Difluoro­[2-(quinolin-2-yl)phenolato]borane

Yang, X.; Xia, M.

doi:10.1107/S1600536811011895

有机化合物

晶体学
通信

国际标准编号：2056-9890

第67卷| 第5部分| 2011年5月| 第o1049页

doi:10.1107/S1600536811011895

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二氟[2-（喹啉-2-基）苯酚]硼烷

西阳 ^一和闵霞 ^一 ^*

^一浙江科技大学化学系，杭州310018，中华人民共和国
^*通信电子邮件：xiamin@hzcnc.com

(2011年3月17日收到； 2011年3月30日接受；在线2011年4月7日)

标题化合物C₁₅H（H）₁₀高炉₂以2-（喹啉-2-基）苯酚和三氟化硼醚为原料合成了NO。喹啉环系统和苯环扭曲，形成8.3（2）°的二面角。在水晶中，π–π芳香环之间的相互作用[质心-质心距离=3.638（9）Ω]将分子链连接成[100]中传播的链。

实验

水晶数据

C类₁₅H（H）₁₀高炉₂不
M（M）_第页= 269.05
三联诊所， $[P\上一行]$
一= 7.4660 (15) Å
b条= 8.6300 (17) Å
c（c）= 9.3420 (19) Å
α= 97.71 (3)°
β= 95.63 (3)°
γ= 92.61 (3)°
V（V）= 592.5 (2) Å^三
Z轴= 2
钼K（K）α辐射
μ=0.12毫米⁻¹
T型=295千
0.46×0.22×0.14毫米

数据收集

Rigaku R-AXIS RAPID衍射仪
吸收校正：多扫描(ABSCOR公司; 东芝，1995年 )T型_最小值= 0.949,T型_最大值= 0.984
4885次测量反射
2169个独立反射
1329次反射我> 2σ(我)
R（右）_整数= 0.025

精炼

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.040
水风险(F类²) = 0.127
S公司= 1.13
2169次反射
182个参数
受约束的氢原子参数
Δρ_最大值=0.29埃⁻³
Δρ_最小值=-0.20埃⁻³

数据收集：快速自动（里加库，1998年 ); 细胞精细化： 快速自动; 数据缩减：晶体结构（里加库/MSC，2002年 ); 用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008年 ); 用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年); 分子图形：ORTEP-3公司（Farrugia，1997年 ); 用于准备出版材料的软件：SHELXL97型和铂（斯佩克，2009年 ).

支持信息

晶体结构：包含全局数据块，I.DOI：10.1107/S1600536811011895/si2346sup1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536811011895/si2346Isup2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

最近，由于新型二氟硼配合物的独特荧光以及在化学和生物领域的重要应用，人们对其合成和性能研究的兴趣日益浓厚等。, 2007]. 其中，具有N，N-和O，O-双齿配体的两种类型主要集中在一起，如硼代吡咯烷[Ulrich等。和1，3，2-二恶英[Ono等。作为相应代表。然而，含N，O-双齿配体的等位类似物报道有限，尤其是那些具有强荧光强度和高量子产率的类似物[周等。, 2008]. 我们报道了基于1,3-氨基酮结构的具有显著强绿色荧光的N，O-双齿二氟硼烷配合物的例子等。, 2008]. 在我们的研究中，我们描述了另一种表现出强氰荧光的络合物。

标题分子（图1）的键长和角度在正常范围内。芳香喹啉[C1–C9/N1]和苯[C10–C15]环以8.3（2）°的二面角扭曲。在晶体结构， π-π芳香环之间的相互作用[Cg1··Cg2¹=3.638（9）奥，对称。代码i=-x个, -年, 1 -z（z）]将分子连接成沿[10.0]方向传播的链，两个芳香平面部分重叠。这个范德瓦尔斯部队进一步稳定晶体填料。

相关文献顶部

有关二氟硼配合物的性质和制备，请参见：Loudet等。(2007); 乌尔里奇等。(2008); 小野等。(2009); 周等。(2008); 夏等。(2008).

实验顶部

在室温下，将三乙胺（21 mmol，2.9 mL）添加到2-喹啉-2-基苯酚（10 mmol，2.21 g）与苯（15 mL）的溶液中，将所得混合物搅拌20 min，并将三氟化硼乙醚（30 mmol，2.8 mL）滴入其中。搅拌约40 min后沉淀大量黄色固体，固体通过过滤收集并用乙醚多次洗涤。在空气中干燥后，以92%的产率获得相应的二氟硼络合物作为亮黄色粉末（熔点537–538 K）。在室温下，将乙醚小心而缓慢地滴入络合物在二氯甲烷中的溶液中，并将所得混合物在密封条件下保持不受任何干扰，直到形成晶体。

计算详细信息顶部

数据收集：快速自动（里加库，1998年）；细胞精细化： 快速自动（里加库，1998年）；数据缩减：晶体结构（里加库/MSC，2002年）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：ORTEP-3公司（Farrugia，1997）；用于准备出版材料的软件：SHELXL97型（Sheldrick，2008）和铂（斯佩克，2009）。

数字顶部

图1。标题分子视图。位移椭球是在30%的概率水平上绘制的。H原子用任意大小的圆表示。

二氟[2-（喹啉-2-基）酚基]硼烷顶部

水晶数据顶部

C类₁₅H（H）₁₀高炉₂不	Z轴= 2
M（M）_第页= 269.05	F类(000) = 276
三联诊所，P（P）1	D类_x个=1.508毫克米⁻^三
大厅符号：-P 1	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
一= 7.4660 (15) Å	3364次反射的单元参数
b条= 8.6300 (17) Å	θ= 3.0–27.4°
c（c）= 9.3420 (19) Å	µ=0.12毫米⁻¹
α= 97.71 (3)°	T型=295千
β= 95.63 (3)°	棱镜，黄色
γ= 92.61 (3)°	0.46×0.22×0.14毫米
V（V）= 592.5 (2) Å^三

数据收集顶部

Rigaku R轴快速衍射仪	2169次独立反射
辐射源：细焦点密封管	1329次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.025
探测器分辨率：10.00像素mm^-1	θ_最大值= 25.4°,θ_最小值= 3.0°
ω扫描	小时=−8→9
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	k=−10→10
T型_最小值= 0.949,T型_最大值= 0.984	我=−11→11
4885次测量反射

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：从邻近站点推断
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.040	受约束的氢原子参数
水风险(F类²) = 0.127	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0631P（P）)²] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.13	(Δ/σ)_最大值< 0.001
2169次反射	Δρ_最大值=0.29埃⁻^三
182个参数	Δρ_最小值=−0.20埃⁻^三
0个约束	消光校正：SHELXL公司，Fc（预测值）^*=kFc[1+0.001xFc²λ^三/罪（2θ)]^-1/4
主原子位置定位：结构-变量直接方法	消光系数：0.033（7）

水晶数据顶部

C类₁₅H（H）₁₀高炉₂不	γ= 92.61 (3)°
M（M）_第页= 269.05	V（V）= 592.5 (2) Å^三
三联诊所，P（P）1	Z轴= 2
一= 7.4660 (15) Å	钼K（K）α辐射
b条= 8.6300 (17) Å	µ=0.12毫米⁻¹
c（c）= 9.3420 (19) Å	T型=295千
α= 97.71 (3)°	0.46×0.22×0.14毫米
β= 95.63 (3)°

数据收集顶部

Rigaku R轴快速衍射仪	2169次独立反射
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	1329次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.949,T型_最大值= 0.984	R（右）_整数= 0.025
4885次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.040	0个约束
水风险(F类²) = 0.127	受约束的氢原子参数
S公司= 1.13	Δρ_最大值=0.29埃⁻^三
2169次反射	Δρ_最小值=−0.20埃⁻^三
182个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（除了两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.）均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时，单元e.s.d.单独考虑；只有当由晶体对称性定义时，才使用电解槽参数中e.s.d.之间的相关性。单元e.s.d.的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类负值设置为零F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²在统计上大约是基于F类、和R（右）-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
一层楼	0.38077 (17)	0.27217 (11)	0.25453 (14)	0.0696 (4)
地上二层	0.07658 (16)	0.22181 (12)	0.23344 (13)	0.0700 (4)
O1公司	0.2311 (2)	0.34773 (14)	0.44802 (16)	0.0710 (5)
N1型	0.26036 (19)	0.06102 (14)	0.37319 (17)	0.0427 (4)
C1类	0.3005 (2)	−0.06216 (19)	0.2687 (2)	0.0441 (5)
指挥与控制	0.3067 (3)	−0.0422 (2)	0.1235 (2)	0.0579 (6)
氢气	0.2826	0.0541	0.0939	0.069*
C3类	0.3479 (3)	−0.1635 (2)	0.0245 (2)	0.0640 (6)
H3级	0.3524	−0.1481	−0.0718	0.077*
补体第四成份	0.3833 (3)	−0.3099 (2)	0.0649 (3)	0.0624 (6)
H4型	0.4125	−0.3905	−0.0037	0.075*
C5级	0.3750 (3)	−0.3344 (2)	0.2044 (3)	0.0563 (6)
H5型	0.3972	−0.4322	0.2313	0.068*
C6型	0.3324 (2)	−0.21077 (19)	0.3095 (2)	0.0465 (5)
抄送7	0.3186 (3)	−0.2317 (2)	0.4545 (2)	0.0554 (5)
H7型	0.3407	−0.3284	0.4840	0.066*
抄送8	0.2735 (3)	−0.1123 (2)	0.5524 (2)	0.0511 (5)
H8型	0.2625	−0.1285	0.6476	0.061*
C9级	0.2435 (2)	0.03633 (18)	0.5099 (2)	0.0425 (4)
C10号机组	0.1944 (2)	0.16571 (19)	0.6148 (2)	0.0441 (5)
C11号机组	0.1542 (3)	0.1444 (2)	0.7542 (2)	0.0556 (5)
H11型	0.1573	0.0449	0.7817	0.067*
第12项	0.1102 (3)	0.2672 (3)	0.8516 (2)	0.0629 (6)
第12页	0.0857	0.2506	0.9442	0.075*
第13页	0.1024 (3)	0.4155 (2)	0.8112 (2)	0.0602 (6)
H13型	0.0710	0.4983	0.8766	0.072*
第14项	0.1407 (3)	0.4412 (2)	0.6757 (2)	0.0591 (6)
H14型	0.1355	0.5411	0.6493	0.071*
第15项	0.1874 (3)	0.3172 (2)	0.5773 (2)	0.0498 (5)
地下一层	0.2359 (3)	0.2321 (2)	0.3236 (3)	0.0502 (6)

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
一层楼	0.0908 (10)	0.0476 (6)	0.0785 (9)	0.0031 (5)	0.0333 (7)	0.0210 (6)
地上二层	0.0803 (9)	0.0602 (7)	0.0707 (9)	0.0220 (6)	−0.0066 (7)	0.0181 (6)
O1公司	0.1229 (14)	0.0395 (7)	0.0548 (10)	0.0104 (7)	0.0259 (9)	0.0080 (6)
N1型	0.0465 (9)	0.0372 (8)	0.0449 (10)	0.0025 (6)	0.0032 (7)	0.0089 (7)
C1类	0.0420 (10)	0.0382 (9)	0.0508 (13)	0.0034 (7)	0.0027 (9)	0.0031 (8)
指挥与控制	0.0719 (14)	0.0489 (10)	0.0536 (14)	0.0113 (9)	0.0089 (11)	0.0057 (9)
C3类	0.0769 (16)	0.0611 (12)	0.0542 (14)	0.0151 (10)	0.0107 (11)	0.0019 (10)
补体第四成份	0.0588 (13)	0.0511 (11)	0.0718 (17)	0.0090 (9)	0.0043 (11)	−0.0112 (11)
C5级	0.0515 (12)	0.0393 (10)	0.0760 (16)	0.0048 (8)	0.0003 (11)	0.0044 (10)
C6型	0.0384 (10)	0.0430 (10)	0.0567 (13)	−0.0010 (7)	−0.0011 (9)	0.0072 (8)
抄送7	0.0554 (12)	0.0402 (10)	0.0724 (15)	0.0034 (8)	0.0011 (11)	0.0179 (9)
抄送8	0.0569 (12)	0.0468 (10)	0.0516 (12)	0.0029 (8)	0.0018 (9)	0.0175 (9)
C9级	0.0390 (10)	0.0449 (9)	0.0442 (12)	−0.0019 (7)	0.0006 (8)	0.0132 (8)
C10号机组	0.0379 (10)	0.0442 (9)	0.0481 (12)	−0.0002 (7)	0.0004 (8)	0.0030 (8)
C11号机组	0.0510 (12)	0.0656 (12)	0.0522 (13)	0.0037 (9)	0.0050 (10)	0.0158 (10)
第12项	0.0570 (13)	0.0839 (15)	0.0485 (13)	0.0044 (10)	0.0110 (10)	0.0080 (11)
第13页	0.0529 (13)	0.0657 (13)	0.0570 (15)	−0.0005 (9)	0.0095 (10)	−0.0106 (11)
第14项	0.0676 (14)	0.0479 (10)	0.0603 (15)	0.0033 (9)	0.0124 (11)	−0.0023 (10)
第15项	0.0556 (12)	0.0499 (11)	0.0440 (12)	−0.0009 (8)	0.0077 (10)	0.0065 (9)
地下一层	0.0666 (15)	0.0391 (11)	0.0489 (14)	0.0099 (9)	0.0138 (12)	0.0133 (9)

几何参数（λ，º）顶部

F1至B1	1.367 (3)	C6至C7	1.403 (3)
F2-B1层	1.381 (3)	C7-C8号机组	1.360 (3)
O1-C15型	1.338 (2)	C7-H7型	0.9300
O1-B1型	1.431 (3)	C8-C9型	1.414 (2)
N1-C9型	1.339 (2)	C8-H8型	0.9300
N1-C1型	1.408 (2)	C9-C10型	1.468 (3)
N1-B1型	1.619 (2)	C10-C11号机组	1.398 (3)
C1-C2类	1.395 (3)	C10-C15号机组	1.400 (3)
C1-C6号机组	1.410 (2)	C11-C12号机组	1.374 (3)
C2-C3型	1.368 (2)	C11-H11	0.9300
C2-H2型	0.9300	C12-C13型	1.384 (3)
C3-C4型	1.396 (3)	C12-H12型	0.9300
C3-H3型	0.9300	C13至C14	1.369 (3)
C4至C5	1.354 (3)	C13-H13型	0.9300
C4-H4型	0.9300	C14-C15号	1.394 (3)
C5至C6	1.420 (3)	C14-H14型	0.9300
C5-H5型	0.9300

Cg1··Cg2^我	3.638 (9)

C15-O1-B1型	124.65 (15)	N1-C9-C8号	120.27 (16)
C9-N1-C1	120.50 (15)	N1-C9-C10型	119.15 (16)
C9-N1-B1	121.28 (15)	C8-C9-C10型	120.58 (18)
C1-N1-B1型	118.22 (15)	C11-C10-C15型	117.48 (17)
C2-C1-N1型	121.58 (16)	C11-C10-C9	122.35 (17)
C2-C1-C6型	118.53 (16)	C15-C10-C9型	120.17 (18)
N1-C1-C6	119.88 (18)	C12-C11-C10	121.6 (2)
C3-C2-C1	120.35 (18)	C12-C11-H11型	119.2
C3-C2-H2	119.8	C10-C11-H11号机组	119.2
C1-C2-H2	119.8	C11-C12-C13型	119.7 (2)
C2-C3-C4型	121.3 (2)	C11-C12-H12型	120.1
C2-C3-H3型	119.3	C13-C12-H12型	120.1
C4-C3-H3型	119.3	C14-C13-C12	120.48 (18)
C5-C4-C3	119.90 (18)	C14-C13-H13型	119.8
C5-C4-H4	120.1	C12-C13-H13型	119.8
C3至C4	120.1	C13-C14-C15型	119.88 (19)
C4-C5-C6	120.01 (18)	C13-C14-H14型	120.1
C4-C5-H5	120	C15-C14-H14型	120.1
C6-C5-H5细胞	120	O1-C15-C14型	118.28 (17)
C7-C6-C1型	118.21 (17)	O1-C15-C10型	120.85 (16)
C7-C6-C5型	121.96 (18)	C14-C15-C10	120.83 (19)
C1-C6-C5型	119.83 (19)	F1-B1-F2层	111.96 (18)
C8-C7-C6	120.81 (17)	F1-B1-O1型	107.42 (17)
C8-C7-H7型	119.6	F2-B1-O1层	111.11 (16)
C6-C7-H7型	119.6	F1-B1-N1型	109.25 (15)
C7-C8-C9	120.25 (19)	F2-B1-N1型	106.83 (15)
C7-C8-H8型	119.9	O1-B1-N1型	110.27 (17)
C9-C8-H8	119.9

对称代码：（i）−x个,−年,−z（z）+1.

实验细节

水晶数据
化学配方	C类₁₅H（H）₁₀高炉₂不
M（M）_第页	269.05
晶体系统，空间组	三联诊所，P（P）1
温度（K）	295
一,b条,c（c）(Å)	7.4660 (15), 8.6300 (17), 9.3420 (19)
α,β,γ(°)	97.71 (3), 95.63 (3), 92.61 (3)
V（V）(Å^三)	592.5 (2)
Z轴	2
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.12
晶体尺寸（mm）	0.46 × 0.22 × 0.14

数据收集
衍射仪	Rigaku R轴快速衍射仪
吸收校正	多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）
T型_最小值,T型_最大值	0.949, 0.984
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	4885, 2169, 1329
R（右）_整数	0.025
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.604

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.040, 0.127, 1.13
反射次数	2169
参数数量	182
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.29,−0.20

计算机程序：快速自动（里加库，1998年），晶体结构（里加库/MSC，2002年），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），ORTEP-3公司（Farrugia，1997），SHELXL97型（Sheldrick，2008）和铂（斯佩克，2009）。

致谢

感谢浙江省自然科学基金（Y4100034）和浙江科技大学研究生创新基金项目（YCX-S10015）的资助。

工具书类

Farrugia，L.J.（1997）。J.应用。克里斯特。 30, 565. 交叉参考 IUCr日志谷歌学者
 Higashi，T.（1995）。ABSCOR公司Rigaku Corporation，日本东京。谷歌学者
 Loudet，A.和Burgess，K.（2007年）。化学。版次。 107, 4891–4932. 科学网交叉参考公共医学中国科学院谷歌学者
 Ono，K.、Hashizume，J.、Yamaguchi，H.、Tomura，M.、Nishida，J.和Yamashita，Y.（2009年）。组织出租。 11, 4326–4329. 科学网交叉参考公共医学中国科学院谷歌学者
 里加库（1998）。快速自动Rigaku Corporation，日本东京。谷歌学者
 里加库/MSC（2002年）。晶体结构。Rigaku/MSC，美国德克萨斯州伍德兰谷歌学者
 Sheldrick，G.M.（2008）。《水晶学报》。一64, 112–122. 科学网交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者
 Spek，A.L.（2009）。《水晶学报》。D类65, 148–155. 科学网交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者
 Ulrich，G.、Ziessel，R.和Harriman，A.（2008）。安圭。化学。国际编辑。 47, 1184–1201. 科学网交叉参考中国科学院谷歌学者
 Xia，M.，Wu，B.&Xiang，G.F.（2008）。氟化学杂志。 129, 402–408. 交叉参考中国科学院谷歌学者
 周瑜、肖瑜、池小明和钱小海（2008）。组织出租。 10, 633–636. 科学网交叉参考公共医学中国科学院谷歌学者