C1-C5-C4	120.9 (3)
O2-La1-O5	124.62 (6)	C3-C2-H2	120
O2-La1-O6型	70.04（5）	C1-C2-H2	120
O2-La1-O7型	128.53 (5)	C2-C3-H3型	119
O2-La1-O8型	65.90 (5)	N2-C3-H3型	119
O3-La1-O4氧化镧	80.24 (6)	N2-C4-H4气体	119
O3-La1-O5型	135.98 (6)	C5-C4-H4	119
O3-La1-O6型	135.89 (5)	C4-C5-H5型	119
O3-La1-O7型	142.78 (6)	C1-C5-H5型	120
O3-La1-O8型	88.74 (6)	H6A-C6-H6C型	109
O4-La1-O5	68.67 (6)	N1-C6-H6B型	109
O4-La1-O6	82.76 (6)	N1-C6-H6A型	109
O4-La1-O7	135.63 (6)	H6A-C6-H6B型	109
O4-La1-O8型	133.68 (5)	N1-C6-H6C型	109
O5-La1-O6	71.22 (6)	H6B-C6-H6C型	109
O5-La1-O7型	69.44 (6)	H7B-C7-H7C型	109
O5-La1-O8型	135.28（6）	N1-C7-H7A型	109
O6-La1-O7型	70.55 (5)	N1-C7-H7B型	109
O6-La1-O8型	74.49 (6)	H7A-C7-H7B型	109
O7-La1-O8型	72.67 (6)	H7A-C7-H7C型	109
镧-O1-H11	130	N1-C7-H7C型	110
镧-O1-H12	119	N3-C8-C9	122.6 (2)
H11-O1-H12型	111	N3-C8-C12号	121.6 (2)
镧-O2-H21	117	C9-C8-C12型	115.8 (2)
La1-O2-H22	123	C8-C9-C10型	120.8 (2)
H21-O2-H22	108	编号4-C10-C9	121.3 (3)
镧-O3-H31	126	N4-C11-C12型	121.5 (3)
镧-O3-H32	121	C8-C12-C11号机组	120.3 (2)
H31-O3-H32型	113	C10-C9-H9型	120
镧-O4-H41	121	C8-C9-H9型	120
镧-O4-H42	131	N4-C10-H10型	119
H41-O4-H42型	109	C9-C10-H10	119
镧-O5-H51	121	N4-C11-H11A型	119
镧-O5-H52	126	C12-C11-H11A型	119
H51-O5-H52型	110	C11-C12-H12A	120
镧-O6-H61	122	C8-C12-H12A型	120
镧-O6-H62	122	N3-C13-H13B	109
H61-O6-H62型	112	H13A-C13-H13C型	109
镧-O7-H71	119	N3-C13-H13C	109
镧-O7-H72	114	H13A-C13-H13B型	110
H71-O7-H72型	112	N3-C13-H13A号	110
镧-O8-H81	121	H13B-C13-H13C型	109
镧-O8-H82	124	N3-C14-H14C	110
H81-O8-H82型	111	H14A-C14-H14C	109
C1-N1-C6	121.2 (2)	H14B-C14-H14C型	109
C1-N1-C7	121.9 (2)	H14A-C14-H14B	109
C6-N1-C7	116.8 (3)	N3-C14-H14A型	109
C3-N2-C4	121.0 (2)	N3-C14-H14B	109
C3-N2-H2A	119

C6-N1-C1-C2	−177.6 (3)	C5-C1-C2-C3型	0.5 (4)
C7-N1-C1-C2号机组	−0.1（4）	N1-C1-C2-C3	−179.3 (2)
C6-N1-C1-C5	2.6 (4)	C2-C1-C5-C4型	−0.8 (4)
C7-N1-C1-C5	−179.9 (3)	N1-C1-C5-C4	179.1 (2)
C3-N2-C4-C5	0.0 (4)	C1-C2-C3-N2	−0.1（4）
C4-N2-C3-C2	−0.2 (4)	N2-C4-C5-C1型	0.5 (4)
C13-N3-C8-C9	3.4 (4)	C12-C8-C9-C10	0.1（4）
C13-N3-C8-C12型	−176.6 (3)	N3-C8-C9-C10	−179.9 (2)
C14-N3-C8-C12型	2.2 (4)	N3-C8-C12-C11型	178.6 (2)
C14-N3-C8-C9	−177.9 (3)	C9-C8-C12-C11	−1.4 (3)
C11-N4-C10-C9	−0.8 (4)	C8-C9-C10-N4号机组	1.0 (4)
C10-N4-C11-C12	−0.5 (4)	N4-C11-C12-C8号	1.6 (4)

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N2-H2气体A类···第5类^我	0.86	2.71	3.314 (3)	129
N2-H2气体A类···O1公司W公司^ii（ii）	0.86	2.24	2.909 (3)	134
N4-H4型A类···第4类^三	0.86	2.51	3.213 (2)	140
N4-H4型A类···第4类^iv（四）	0.86	2.77	3.418 (3)	133
O1-H11···Cl2^五	0.79	2.46	3.2316 (19)	165
O1-H12···O1W公司^{不及物动词}	0.78	2.01	2.784 (2)	167
氧气W公司-H12型W公司···氯离子^三	0.85	2.38	3.222 (2)	169
臭氧W公司-H13型W公司···二氧化氯^vii（七）	0.85	2.51	3.293 (2)	153
O2-H21···Cl3^{viii（八）}	0.85	2.32	3.1537 (17)	166
O1公司W公司-H21型W公司···第1类	0.85	2.31	3.1538 (19)	173
O2-H22···Cl4	0.85	2.27	3.1023 (17)	168
氧气W公司-H22（H22）W公司···二氧化氯	0.85	2.37	3.213 (2)	172
臭氧W公司-H23（H23）W公司···二氧化氯^五	0.85	2.34	3.193 (2)	176
O3-H31···Cl4^{viii（八）}	0.84	2.34	3.1471 (17)	160
O3-H32···Cl1^{不及物动词}	0.84	2.36	3.1413 (16)	157
O4-H41··Cl3^{viii（八）}	0.84	2.31	3.1459 (17)	173
O4-H42··O2W公司	0.85	1.95	2.791 (3)	178
O5-H51···Cl1	0.84	2.38	3.1707 (19)	158
O5-H52···Cl2	0.85	2.43	3.241 (2)	160
O6-H61···Cl4	0.84	2.35	3.1708 (17)	164
O6-H62···Cl1	0.85	2.32	3.1250 (16)	158
O7-H71···Cl5^五	0.84	2.46	3.1402 (17)	139
O7-H72···Cl1	0.84	2.41	3.2287 (18)	162
O8-H81···O3W公司	0.85	1.94	2.786 (3)	172
O8-H82···Cl3	0.84	2.48	3.2711 (19)	156
C11-H11A类···氯离子^三	0.93	2.80	3.612 (3)	147
C14-H14型B类···氯1	0.96	2.75	3.639 (4)	154

对称代码：（i）x个−1中，年+1,z（z）; （ii）−x个+1,−年+2,−z（z）+1; （iii）x个,年−1中，z（z）; （iv）−x个+1,−年,−z（z）+2; （v）−x个+2,−年+1,−z（z）+1; （vi）x个+1,年,z（z）; （vii）x个,年+1,z（z）; （viii）−x个+2,−年+1,−z（z）+2.

实验细节

水晶数据
化学配方	（C）₇H（H）₁₁N个₂)₂[氯化镧（H₂O）₈]氯离子₄·3小时₂O（运行）
M（M）_第页	760.69
晶体系统，空间组	三联诊所，P（P）1
温度（K）	180
一,b条,c（c）(Å)	9.6741 (4), 12.6695 (7), 14.3601 (7)
α,β,γ(°)	68.354（5）、75.273（4）、84.264（4）
V（V）(Å^三)	1582.16（15）
Z轴	2
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	1.82
晶体尺寸（mm）	0.43 × 0.28 × 0.08

数据收集
衍射仪	牛津Xcalibur蓝宝石1 衍射仪
吸收校正	多扫描 (CrysAlis专业; 安捷伦，2011年）
T型_最小值,T型_最大值	0.548, 0.864
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	33782, 7144, 6518
R（右）_整数	0.038
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.649

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.023, 0.056, 1.11
反射次数	7144
参数数量	320
氢原子处理	H原子参数受约束
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.76,−1.03

计算机程序：CrysAlis专业（安捷伦，2011），92新加坡元（阿尔托马雷等。, 1993),SHELXL97型（谢尔德里克，2008），ORTEPIII公司（Burnett&Johnson，1996）和ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，2012）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
N2-H2A··Cl5^我	0.8600	2.7100	3.314 (3)	129
N2-H2A··O1W^ii（ii）	0.8600	2.2400	2.909 (3)	134
N4-H4A···Cl4^三	0.8600	2.5100	3.213 (2)	140
N4-H4A···Cl4^iv（四）	0.8600	2.7700	3.418 (3)	133
O1-H11···Cl2^五	0.7900	2.4600	3.2316 (19)	165
O1-H12··O1W^{不及物动词}	0.7800	2.0100	2.784 (2)	167
O2W-H12W···Cl3^三	0.8500	2.3800	3.222 (2)	169
O3W-H13W···Cl2^vii（七）	0.8500	2.5100	3.293 (2)	153
O2-H21···Cl3^{viii（八）}	0.8500	2.3200	3.1537 (17)	166
O1W-H21W···Cl1	0.8500	2.3100	3.1538 (19)	173
O2-H22···Cl4	0.8500	2.2700	3.1023 (17)	168
O2W-H22W···Cl2	0.8500	2.3700	3.213（2）	172
O3W-H23W···Cl2^五	0.8500	2.3400	3.193 (2)	176
O3-H31···Cl4^{viii（八）}	0.8400	2.3400	3.1471 (17)	160
O3-H32···Cl1^{不及物动词}	0.8400	2.3600	3.1413 (16)	157
O4-H41··Cl3^{viii（八）}	0.8400	2.3100	3.1459 (17)	173
O4-H42··O2W	0.8500	1.9500	2.791 (3)	178
O5-H51···Cl1	0.8400	2.3800	3.1707 (19)	158
O5-H52···Cl2	0.8500	2.4300	3.241 (2)	160
O6-H61···Cl4	0.8400	2.3500	3.1708（17）	164
O6-H62···Cl1	0.8500	2.3200	3.1250 (16)	158
O7-H71···Cl5^五	0.8400	2.4600	3.1402 (17)	139
O7-H72···Cl1	0.8400	2.4100	3.2287 (18)	162
O8-H81··O3W	0.8500	1.9400	2.786 (3)	172
O8-H82···Cl3	0.8400	2.4800	3.2711 (19)	156
C11-H11A···Cl3^三	0.9300	2.8000	3.612 (3)	147
C14-H14B···Cl1	0.9600	2.7500	3.639 (4)	154

致谢

感谢来自图卢兹UPR-CNRS 8241配位化学实验室的技术支持（X射线测量）。

工具书类

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