实验
水晶数据
C类9H(H)7N个5·H(H)2O(运行) M(M)第页= 203.21 单诊所,P(P)21/c(c) 一= 17.175 (3) Å b条= 4.0653 (8) Å c(c)= 14.421 (3) Å β= 107.59 (3)° V(V)= 959.8 (3) Å三 Z= 4 钼K(K)α辐射 μ=0.10毫米−1 T型=293千 0.20×0.05×0.05毫米
|
D类-H月A类 | D类-H(H) | 小时A类 | D类⋯A类 | D类-H月A类 | O1-H1型A类·N2我 | 0.90 (4) | 2.07 (4) | 2.957 (4) | 169 (4) | O1-H1型B类●N3ii(ii) | 0.76 (5) | 2.17 (5) | 2.927 (5) | 172 (5) | N4-H4型N个2010年1月 | 0.86 | 1.87 | 2.715 (4) | 169 | N5-H5型N个●N1三 | 0.86 | 2.17 | 3.019 (4) | 171 | 对称代码:(i); (ii); (iii). | |
数据收集:CrystalClear公司(里加库,2005年); 细胞精细化: CrystalClear公司; 数据缩减:CrystalClear公司; 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(Sheldrick,2008年); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(Sheldrick,2008年); 分子图形:SHELXTL公司(Sheldrick,2008年)和钻石(勃兰登堡,2006年); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.
支持信息
所有使用的化学品(试剂级)都是可商购的。6-氰基吲哚是按照Frederick(1949)描述的方法合成的。至NaN搅拌DMF溶液三并加入三乙胺、6-氰基吲哚。然后将混合物加热到120,大约1小时后,将溶液冷却到室温,并在真空中蒸馏DMF。经过一些后续处理,粗产物在甲醇溶液中重结晶,7天后,得到黄色棱柱晶体。
将与C和N原子结合的H原子放置在计算位置,并使用骑乘模型进行细化,其中C-H=0.94ΩU型国际标准化组织(H) =1.2U型等式(C) 或N-H=0.86º和U型国际标准化组织(H) =1.5U型等式(N) 。水分子中的H原子被定位在一个差分图中,并被自由地细化。
数据收集:CrystalClear公司(里加库,2005年);细胞精细化: CrystalClear公司(里加库,2005年);数据缩减:CrystalClear公司(里加库,2005年);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(Sheldrick,2008)和钻石(勃兰登堡,2006);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。
6-(1H(H)-四唑-5-基)-1H(H)-一水合吲哚顶部 水晶数据 顶部 C类9H(H)7N个5·H(H)2O(运行) | F类(000) = 424 |
M(M)第页= 203.21 | D类x个=1.406毫克−三 |
单诊所,P(P)21/c(c) | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:-P 2ybc | 2795次反射的细胞参数 |
一= 17.175 (3) Å | θ= 3.1–27.5° |
b条= 4.0653 (8) Å | µ=0.10毫米−1 |
c(c)= 14.421 (3) Å | T型=293千 |
β= 107.59 (3)° | 针,无色 |
V(V)= 959.8 (3) Å三 | 0.20×0.05×0.05毫米 |
Z= 4 | |
数据收集 顶部 梨谷水星2 衍射仪 | 1683个独立反射 |
辐射源:细焦点密封管 | 945次反射我> 2σ(我) |
石墨单色仪 | R(右)整数= 0.120 |
探测器分辨率:13.6612像素mm-1 | θ最大值= 25.0°,θ最小值= 3.2° |
CCD_Profile_拟合扫描 | 小时=−20→20 |
吸收校正:多扫描 (CrystalClear公司; 里加库,2005年) | k个=−4→4 |
T型最小值= 0.737,T型最大值= 1.000 | 我=−17→17 |
7430次测量反射 | |
精炼 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.066 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
水风险(F类2) = 0.131 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.01 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.0398P(P))2] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
1683次反射 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
144个参数 | Δρ最大值=0.15埃−三 |
0个约束 | Δρ最小值=−0.19埃−三 |
水晶数据 顶部 C类9H(H)7N个5·H(H)2O(运行) | V(V)= 959.8 (3) Å三 |
M(M)第页= 203.21 | Z= 4 |
单诊所,P(P)21/c(c) | 钼K(K)α辐射 |
一= 17.175 (3) Å | µ=0.10毫米−1 |
b条= 4.0653 (8) Å | T型=293千 |
c(c)= 14.421 (3) Å | 0.20×0.05×0.05毫米 |
β= 107.59 (3)° | |
数据收集 顶部 梨谷水星2 衍射仪 | 1683个独立反射 |
吸收校正:多扫描 (CrystalClear公司; 里加库,2005年) | 945次反射我> 2σ(我) |
T型最小值= 0.737,T型最大值= 1.000 | R(右)整数= 0.120 |
7430次测量反射 | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.066 | 0个约束 |
水风险(F类2) = 0.131 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.01 | Δρ最大值=0.15埃−三 |
1683次反射 | Δρ最小值=−0.19埃−三 |
144个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。细胞esd的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的esd。 |
精炼.F的细化2对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F2,传统的R系数R基于F,对于负F,F设置为零2F的阈值表达式2>2西格玛(F2)仅用于计算R系数(gt)等,与选择反射进行细化无关。基于F的R系数2从统计上看,是基于F的因子的两倍,而基于ALL数据的R因子将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
O1公司 | 0.0699 (2) | −0.0517 (10) | 0.1761 (2) | 0.0720 (10) | |
甲型H1A | 0.088 (2) | −0.161 (10) | 0.132 (3) | 0.095 (17)* | |
H1B型 | 0.033 (3) | 0.048 (11) | 0.147 (3) | 0.10 (2)* | |
N1型 | 0.19161 (16) | −0.0016 (7) | 0.5257 (2) | 0.0453 (8) | |
氮气2 | 0.12138 (17) | −0.1708 (7) | 0.5143 (2) | 0.0518 (9) | |
N3号机组 | 0.08061 (16) | −0.1971 (7) | 0.4227 (2) | 0.0509 (9) | |
4号机组 | 0.12440 (15) | −0.0389 (7) | 0.37351 (19) | 0.0415 (8) | |
第4小时 | 0.1108 | −0.0189 | 0.3113 | 0.062* | |
5号机组 | 0.32387 (16) | 0.6304 (7) | 0.21458 (19) | 0.0442 (8) | |
H5N型 | 0.2898 | 0.6026 | 0.1576 | 0.066* | |
C1类 | 0.19266 (19) | 0.0829 (8) | 0.4367 (2) | 0.0349 (8) | |
指挥与控制 | 0.25600 (18) | 0.2697 (8) | 0.4122 (2) | 0.0325 (8) | |
C3类 | 0.25007 (18) | 0.3476 (8) | 0.3176 (2) | 0.0349 (8) | |
H3级 | 0.2048 | 0.2852 | 0.2666 | 0.042* | |
补体第四成份 | 0.31364 (19) | 0.5219 (8) | 0.3008 (2) | 0.0346 (8) | |
C5级 | 0.3976 (2) | 0.7902 (8) | 0.2348 (2) | 0.0436 (9) | |
H5型 | 0.4185 | 0.8834 | 0.1884 | 0.052* | |
C6级 | 0.4357 (2) | 0.7929 (8) | 0.3320 (2) | 0.0394 (9) | |
人6 | 0.4862 | 0.8864 | 0.3636 | 0.047* | |
抄送7 | 0.38315 (18) | 0.6239 (8) | 0.3762 (2) | 0.0339 (8) | |
抄送8 | 0.38770 (19) | 0.5422 (8) | 0.4718 (2) | 0.0403 (9) | |
H8型 | 0.4327 | 0.6052 | 0.5231 | 0.048* | |
C9级 | 0.32503 (18) | 0.3679 (8) | 0.4894 (2) | 0.0382 (9) | |
H9型 | 0.3280 | 0.3136 | 0.5530 | 0.046* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
O1公司 | 0.057 (2) | 0.112 (3) | 0.0391 (17) | 0.0266 (19) | 0.0019 (15) | −0.0135 (18) |
N1型 | 0.0348 (18) | 0.058 (2) | 0.0385 (18) | −0.0073 (16) | 0.0049 (14) | 0.0043 (16) |
氮气2 | 0.0431 (19) | 0.069 (2) | 0.040 (2) | −0.0068 (17) | 0.0080 (16) | 0.0037 (17) |
N3号机组 | 0.0424 (19) | 0.064 (2) | 0.045 (2) | −0.0102 (16) | 0.0113 (16) | 0.0047 (17) |
4号机组 | 0.0327 (16) | 0.056 (2) | 0.0329 (16) | −0.0036 (15) | 0.0047 (14) | 0.0050 (15) |
5号机组 | 0.0454 (18) | 0.057 (2) | 0.0279 (16) | 0.0038 (16) | 0.0071 (13) | 0.0024 (14) |
C1类 | 0.032 (2) | 0.037 (2) | 0.032 (2) | 0.0057 (16) | 0.0037 (16) | −0.0009 (16) |
指挥与控制 | 0.0322 (19) | 0.034 (2) | 0.0292 (19) | 0.0031 (16) | 0.0062 (15) | −0.0008 (15) |
C3类 | 0.0297 (18) | 0.043 (2) | 0.030 (2) | 0.0060 (17) | 0.0047 (15) | −0.0045 (16) |
补体第四成份 | 0.038 (2) | 0.040 (2) | 0.0256 (19) | 0.0101 (18) | 0.0093 (16) | 0.0014 (16) |
C5级 | 0.038 (2) | 0.046 (2) | 0.048 (2) | 0.0017 (19) | 0.0154 (18) | 0.0049 (19) |
C6级 | 0.0371 (19) | 0.045 (2) | 0.034 (2) | −0.0005 (18) | 0.0075 (17) | 0.0021 (17) |
抄送7 | 0.034 (2) | 0.037 (2) | 0.0288 (19) | 0.0045 (16) | 0.0072 (16) | −0.0011 (16) |
抄送8 | 0.035 (2) | 0.051 (2) | 0.029 (2) | −0.0065 (17) | 0.0010 (16) | −0.0045 (17) |
C9级 | 0.041 (2) | 0.047 (2) | 0.0240 (19) | −0.0011 (18) | 0.0052 (16) | −0.0010 (16) |
几何参数(λ,º) 顶部 O1-H1A型 | 0.90 (4) | C2-C9型 | 1.417 (4) |
O1至H1B | 0.77 (4) | C3-C4型 | 1.383 (4) |
N1-C1型 | 1.333 (4) | C3-H3型 | 0.9300 |
N1-N2型 | 1.355 (3) | C4至C7 | 1.413 (4) |
N2-N3气体 | 1.298 (3) | C5至C6 | 1.355 (4) |
N3-N4号机组 | 1.344 (3) | C5-H5型 | 0.9300 |
N4-C1号 | 1.344 (4) | C6至C7 | 1.429 (4) |
N4-H4N型 | 0.8600 | C6-H6型 | 0.9300 |
N5-C5型 | 1.374 (4) | C7-C8 | 1.397 (4) |
N5-C4 | 1.380 (4) | C8-C9型 | 1.375 (4) |
N5-H5N型 | 0.8600 | C8-H8型 | 0.9300 |
C1-C2类 | 1.456 (4) | C9-H9 | 0.9300 |
C2-C3型 | 1.373 (4) | | |
| | | |
H1A-O1-H1B型 | 106 (4) | 编号5-C4-C3 | 130.1 (3) |
C1-N1-N2 | 106.5 (3) | 编号5-C4-C7 | 107.0 (3) |
N3-N2-N1号 | 110.6 (3) | C3-C4-C7型 | 122.9 (3) |
N2-N3-N4气体 | 106.4 (2) | C6-C5-N5型 | 110.5 (3) |
C1-N4-N3型 | 109.3 (3) | C6-C5-H5型 | 124.8 |
C1-N4-H4N | 125.3 | 编号5-C5-H5 | 124.8 |
N3-N4-H4N型 | 125.3 | C5-C6-C7 | 106.6 (3) |
C5-N5-C4 | 108.7 (3) | C5-C6-H6 | 126.7 |
C5-N5-H5N | 125.7 | C7-C6-H6型 | 126.7 |
C4-N5-H5N型 | 125.7 | C8-C7-C4 | 118.2 (3) |
N1-C1-N4 | 107.2 (3) | C8-C7-C6 | 134.5 (3) |
N1-C1-C2型 | 126.7 (3) | C4-C7-C6 | 107.3 (3) |
编号4-C1-C2 | 126.2 (3) | C9-C8-C7 | 119.4 (3) |
C3-C2-C9型 | 120.6 (3) | C9-C8-H8 | 120.3 |
C3-C2-C1 | 121.7 (3) | C7-C8-H8型 | 120.3 |
C9-C2-C1 | 117.7 (3) | C8-C9-C2型 | 121.0 (3) |
C2-C3-C4型 | 117.8 (3) | C8-C9-H9型 | 119.5 |
C2-C3-H3型 | 121.1 | C2-C9-H9型 | 119.5 |
C4-C3-H3型 | 121.1 | | |
| | | |
C1-N1-N2-N3 | 1.0 (4) | C2-C3-C4-N5型 | 179.7 (3) |
N1-N2-N3-N4 | −0.8 (4) | C2-C3-C4-C7型 | −0.6 (4) |
N2-N3-N4-C1 | 0.2 (4) | C4-N5-C5-C6 | −0.7 (4) |
N2-N1-C1-N4 | −0.9 (4) | N5-C5-C6-C7 | 0.1 (4) |
N2-N1-C1-C2 | 179.6 (3) | 编号5-C4-C7-C8 | −179.8 (3) |
N3-N4-C1-N1 | 0.4 (4) | C3-C4-C7-C8 | 0.5 (5) |
N3-N4-C1-C2 | 179.9 (3) | N5-C4-C7-C6 | −0.8 (3) |
N1-C1-C2-C3 | −178.9 (3) | C3-C4-C7-C6 | 179.4 (3) |
N4-C1-C2-C3 | 1.6 (5) | C5-C6-C7-C8 | 179.2 (3) |
N1-C1-C2-C9型 | 1.5 (5) | C5-C6-C7-C4 | 0.4 (3) |
N4-C1-C2-C9 | −177.9 (3) | C4-C7-C8-C9 | −0.2 (5) |
C9-C2-C3-C4 | 0.4 (5) | C6-C7-C8-C9 | −178.8 (3) |
C1-C2-C3-C4型 | −179.1 (3) | C7-C8-C9-C2型 | 0.1 (5) |
C5-N5-C4-C3 | −179.4 (3) | C3-C2-C9-C8 | −0.2 (5) |
C5-N5-C4-C7 | 0.9 (3) | C1-C2-C9-C8 | 179.4 (3) |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
O1-H1型A类···氮气我 | 0.90 (4) | 2.07 (4) | 2.957 (4) | 169 (4) |
O1-H1型B类···第3页ii(ii) | 0.76 (5) | 2.17 (5) | 2.927 (5) | 172 (5) |
N4-H4型N个···O1 | 0.86 | 1.87 | 2.715 (4) | 169 |
N5-H5型N个···N1型三 | 0.86 | 2.17 | 3.019 (4) | 171 |
对称代码:(i)x个,−年−1/2,z(z)−1/2; (ii)−x个,年+1/2,−z(z)+1/2; (iii)x个,−年+1/2,z(z)−1/2. |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C类9H(H)7N个5·H(H)2O(运行) |
M(M)第页 | 203.21 |
晶体系统,空间组 | 单诊所,P(P)21/c(c) |
温度(K) | 293 |
一,b条,c(c)(Å) | 17.175 (3), 4.0653 (8), 14.421 (3) |
β(°) | 107.59 (3) |
V(V)(Å三) | 959.8 (3) |
Z | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 0.10 |
晶体尺寸(mm) | 0.20 × 0.05 × 0.05 |
|
数据收集 |
衍射仪 | 梨谷水星2 衍射仪 |
吸收校正 | 多扫描 (CrystalClear公司; 里加库,2005年) |
T型最小值,T型最大值 | 0.737, 1.000 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 7430, 1683, 945 |
R(右)整数 | 0.120 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.594 |
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精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.066, 0.131, 1.01 |
反射次数 | 1683 |
参数数量 | 144 |
氢原子处理 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.15,−0.19 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
O1-H1A···N2我 | 0.90 (4) | 2.07 (4) | 2.957 (4) | 169 (4) |
O1-H1B···N3ii(ii) | 0.76 (5) | 2.17 (5) | 2.927 (5) | 172 (5) |
N4-小时n··O1 | 0.86 | 1.87 | 2.715 (4) | 169 |
N5-H5N··N1三 | 0.86 | 2.17 | 3.019 (4) | 171 |
对称代码:(i)x个,−年−1/2,z(z)−1/2; (ii)−x个,年+1/2,−z(z)+1/2; (iii)x个,−年+1/2,z(z)−1/2. |