4,5-Diaza-9H-fluoren-9-imine

Cang, H.; Ji, J.-X.; Wang, S.-Q.; Wang, J.-T.

doi:10.1107/S1600536810020441

有机化合物

晶体学
通信

编号：2056-9890

第66卷| 第7部分| 2010年7月| 第o1802页

doi:10.1107/S1600536810020441

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4,5-二氮杂-9H（H）-芴-9-亚胺

惠仓,^一金秀记,^b条王思青（Si-Qing Wang）^c（c）和金堂王 ^c（c）^*

^一盐城工学院化学与生物工程学院，盐城224051，中华人民共和国，^b条中化江苏公司研发中心，中国南京210005，以及^c（c）南京理工大学理学院应用化学系，南京210009，中华人民共和国
^*通信电子邮件：canghui@ycit.edu.cn

(收到日期：2010年5月14日； 2010年5月29日接受； 2010年6月26日在线)

在标题化合物中，C₁₁H（H）₇N个_三重氮芴环几乎共面，均方根误差为0.0160º。在晶体结构，C-H…N氢键将分子连接成平行于ab公司平面。分子也沿着c（c）轴由各种π–π质心-质心距离在3.527（2）-3.908（2）°范围内的相互作用。

实验

水晶数据

C类₁₁H（H）₇N个_三
M（M）_第页= 181.20
单诊所，P（P）2₁/c（c）
一= 10.008 (2) Å
b条= 12.407 (3) Å
c（c）= 6.8140 (14) Å
β= 99.74 (3)°
V（V）= 833.9 (3) Å^三
Z轴= 4
钼K（K）α辐射
μ=0.09毫米⁻¹
T型=293千
0.30×0.10×0.10mm

数据收集

Enraf–Nonius CAD-4衍射仪
吸收校正：ψ扫描（北方等。, 1968 )T型_最小值= 0.973,T型_最大值= 0.991
1638次测量反射
1503独立反射
1010次反射我> 2σ(我)
对_整数= 0.022
每200次反射强度衰减3次标准反射：无

精炼

对[F类²> 2σ(F类²)] = 0.066
水风险(F类²) = 0.194
S公司= 1.06
1503次反射
127个参数
40个约束
受约束的氢原子参数
Δρ_最大值=0.28埃⁻³
Δρ_最小值=-0.21埃⁻³

表1
氢键几何形状（λ，°）

D类-H月A类	D类-H（H）	H月A类	D类⋯A类	D类-H月A类
C11-H11型A类●N3^我	0.93	2.45	3.382 (4)	178
C4-H4型A类●N1^ii（ii）	0.93	2.69	3.536 (4)	152
对称代码：（i） $[-x+1，y+{\script{1\over2}}，-z+{\sscript{1\ower2}}]$ ; （ii）-x个+2, -年+1, -z（z）+1.

数据收集：CAD-4软件（恩拉夫·诺尼乌斯，1985年 ); 细胞精细化： CAD-4软件; 数据缩减：XCAD4公司（Harms&Wocadlo，1995年 ); 用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008年 ); 用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年); 分子图形：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008年); 用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司.

支持信息

晶体结构：包含全局数据块I。内政部：10.1107/S1600536810020441/sj5007补充1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536810020441/sj5007Isup2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

4,5-二氮芴-9-胺是一种重要的配体，用于合成具有有趣光化学性质的配合物（Wang&Rillema，1997）。这里我们报告晶体结构标题化合物（I）。

（I）的分子结构如图1所示，所选几何参数如表1所示。粘结长度和角度（表1）在正常范围内（Allen等。, 1987). 重氮芴环几乎共面，均方根偏差为0.0160º。

在晶体结构C-H··N氢键将分子连接成平行于ab公司平面，表1。广泛的系统π–π触点以相反的方式向下堆叠分子c（c）轴，图2，Cg1··Cg1=3.876（2）/%A，Cg2··Cg 2=3.572（2）/%A，Gg（3）··Cc3=3.908（2）和Cg1•·Cg2 3.776（2。对称运算x，1/2-y，1/2+z，以及x，1/2y，-1/2+z；Cg1、Cg2和Cg3是C2、C3、C5、C7、C8的质心；N2、C1、C2、C3、C4、C5和N3、C6、C7、C10、C11环。

相关文献顶部

关于标题化合物在合成具有有趣光化学性质的配合物和合成中的用途，请参见：Wang和Rillema（1997）。有关参考键长数据，请参见：Allen等。(1987).

实验顶部

标题化合物是通过文献报道的方法合成的（Wang和Rillema，1997）。通过将化合物（2.0 g，11.0 mmol）溶解在乙酸乙酯（50 ml）中，并在室温下缓慢蒸发溶剂约5 d，获得晶体。

计算详细信息顶部

数据收集：CAD-4软件（Enraf–Nonius，1985）；细胞精细化： CAD-4软件（Enraf–Nonius，1985）；数据缩减：XCAD4公司（Harms和Wocadlo，1995年）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）；用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）。

数字顶部

	图1。标题分子结构图，带有原子编号方案。位移椭球是在50%的概率水平上绘制的。
	图2。（I）的包装图。氢键被画成虚线。

4,5-二氮杂-9H（H）-芴-9-亚胺顶部

水晶数据顶部

C类₁₁H（H）₇N个_三	F类(000) = 376
M（M）_第页= 181.20	D类_x个=1.443毫克⁻^三
单诊所，P（P）2₁/c（c）	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：-P 2ybc	25次反射的细胞参数
一= 10.008 (2) Å	θ= 10–13°
b条= 12.407 (3) Å	µ=0.09毫米⁻¹
c（c）= 6.8140 (14) Å	T型=293千
β= 99.74 (3)°	块，无色
V（V）= 833.9 (3) Å^三	0.30×0.10×0.10mm
Z轴= 4

数据收集顶部

Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪	1010次反射我> 2σ(我)
辐射源：细焦点密封管	对_整数= 0.022
石墨单色仪	θ_最大值= 25.3°,θ_最小值= 2.1°
ω/2θ扫描	小时=−11→11
吸收校正：ψ扫描（北部等。, 1968)	k个= 0→14
T型_最小值= 0.973,T型_最大值= 0.991	我= 0→8
1638次测量反射	每200次反射中有3次标准反射
1503独立反射	强度衰减：无

精炼顶部

优化于F类²	主原子位置定位：结构-变量直接方法
最小二乘矩阵：完整	二次原子位置：差分傅里叶映射
对[F类²> 2σ(F类²)] = 0.066	氢站点位置：从邻近站点推断
水风险(F类²) = 0.194	受约束的氢原子参数
S公司= 1.06	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0948P（P）)²+ 0.5792P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
1503次反射	(Δ/σ)_最大值< 0.001
127个参数	Δρ_最大值=0.28埃⁻^三
40个约束	Δρ_最小值=−0.21埃⁻^三

水晶数据顶部

C类₁₁H（H）₇N个_三	V（V）= 833.9 (3) Å^三
M（M）_第页= 181.20	Z轴= 4
单诊所，P（P）2₁/c（c）	钼K（K）α辐射
一= 10.008 (2) Å	µ=0.09毫米⁻¹
b条= 12.407 (3) Å	T型=293千
c（c）= 6.8140 (14) Å	0.30×0.10×0.10mm
β= 99.74 (3)°

数据收集顶部

Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪	1010次反射我> 2σ(我)
吸收校正：ψ扫描（北部等。, 1968)	对_整数= 0.022
T型_最小值= 0.973,T型_最大值= 0.991	每200次反射中有3次标准反射
1638次测量反射	强度衰减：无
1503独立反射

精炼顶部

对[F类²> 2σ(F类²)] = 0.066	40个约束
水风险(F类²) = 0.194	受约束的氢原子参数
S公司= 1.06	Δρ_最大值=0.28埃⁻^三
1503次反射	Δρ_最小值=−0.21埃⁻^三
127个参数

特殊细节顶部

几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd（除了两个l.s.平面之间二面角的esd）。在估计距离、角度和扭转角的esd时，单独考虑单元esd；细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。细胞esd的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的esd。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权对-系数wR和拟合优度S公司基于F类²，常规对-因素对基于F类，使用F类负值设置为零F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算对-因子（gt）等，并且与用于细化的反射的选择无关。对-因素基于F类²在统计上大约是基于F类、和对-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
N1型	0.8062 (3)	0.5097 (2)	0.3404 (5)	0.0530 (8)
上半年	0.7491	0.5497	0.3246	0.079*
氮气	0.7922 (3)	0.1271 (2)	0.3022 (4)	0.0488 (8)
N3号机组	0.5012 (3)	0.2137 (2)	0.2363 (4)	0.0455 (7)
C1类	0.9253 (4)	0.1124 (3)	0.3376 (5)	0.0540 (10)
甲型H1A	0.9567	0.0418	0.3391	0.065*
指挥与控制	0.7547 (3)	0.2304 (2)	0.3049 (5)	0.0410 (8)
C3类	0.8433 (3)	0.3171 (2)	0.3340 (4)	0.0389 (8)
补体第四成份	0.9804 (4)	0.2998 (3)	0.3749 (5)	0.0508 (9)
H4A型	1.0425	0.3559	0.4027	0.061*
C5级	1.0202 (4)	0.1925 (3)	0.3720 (6)	0.0545 (10)
H5A型	1.1119	0.1751	0.3935	0.065*
C6级	0.6122 (3)	0.2709 (2)	0.2711 (4)	0.0360 (7)
抄送7	0.6173 (3)	0.3850 (2)	0.2811 (5)	0.0422 (8)
抄送8	0.7604 (3)	0.4188 (2)	0.3239 (5)	0.0441 (8)
C9级	0.3856 (3)	0.2703 (3)	0.2096 (5)	0.0496 (9)
H9A型	0.3044	0.2324	0.1837	0.060*
C10号机组	0.3791 (3)	0.3820 (3)	0.2181 (6)	0.0546 (10)
H10A型	0.2955	0.4167	0.2002	0.066*
C11号机组	0.4973 (3)	0.4412 (3)	0.2531 (5)	0.0505 (9)
H11A型	0.4959	0.5161	0.2576	0.061*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
N1型	0.0453 (17)	0.0273 (15)	0.083 (2)	−0.0112 (13)	0.0014 (15)	0.0041 (14)
氮气	0.0498 (18)	0.0401 (16)	0.0546 (17)	0.0120 (14)	0.0033 (13)	0.0013 (13)
N3号机组	0.0466 (17)	0.0278 (14)	0.0614 (17)	−0.0041 (12)	0.0071 (13)	−0.0015 (12)
C1类	0.058 (2)	0.041 (2)	0.063 (2)	0.0158 (18)	0.0088 (17)	0.0032 (17)
指挥与控制	0.0445 (18)	0.0317 (17)	0.0454 (18)	0.0036 (14)	0.0032 (14)	−0.0001 (14)
C3类	0.0430 (18)	0.0370 (17)	0.0380 (15)	−0.0060 (14)	0.0105 (13)	0.0004 (13)
补体第四成份	0.045 (2)	0.046 (2)	0.059 (2)	−0.0079 (16)	0.0011 (16)	0.0065 (16)
C5级	0.0399 (19)	0.065 (3)	0.058 (2)	0.0084 (18)	0.0070 (15)	0.0018 (18)
C6级	0.0387 (16)	0.0285 (16)	0.0390 (16)	−0.0005 (13)	0.0011 (12)	−0.0013 (12)
抄送7	0.0478 (19)	0.0246 (16)	0.0516 (18)	−0.0031 (14)	0.0013 (14)	0.0001 (13)
抄送8	0.0497 (19)	0.0282 (16)	0.0536 (19)	−0.0097 (15)	0.0062 (15)	−0.0024 (14)
C9级	0.0339 (18)	0.045 (2)	0.068 (2)	−0.0037 (15)	0.0030 (15)	−0.0008 (17)
C10号机组	0.045 (2)	0.040 (2)	0.079 (3)	0.0097 (17)	0.0094 (17)	−0.0004 (18)
C11号机组	0.056 (2)	0.0250 (17)	0.069 (2)	0.0054 (16)	0.0049 (17)	0.0010 (16)

几何参数（λ，º）顶部

N1-C8型	1.216 (4)	C4-C5型	1.391 (5)
N1-H1型	0.7500	C4-H4A型	0.9300
N2-C1气体	1.325 (4)	C5-H5A型	0.9300
N2-C2气体	1.336 (4)	C6至C7	1.417 (4)
编号3-C6	1.305 (4)	C7-C11号机组	1.373 (4)
N3-C9型	1.340 (4)	C7-C8号机组	1.473 (4)
C1-C5型	1.367 (5)	C9-C10型	1.389 (5)
C1-H1A型	0.9300	C9-H9A型	0.9300
C2-C3型	1.386 (4)	C10-C11号机组	1.379 (5)
C2-C6型	1.493 (4)	C10-H10A型	0.9300
C3-C4型	1.371 (5)	C11-H11A型	0.9300
C3-C8型	1.505 (4)

C8-N1-H1型	109.5	N3-C6-C7型	125.1 (3)
C1-N2-C2型	113.9 (3)	编号3-C6-C2	127.3 (3)
C6-N3-C9	115.4 (3)	C7-C6-C2型	107.6 (3)
N2-C1-C5	125.4 (3)	C11-C7-C6	118.5 (3)
N2-C1-H1A型	117.3	C11-C7-C8型	132.9 (3)
C5-C1-H1A	117.3	C6-C7-C8型	108.6 (3)
N2-C2-C3气体	124.9 (3)	N1-C8-C7型	128.4 (3)
N2-C2-C6气体	125.7 (3)	N1-C8-C3	125.3 (3)
C3-C2-C6	109.4 (3)	C7-C8-C3	106.3 (2)
C4-C3-C2型	120.1 (3)	N3-C9-C10型	124.3 (3)
C4-C3-C8型	131.7 (3)	N3-C9-H9A型	117.9
C2-C3-C8型	108.0 (3)	C10-C9-H9A型	117.9
C3-C4-C5型	115.2 (3)	C11-C10-C9	119.5 (3)
C3-C4-H4A型	122.4	C11-C10-H10A型	120.2
C5-C4-H4A	122.4	C9-C10-H10A	120.2
C1-C5-C4	120.4 (3)	C7-C11-C10型	117.3 (3)
C1-C5-H5A型	119.8	C7-C11-H11A型	121.3
C4-C5-H5A型	119.8	C10-C11-H11A型	121.3

C2-N2-C1-C5型	−0.8 (5)	编号3-C6-C7-C11	0.2 (5)
C1-N2-C2-C3型	2.3 (5)	C2-C6-C7-C11型	179.6 (3)
C1-N2-C2-C6	−179.7 (3)	编号3-C6-C7-C8	179.7 (3)
N2-C2-C3-C4	−4.0 (5)	C2-C6-C7-C8型	−0.9 (4)
C6-C2-C3-C4型	177.8 (3)	C11-C7-C8-N1	−1.9 (6)
N2-C2-C3-C8	179.3 (3)	C6-C7-C8-N1	178.7 (4)
C6-C2-C3-C8型	1.1 (3)	C11-C7-C8-C3	−179.1 (3)
C2-C3-C4-C5型	3.7 (5)	C6-C7-C8-C3	1.5 (4)
C8-C3-C4-C5	179.5 (3)	C4-C3-C8-N1	5.0 (6)
N2-C1-C5-C4型	1.0 (6)	C2-C3-C8-N1型	−178.9 (3)
C3-C4-C5-C1型	−2.4 (5)	C4-C3-C8-C7	−177.8 (3)
C9-N3-C6-C7	−0.2 (5)	C2-C3-C8-C7	−1.6 (3)
C9-N3-C6-C2	−179.5 (3)	C6-N3-C9-C10	−0.4 (5)
N2-C2-C6-N3	1.0 (5)	N3-C9-C10-C11号	1.0 (6)
C3-C2-C6-N3	179.3 (3)	C6-C7-C11-C10	0.4 (5)
N2-C2-C6-C7型	−178.4 (3)	C8-C7-C11-C10	−179.0 (3)
C3-C2-C6-C7型	−0.1 (3)	C9-C10-C11-C7	−0.9 (5)

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
C11-H11型A类···第3页^我	0.93	2.45	3.382 (4)	178
C4-H4型A类···N1型^ii（ii）	0.93	2.69	3.536 (4)	152

对称代码：（i）−x个+1,年+1/2,−z（z）+1/2; （ii）−x个+2,−年+1,−z（z）+1.

实验细节

水晶数据
化学配方	C类₁₁H（H）₇N个_三
M（M）_第页	181.20
水晶系统，太空组	单诊所，P（P）2₁/c（c）
温度（K）	293
一,b条,c（c）(Å)	10.008 (2), 12.407 (3), 6.8140 (14)
β(°)	99.74 (3)
V（V）(Å^三)	833.9 (3)
Z轴	4
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.09
晶体尺寸（mm）	0.30 × 0.10 × 0.10

数据收集
衍射仪	Enraf–Nonius CAD-4公司衍射仪
吸收校正	ψ扫描（北部等。, 1968)
T型_最小值,T型_最大值	0.973, 0.991
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	1638, 1503, 1010
对_整数	0.022
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.601

精炼
对[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.066, 0.194, 1.06
反射次数	1503
参数数量	127
约束装置数量	40
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.28,−0.21

计算机程序：CAD-4软件（Enraf–Nonius，1985），XCAD4公司（Harms&Wocadlo，1995），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
C11-H11A···N3^我	0.93	2.45	3.382 (4)	178.1
C4-H4A··N1^ii（ii）	0.93	2.69	3.536 (4)	151.5

对称代码：（i）−x个+1,年+1/2,−z（z）+1/2; （ii）−x个+2,−年+1,−z（z）+1.

致谢

作者感谢南京大学测试与分析中心的数据收集。

工具书类

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