4-Amino-2,3,5-trimethyl­pyridine monohydrate

Dai, L.-Y.; Zhang, F.-L.; Shen, L.; Chen, Y.-Q.

doi:10.1107/S1600536809016833

有机化合物

晶体学
通信

国际标准编号：2056-9890

第65卷| 第6部分| 2009年6月| 第1329页

doi:10.1107/S1600536809016833

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4-氨基-2,3,5-三甲基吡啶一水合物

李彦戴,^一 ^* 张福良,^b条梁申 ^b条和陈英琪 ^一

^一浙江大学化学工程系，中华人民共和国杭州，以及^b条杭州师范大学材料化学与化学工程学院，中华人民共和国杭州
^*通信电子邮件：dailiyan@zju.edu.cn

(收到日期：2009年3月30日； 2009年5月5日接受；在线2009年5月20日)

在标题化合物中，C₈小时₁₂N个₂·H（H）₂O、四个取代吡啶分子与四个水分子交替，形成一个大环通过O（运行）_水-H·N_吡啶和N_胺-H？O型_水氢键。相邻的环已连接通过O（运行）_水-H？O型_水氢键，形成三维网络。

实验

水晶数据

C类₈小时₁₂N个₂·H（H）₂O（运行）
M（M）_第页= 154.21
正方形， $[P\overline 42_1 c]$
一= 19.5710 (9) Å
c（c）= 4.8819 (2) Å
V（V）= 1869.89 (14) Å^三
Z轴= 8
钼K（K）α辐射
μ=0.07毫米⁻¹
T型=296千
0.33×0.27×0.22毫米

数据收集

Rigaku R轴快速衍射仪
吸收校正：多扫描(ABSCOR公司; 东芝，1995年 )T型_最小值= 0.967,T型_最大值= 0.984
17243次测量反射
1250个独立反射
951次反射F类²> 2.0σ(F类²)
R（右）_整数= 0.045

精炼

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035
水风险(F类²)=0.088
S公司= 1.00
1250次反射
101参数
受约束的氢原子参数
Δρ_最大值=0.23埃⁻³
Δρ_最小值=-0.20埃⁻³

表1
氢键几何形状（λ，°）

D类-H月A类	D类-H（H）	H月A类	D类⋯A类	D类-H月A类
O1-H101和N1	0.86	1.91	2.771 (2)	178
O1-H102清除O1^我	0.85	1.93	2.778 (2)	173
N2-H202乙醚^ii（ii）	0.87	2.17	3.009 (2)	161
对称代码：（i） $[-y+｛\script｛1\over 2｝｝｝，-x+｛\script｛1\over 2｝｝，z-｛\script｛1\over 2｝｝]$ ; （ii）年, -x个+1, -z（z）+1.

数据收集：自动处理（里加库，2007年 ); 细胞精细化： 自动处理; 数据缩减：晶体结构（里加库，2007年); 用于求解结构的程序：架子97（谢尔德里克，2008年 ); 用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年); 分子图形：ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997年 ); 用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年 ).

支持信息

晶体结构：包含数据块General，I.DOI：10.1107/S1600536809016833/fl2246补充1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536809016833/fl2246发行2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

由于吡啶胺衍生物具有显著的生物活性，人们对其继续感兴趣（史密斯等。, 2005; 缀等。以及它们作为重要的化学中间体在形成具有生物活性的多种分子中的作用（Birault等。, 2005; 戈登等。, 1996; 玩家等。, 2007). 一般来说，含氨基的化合物可用于制备席夫碱配体，席夫碱配位体在配位化学的发展中起着重要作用，因为它们可以容易地与大多数金属离子形成稳定的配合物（Lin等。, 2005; 于等。, 2005; 周等。, 2005). 作为我们对此类化合物持续研究的一部分，我们在这里报告了合成和晶体结构一种新的吡啶胺衍生物（图1）。氢键相互作用在该化合物的固态结构中起着重要作用，正如之前报道的类似结构一样（Li等。，2008年；谢等。, 2008). 如图2所示，四个吡啶分子和四个水分子交替连接在一起形成一个大环通过O（运行）_水—小时···N个_吡啶和N_胺-H··O_水氢键（表1）。相邻的环相连，形成一个三维网络通过O（运行）_水-H··O_水氢键结合。在氢键环的堆叠中可以看到通道。通道内壁被甲基占据，未发现溶剂。

相关文献顶部

有关吡啶-胺衍生物，请参见：Smith等。(2005); 缀等。(2005). 关于它们在形成具有生物活性的各种分子中作为化学中间体的作用，请参见：Birault等。(2005); 戈登等。（1996年）；玩家等。(2007). 相关结构见：Li等。(2008); 林等。(2005); 谢等。(2008); 于等。(2005); 周等。(2005).

有关相关文献，请参见：Larson（1970）。

实验顶部

将4-硝基-2,3,5-三甲基吡啶-N-氧化物（18.2 g，100 mmol）、雷尼镍（25 g，426 mmol）和200 ml乙醇放在一个三颈烧瓶中。逐滴添加80%水合肼（25 ml，400 mmol），将温度保持在35℃以下。将混合物加热至回流，并连续滴加80%水合肼。对催化剂进行了抽滤。一半的乙醇在真空下浓缩。残留物在室温下放置7天，得到一些无色针状晶体，适合数据收集。

计算详细信息顶部

数据收集：自动处理（里加库，2007年）；细胞精细化： 自动处理（里加库，2007年）；数据缩减：晶体结构（里加库，2007年）；用于求解结构的程序：架子97（谢尔德里克，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997）；用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年）。

数字顶部

	图1。分子结构显示40%的概率位移椭球。
	图2。氢键相互作用。

4-氨基-2,3,5-三甲基吡啶一水合物顶部

水晶数据顶部

C类₈小时₁₂N个₂·H（H）₂O（运行）	D类_x个=1.095毫克⁻^三
M（M）_第页= 154.21	钼K（K）α辐射，λ= 0.71075 Å
正方形，P（P）42₁c（c）	10766次反射的细胞参数
大厅符号：P-4 2n	θ= 3.3–27.4°
一= 19.5710 (9) Å	µ=0.07毫米⁻¹
c（c）= 4.8819 (2) Å	T型=296千
V（V）= 1869.89 (14) Å^三	大块，无色
Z轴= 8	0.33×0.27×0.22毫米
F类(000) = 672.00

数据收集顶部

Rigaku R轴快速衍射仪	951次反射F类²> 2.0σ(F类²)
探测器分辨率：10.00像素mm^-1	R（右）_整数= 0.045
ω扫描	θ_最大值= 27.4°
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	小时=−25→25
T型_最小值= 0.967,T型_最大值= 0.984	k个=−25→25
17243次测量反射	我=−6→5
1250个独立反射

精炼顶部

优化于F类²	w个= 1/[0.0001F类_o个²+1.1100σ(F类_o个²)]/(4F类_o个²)
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035	(Δ/σ)_最大值< 0.001
水风险(F类²) = 0.088	Δρ_最大值=0.23埃⁻^三
S公司= 1.00	Δρ_最小值=−0.20埃⁻^三
1250次反射	消光校正：拉森（1970）
101参数	消光系数：460（64）
受约束的氢原子参数

水晶数据顶部

C类₈小时₁₂N个₂·H（H）₂O（运行）	Z轴= 8
M（M）_第页= 154.21	钼K（K）α辐射
正方形，P（P）42₁c（c）	µ=0.07毫米⁻¹
一= 19.5710 (9) Å	T型=296千
c（c）= 4.8819 (2) Å	0.33×0.27×0.22毫米
V（V）=1869.89（14）Å^三

数据收集顶部

Rigaku R轴快速衍射仪	1250个独立反射
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	951次反射F类²> 2.0σ(F类²)
T型_最小值= 0.967,T型_最大值= 0.984	R（右）_整数= 0.045
17243次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035	101参数
水风险(F类²)=0.088	受约束的氢原子参数
S公司= 1.00	Δρ_最大值=0.23埃⁻^三
1250次反射	Δρ_最小值=−0.20埃⁻^三

特殊细节顶部

几何图形输入分子几何的特殊细节

精炼.使用所有反射进行优化。加权的R（右）-因子(水风险)和贴合度(S公司)基于F类².R（右）-系数（gt）基于F类。的阈值表达式F类²>2.0版本σ(F类²)仅用于计算R（右）-系数（gt）。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
O1公司	0.25888 (6)	0.28901 (6)	0.2514 (3)	0.0571 (4)
N1型	0.23938 (11)	0.42486 (10)	0.3906 (4)	0.0581 (6)
氮气	0.19626 (9)	0.61921 (9)	0.6961 (4)	0.0534 (6)
C1类	0.27642 (12)	0.47949（12）	0.3109 (5)	0.0528 (7)
指挥与控制	0.26474 (11)	0.54519 (11)	0.4090 (5)	0.0472 (6)
C3类	0.21206 (11)	0.55487 (11)	0.6011 (4)	0.0427 (6)
补体第四成份	0.17323 (12)	0.49824 (12)	0.6859 (4)	0.0465 (6)
C5级	0.18992（12）	0.43602 (12)	0.5762 (5)	0.0556 (8)
C6级	0.33136 (13)	0.46412 (12)	0.1049 (7)	0.0756 (9)
抄送7	0.30672 (12)	0.60551 (12)	0.3136（6）	0.0690 (9)
抄送8	0.11654 (12)	0.50507 (12)	0.8924 (5)	0.0603 (7)
人5	0.1649	0.3984	0.6350	0.067*
H61型	0.3753	0.4674	0.1913	0.091*
H62型	0.3251	0.4187	0.0345	0.091*
H63型	0.3288	0.4964	−0.0428	0.091*
H71型	0.3290	0.5943	0.1442	0.083*
H72型	0.2774	0.6442	0.2865	0.083*
H73型	0.3405	0.6163	0.4495	0.083*
H81型	0.1353	0.5184	1.0660	0.072*
H82型	0.0847	0.5391	0.8315	0.072*
H83型	0.0935	0.4620	0.9113	0.072*
H101型	0.2530	0.3317	0.2901	0.069*
H102型	0.2457	0.2771	0.0921	0.069*
H201型	0.1755	0.6229	0.8489	0.064*
H202型	0.2266	0.6511	0.6743	0.064*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
O1公司	0.0663 (10)	0.0465 (9)	0.0584（10）	0.0063 (8)	−0.0044 (9)	−0.0047 (9)
N1型	0.0701 (14)	0.0454 (11)	0.0587 (14)	0.0003 (10)	0.0039 (14)	−0.0022 (11)
氮气	0.0624 (13)	0.0433 (11)	0.0545 (12)	−0.0029 (9)	0.0092 (11)	−0.0006 (10)
C1类	0.0563 (16)	0.0549 (16)	0.0471 (14)	0.0083（12）	0.0024 (13)	−0.0024 (13)
指挥与控制	0.0504 (14)	0.0454 (14)	0.0459 (13)	0.0003 (11)	0.0032 (14)	0.0021 (13)
C3类	0.0472 (13)	0.0398 (12)	0.0411 (12)	0.0003 (10)	−0.0022 (12)	0.0001 (12)
补体第四成份	0.0507 (14)	0.0452（13）	0.0435 (12)	−0.0002 (12)	−0.0022 (12)	0.0036 (13)
C5级	0.0658 (17)	0.0454 (15)	0.0557 (15)	−0.0047 (12)	0.0015 (15)	0.0042 (14)
C6级	0.086 (2)	0.0690 (19)	0.0717 (19)	0.0162 (16)	0.021 (2)	−0.0020 (18)
抄送7	0.0674 (17)	0.0627 (17)	0.077 (2)	−0.0054 (14)	0.0164 (17)	0.0013 (16)
抄送8	0.0640 (16)	0.0609（15）	0.0562 (14)	−0.0072 (13)	0.0067 (15)	0.0060 (16)

几何参数（λ，º）顶部

N1-C1型	1.349 (3)	N2-H201型	0.852
N1-C5型	1.344 (3)	N2-H202型	0.868
N2-C3气体	1.377 (2)	C5-H5型	0.930
C1-C2类	1.391 (3)	C6-H61	0.960
C1-C6号机组	1.503 (3)	C6-H62型	0.960
C2-C3型	1.407 (3)	C6-H63型	0.960
C2-C7型	1.512 (3)	C7-H71型	0.960
C3至C4	1.406 (3)	C7-H72型	0.960
C4-C5型	1.370 (3)	C7-H73型	0.960
C4-C8型	1.505 (3)	C8-H81型	0.960
O1-H101型	0.864	C8-H82型	0.960
O1-H102型	0.852	C8-H83型	0.960

C1-N1-C5	116.9 (2)	C4-C5-H5型	117.3
N1-C1-C2型	123.0 (2)	C1-C6-H61型	109.5
N1-C1-C6	114.8 (2)	C1-C6-H62型	109.5
C2-C1-C6	122.2 (2)	C1-C6-H63型	109.5
C1-C2-C3	118.3 (2)	H61-C6-H62型	109.5
C1-C2-C7型	121.8（2）	H61-C6-H63型	109.5
C3-C2-C7型	119.9 (2)	H62-C6-H63型	109.5
N2-C3-C2气体	120.82 (19)	C2-C7-H71型	109.5
N2-C3-C4气体	120.0 (2)	C2-C7-H72型	109.5
C2-C3-C4型	119.1（2）	C2-C7-H73型	109.5
C3-C4-C5型	117.2 (2)	H71-C7-H72型	109.5
C3-C4-C8型	121.7 (2)	H71-C7-H73型	109.5
C5-C4-C8型	121.1 (2)	H72-C7-H73型	109.5
N1-C5-C4	125.4 (2)	C4-C8-H81型	109.5
H101-O1-H102型	115	C4-C8-H82型	109.5
C3-N2-H201型	118.6	C4-C8-H83型	109.5
C3-N2-H202型	117.5	H81-C8-H82型	109.5
H201-N2-H202型	111.9	H81-C8-H83型	109.5
N1-C5-H5型	117.3	H82-C8-H83型	109.5

C1-N1-C5-C4	1.5（3）	C7-C2-C3-N2型	2.6 (3)
C5-N1-C1-C2	−0.9 (3)	C7-C2-C3-C4	179.6 (2)
C5-N1-C1-C6	179.6 (2)	N2-C3-C4-C5型	177.6 (2)
N1-C1-C2-C3	0.3（3）	N2-C3-C4-C8型	−3.5 (3)
N1-C1-C2-C7型	−179.4 (2)	C2-C3-C4-C5型	0.6 (3)
C6-C1-C2-C3型	179.8 (2)	C2-C3-C4-C8型	179.5（2）
C6-C1-C2-C7型	0.1 (2)	C3-C4-C5-N1	−1.3 (3)
C1-C2-C3-N2	−177.1 (2)	C8-C4-C5-N1	179.8 (2)
C1-C2-C3-C4型	−0.2 (3)

氢键几何结构（Å，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1-H101···N1	0.86	1.91	2.771 (2)	178
O1-H102···O1^我	0.85	1.93	2.778 (2)	173
N2-H202··O1^ii（ii）	0.87	2.17	3.009 (2)	161

对称代码：（i）−年+1/2,−x个+1/2,z（z）−1/2; （ii）年,−x个+1,−z（z）+1.

实验细节

水晶数据
化学式	C类₈小时₁₂N个₂·H（H）₂O（运行）
M（M）_第页	154.21
晶体系统，空间组	正方形，P（P）42₁c（c）
温度（K）	296
一,c（c）(Å)	19.5710 (9), 4.8819 (2)
V（V）(Å^三)	1869.89 (14)
Z轴	8
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.07
晶体尺寸（mm）	0.33 × 0.27 × 0.22

数据收集
衍射仪	Rigaku R轴快速衍射仪
吸收校正	多扫描 (ABSCOR公司; 东，1995年）
T型_最小值,T型_最大值	0.967, 0.984
测量、独立和观察到的[F类²> 2.0σ(F类²)]反射	17243, 1250, 951
R（右）_整数	0.045
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.648

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)]，水风险(F类²),S公司	0.035, 0.088, 1.00
反射次数	1250
参数数量	101
约束装置数量	?
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.23,−0.20

计算机程序：自动处理（里加库，2007年），晶体结构（里加库，2007年），架子97（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），ORTEP-3（适用于Windows）（Farrugia，1997），WinGX公司（Farrugia，1999年）。

氢键几何结构（Å，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1-H101···N1	0.864	1.907	2.771 (2)	177.7
O1-H102···O1^我	0.852	1.930	2.778 (2)	173.4
N2-H202··O1^ii（ii）	0.868	2.174	3.009 (2)	161.1

对称代码：（i）−年+1/2,−x个+1/2,z（z）−1/2; （ii）年,−x个+1,−z（z）+1.

致谢

我们感谢浙江大学和杭州师范大学的资助。

工具书类

Birault，V.、Harris，C.J.和Harris，J.（2005年）。英国专利GB2403721 A谷歌学者
 Farrugia，L.J.（1997）。J.应用。克里斯特。 30, 565. 交叉参考 IUCr日志谷歌学者
 Farrugia，L.J.（1999）。J.应用。克里斯特。 32, 837–838. 交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者
 Gordon，W.R.、Brian，D.P.和Andrew，M.T.（1996年）。医学化学杂志。 39, 1823–1835. 公共医学科学网谷歌学者
 Higashi，T.（1995）。ABSCOR公司Rigaku Corporation，日本东京。谷歌学者
 Larson，A.C.（1970年）。结晶计算由F.R.Ahmed、S.R.Hall和C.P.Huber编辑，第291-294页。哥本哈根：芒克斯加德。谷歌学者
 Li，Y.，Li，P.，Zhou，Q.-P.，Zhang，G.-F.&Ng，S.W.（2008）。《水晶学报》。E类64公元1701年科学网 CSD公司交叉参考 IUCr日志谷歌学者
 Lin，H.、Feng，Y.L.和Gao，S.（2005）。下巴。J.结构。化学。 24, 375–378. 中国科学院谷歌学者
 Player，M.R.，Lu，T.，Hu，H.和Zhu，X.（2007）。世界专利WO2007109459 A2谷歌学者
 里加库（2007）。晶体结构和自动处理。里加库/MSC，美国德克萨斯州伍德兰谷歌学者
 Sheldrick，G.M.（2008）。《水晶学报》.A型64, 112–122. 科学网交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者
 Smith，D.T.，Shi，R.&Borgens，R.B.（2005）。欧洲医学化学杂志。 40, 908–917. 科学网交叉参考公共医学中国科学院谷歌学者
 Tsuzuki，S.、Kawanishi，Y.和Abe，S.（2005）。生物传感器。生物电子。 20, 1452–1457. 科学网交叉参考公共医学中国科学院谷歌学者
 谢安良、丁天杰、曹晓平（2008）。《水晶学报》。E类64公元1746年科学网 CSD公司交叉参考 IUCr日志谷歌学者
 于强、朱立国、卞海东（2005）。下巴。J.结构。化学。 24，1271–1275页中国科学院谷歌学者
 周永忠、李建峰、涂世杰（2005）。下巴。J.结构。化学。 24, 1193–1197. 中国科学院谷歌学者