实验
水晶数据
C13H(H)17氯离子三操作系统+·英国− M(M)第页= 378.72 单诊所,对21/c(c) 一= 14.9409 (9) Å b条= 7.7050 (5) Å c(c)= 13.9141 (15) Å β= 100.758 (7)° V(V)= 1573.6 (2) Å三 Z轴= 4 钼K(K)α辐射 μ=2.91毫米−1 T型=150(2)K 0.41×0.40×0.22毫米
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精炼
R(右)[F类2> 2σ(F类2)]=0.048 水风险(F类2) = 0.114 S公司= 1.22 3455次反射 189个参数 用独立和约束精化的混合物处理H原子 Δρ最大值=0.74埃−3 Δρ最小值=-0.82埃−3
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D类-H月A类 | D类-H(H) | H月A类 | D类⋯A类 | D类-H月A类 | N3-H3和Br1我 | 0.80 (5) | 2.56(5) | 3.314 (4) | 159 (5) | N2-H2和Br1 | 0.81(5) | 2.51 (5) | 3.303 (4) | 170 (5) | C6-H6环氧乙烷 | 0.95 | 2.38 | 2.899 (5) | 114 | C8-H8和Br1ii(ii) | 0.95 | 2.87 | 3.662 (5) | 142 | C2-H2型A类⋯Cg公司1三 | 0.99 | 2.69 | 3.628 (4) | 159 | 对称代码:(i)x个,年-1,z(z);(ii);(iii). | |
数据收集:收集(霍夫特,1998年)和DENZO公司(Otwinowski和Minor,1997年); 细胞精细化: 收集和DENZO公司;数据缩减:收集和DENZO公司;用于求解结构的程序:92新加坡元(阿尔托马雷等人。, 1994); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(Sheldrick,2008年); 分子图形:柏拉图式的(斯佩克,2003年); 用于准备出版材料的软件:SHELXL97型.
支持信息
标题化合物是根据Hanusek合成的等人。(2004)从外消旋3-溴-1-(3-氯苯基)吡咯烷-2-酮的饱和丙酮溶液和N个,N个'-二甲基硫脲。适合分析的单晶(块)是直接从反应混合物中生长出来的。平均尺寸为0.3×0.3×0.2 mm
所有的氢在差别中都可以辨认出来电子密度图,然而,他们处于理想的位置。除了参与氢键的H(N),因此在没有约束或约束的情况下对其坐标进行了细化,其余的氢分别在芳基氢、甲基氢、亚甲基氢和甲基氢的母体C:C–H=0.95、O.98、0.99、1.00Ω上进行了细化。U型国际标准化组织(H) =1.2单位等式(C/N)表示H(N)、亚甲基和甲基H原子,而U国际标准化组织(H) =1.5单位等式用于甲基氢。
数据收集:收集(霍夫特,1998)和DENZO公司(Otwinowski和Minor,1997年);细胞精细化: 收集(霍夫特,1998)和DENZO公司(Otwinowski和Minor,1997年);数据缩减:收集(霍夫特,1998)和DENZO公司(Otwinowski和Minor,1997年);用于求解结构的程序:92新加坡元(阿尔托马雷等人。, 1994); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:柏拉图式的(斯佩克,2003);用于准备出版材料的软件:SHELXL97型(谢尔德里克,2008)。
(3)RS系列)-S公司-[1-(3-氯苯基)-2-氧代吡咯烷-3-基]-N个,N个'-二甲基硫脲溴化顶部 水晶数据 顶部 C13H(H)17氯离子三操作系统+·英国− | F类(000) = 768 |
M(M)第页= 378.72 | D类x个=1.599毫克/米−三 |
单诊所,对21/c(c) | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:-P 2ybc | 11663次反射的单元参数 |
一= 14.9409 (9) Å | θ= 1–27.5° |
b条= 7.7050 (5) Å | µ=2.91毫米−1 |
c(c)= 13.9141 (15) Å | T型=150 K |
β= 100.758 (7)° | 块,无色 |
V(V)= 1573.6 (2) Å三 | 0.41×0.40×0.22毫米 |
Z轴= 4 | |
数据收集 顶部 Bruker–Nonius KappaCCD公司 衍射仪 | 3455次独立反射 |
辐射源:细焦点密封管 | 2671次反射我> 2σ(我) |
石墨单色仪 | R(右)整数= 0.060 |
探测器分辨率:9.091像素mm-1 | θ最大值= 27.5°,θ最小值= 2.8° |
ϕ和ω扫描 | 小时=−19→16 |
吸收校正:高斯积分 (科彭,1970) | k个=−8→9 |
T型最小值= 0.401,T型最大值= 0.658 | 我=−17→18 |
11628测量反射 | |
精炼 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.048 | 氢位置:差分傅里叶图 |
水风险(F类2) = 0.114 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.22 | w个= 1/[σ2(F类哦2) + (0.0325对)2+ 3.4975对] 哪里对= (F类哦2+ 2F类c(c)2)/3个 |
3455次反射 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
189个参数 | Δρ最大值=0.74埃−三 |
0个约束 | Δρ最小值=−0.82埃−三 |
60个约束条件 | |
水晶数据 顶部 C13H(H)17氯离子三操作系统+·英国− | V(V)= 1573.6 (2) Å三 |
M(M)第页= 378.72 | Z轴= 4 |
单诊所,对21/c(c) | 钼K(K)α辐射 |
一= 14.9409 (9) Å | µ=2.91毫米−1 |
b条= 7.7050 (5) Å | T型=150 K |
c(c)= 13.9141 (15) Å | 0.41×0.40×0.22毫米 |
β= 100.758 (7)° | |
数据收集 顶部 Bruker–Nonius KappaCCD公司 衍射仪 | 3455个独立反射 |
吸收校正:高斯积分 (科彭,1970) | 2671次反射我> 2σ(我) |
T型最小值= 0.401,T型最大值=0.658 | R(右)整数= 0.060 |
11628测量反射 | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.048 | 0个约束 |
水风险(F类2) = 0.114 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
S公司= 1.22 | Δρ最大值=0.74埃−三 |
3455次反射 | Δρ最小值=−0.82埃−三 |
189个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。使用细胞静电放电的近似(各向同性)处理来估计涉及l.s.平面的静电放电。 |
精炼.F的细化2对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F2,传统的R系数R基于F,对于负F,F设置为零2F的阈值表达式2>2西格玛(F2)仅用于计算R系数(gt)等,与选择反射进行细化无关。基于F的R系数2从统计上看,是基于F的因子的两倍,而基于ALL数据的R因子将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
溴1 | 0.08338 (3) | 0.66896 (5) | 0.14195 (3) | 0.02613 (13) | |
S1(第一阶段) | 0.16212 (7) | 0.32645 (15) | 0.36335 (7) | 0.0259 (2) | |
第1类 | 0.62396 (8) | −0.16871 (15) | 0.42796 (8) | 0.0356 (3) | |
N3号机组 | 0.1148 (2) | 0.0146 (5) | 0.2861 (3) | 0.0225 (7) | |
H3级 | 0.095 (3) | −0.053(7) | 0.245 (3) | 0.027* | |
O1公司 | 0.3250 (2) | 0.1248 (4) | 0.3000 (2) | 0.0340 (7) | |
C1类 | 0.3345 (3) | 0.2769 (5) | 0.3210 (3) | 0.0219(8) | |
N1型 | 0.4148 (2) | 0.3623 (4) | 0.3524 (2) | 0.0221(7) | |
氮气 | 0.0914 (2) | 0.2457 (5) | 0.1804 (3) | 0.0244 (7) | |
氢气 | 0.094 (3) | 0.350 (7) | 0.178 (4) | 0.029* | |
C11号机组 | 0.1189 (2) | 0.1804 (5) | 0.2677 (3) | 0.0207(8) | |
C6级 | 0.5171 (3) | 0.1131 (5) | 0.3865 (3) | 0.0211 (8) | |
人6 | 0.4680 | 0.0399 | 0.3948 | 0.025* | |
C7 | 0.6049 (3) | 0.0507 (5) | 0.3989 (3) | 0.0246 (9) | |
C10号机组 | 0.5754 (3) | 0.3920 (6) | 0.3476 (3) | 0.0261 (9) | |
H10型 | 0.5652 | 0.5102 | 0.3293 | 0.031* | |
第13页 | 0.1428 (3) | −0.0649 (6) | 0.3822 (3) | 0.0338 (11) | |
H13A型 | 0.2066 | −0.0358 | 0.4080 | 0.051* | |
第13页 | 0.1362 | −0.1912 | 0.3763 | 0.051* | |
高度13c | 0.1044 | −0.0211 | 0.4267 | 0.051* | |
C9 | 0.6624 (3) | 0.3230 (6) | 0.3608 (3) | 0.0278 (9) | |
H9型 | 0.7118 | 0.3945 | 0.3513 | 0.033* | |
补体第四成份 | 0.2588 (3) | 0.4101 (6) | 0.3153 (3) | 0.0244 (9) | |
H4型 | 0.2380 | 0.4459 | 0.2456 | 0.029* | |
指挥与控制 | 0.4027 (3) | 0.5482 (5) | 0.3675 (3) | 0.0253 (9) | |
过氧化氢 | 0.4168 | 0.6166 | 0.3119 | 0.030* | |
过氧化氢 | 0.4421 | 0.5883 | 0.4286 | 0.030* | |
C5级 | 0.5029 (3) | 0.2873 (5) | 0.3613 (3) | 0.0214 (8) | |
第12项 | 0.0567 (3) | 0.1404 (6) | 0.0946 (3) | 0.0341(11) | |
H12A型 | 0.1048 | 0.0626 | 0.0814 | 0.051* | |
H12B型 | 0.0372 | 0.2163 | 0.0381 | 0.051* | |
H12C型 | 0.0048 | 0.0716 | 0.1067 | 0.051* | |
C3类 | 0.3028 (3) | 0.5640 (6) | 0.3739 (4) | 0.0333 (10) | |
H3A型 | 0.2770 | 0.6748 | 0.3451 | 0.040* | |
H3B型 | 0.2943 | 0.5575 | 0.4427 | 0.040* | |
抄送8 | 0.6784 (3) | 0.1510 (6) | 0.3878 (3) | 0.0269 (9) | |
H8型 | 0.7382 | 0.1040 | 0.3983 | 0.032* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
溴1 | 0.0262 (2) | 0.0177(2) | 0.0348 (2) | 0.00117 (17) | 0.00640 (16) | 0.00120 (18) |
S1(第一阶段) | 0.0265 (5) | 0.0298 (6) | 0.0225 (5) | 0.0025 (4) | 0.0072(4) | −0.0046 (4) |
第1类 | 0.0406 (6) | 0.0266 (6) | 0.0408 (6) | 0.0100(5) | 0.0110 (5) | 0.0056 (5) |
N3号机组 | 0.0272 (18) | 0.0174 (17) | 0.0243 (17) | 0.0039 (14) | 0.0076 (14) | 0.0040 (14) |
O1公司 | 0.0263 (16) | 0.0280 (17) | 0.0495 (19) | −0.0037 (12) | 0.0118(14) | −0.0165 (15) |
C1类 | 0.020 (2) | 0.024 (2) | 0.0221 (19) | 0.0002 (16) | 0.0055 (15) | −0.0043 (17) |
N1型 | 0.0251 (17) | 0.0195 (18) | 0.0217 (16) | −0.0013 (14) | 0.0049 (13) | −0.0019 (14) |
氮气 | 0.0302 (19) | 0.0190 (18) | 0.0231(17) | −0.0002 (15) | 0.0030 (14) | 0.0019 (16) |
C11号机组 | 0.0189 (18) | 0.023 (2) | 0.0203 (18) | 0.0039 (16) | 0.0055 (14) | −0.0034 (17) |
C6级 | 0.025(2) | 0.0185(19) | 0.0207 (19) | −0.0008 (15) | 0.0072 (15) | −0.0007(16) |
C7 | 0.032 (2) | 0.022(2) | 0.0211 (19) | 0.0008 (17) | 0.0084 (17) | −0.0003 (17) |
C10号机组 | 0.028 (2) | 0.025(2) | 0.025(2) | −0.0053 (17) | 0.0041 (16) | 0.0003 (18) |
第13页 | 0.040 (3) | 0.031 (3) | 0.031 (2) | 0.013 (2) | 0.011 (2) | 0.014 (2) |
C9 | 0.027 (2) | 0.032 (2) | 0.024 (2) | −0.0101 (19) | 0.0045 (16) | −0.0005 (19) |
补体第四成份 | 0.024 (2) | 0.026 (2) | 0.023 (2) | −0.0019 (17) | 0.0037 (16) | −0.0023 (18) |
指挥与控制 | 0.030 (2) | 0.018 (2) | 0.025(2) | 0.0010 (16) | −0.0010 (17) | 0.0004 (17) |
C5级 | 0.023 (2) | 0.024 (2) | 0.0176 (18) | −0.0012 (15) | 0.0054(15) | −0.0028 (16) |
第12项 | 0.048 (3) | 0.028 (3) | 0.023 (2) | −0.003 (2) | −0.0016 (19) | −0.0004 (19) |
C3类 | 0.031 (2) | 0.027 (2) | 0.041 (3) | 0.0028 (18) | 0.0038 (19) | −0.012 (2) |
抄送8 | 0.024 (2) | 0.038 (3) | 0.0196(19) | 0.0029 (18) | 0.0055 (15) | −0.0030 (19) |
几何参数(λ,º) 顶部 S1-C11号机组 | 1.770 (4) | C10-C5号机组 | 1.391(6) |
S1-C4号机组 | 1.819 (4) | C10-H10 | 0.9500 |
氯1-C7 | 1.749 (4) | C13-H13A型 | 0.9800 |
编号3-C11 | 1.307 (5) | C13-H13B型 | 0.9800 |
编号3-C13 | 1.459 (5) | C13-H13C型 | 0.9800 |
编号3-H3 | 0.80 (5) | C9-C8 | 1.385 (6) |
O1-C1型 | 1.210 (5) | C9-H9 | 0.9500 |
C1-N1型 | 1.367 (5) | C4-C3型 | 1.518 (6) |
C1-C4类 | 1.518 (6) | C4-H4型 | 1 |
N1-C5型 | 1.421 (5) | C2-C3型 | 1.516 (6) |
N1-C2型 | 1.464 (5) | C2-H2A型 | 0.9900 |
N2-C11型 | 1.309 (5) | C2-H2B型 | 0.9900 |
N2-C12型 | 1.456 (5) | C12-H12A型 | 0.9800 |
N2-H2气体 | 0.81 (5) | C12-H12B型 | 0.9800 |
C6至C7 | 1.377(6) | C12-H12C型 | 0.9800 |
C6-C5型 | 1.394 (6) | C3-H3A型 | 0.9900 |
C6-H6型 | 0.9500 | C3-H3B型 | 0.9900 |
C7-C8号机组 | 1.375 (6) | C8-H8型 | 0.9500 |
C10-C9号机组 | 1.385 (6) | | |
| | | |
C11-S1-C4型 | 98.74 (18) | C10-C9-H9型 | 119.6 |
C11-N3-C13型 | 125.0(4) | C8-C9-H9型 | 119.6 |
C11-N3-H3型 | 122 (4) | C3-C4-C1 | 104.8(3) |
C13-N3-H3型 | 113 (4) | C3-C4-S1型 | 111.9 (3) |
O1-C1-N1型 | 126.8 (4) | C1-C4-S1型 | 112.1 (3) |
O1-C1-C4型 | 126.1 (4) | C3-C4-H4型 | 109.3 |
N1-C1-C4 | 107.0 (3) | C1-C4-H4型 | 109.3 |
C1-N1-C5 | 125.1 (3) | S1-C4-H4型 | 109.3 |
C1-N1-C2型 | 113.0 (3) | N1-C2-C3型 | 103.7 (3) |
C5-N1-C2 | 121.5 (3) | N1-C2-H2A型 | 111 |
C11-N2-C12型 | 123.3 (4) | C3-C2-H2A | 111 |
C11-N2-H2型 | 114 (4) | N1-C2-H2B型 | 111 |
C12-N2-H2 | 122 (4) | C3-C2-H2B细胞 | 111 |
N3-C11-N2型 | 122.6 (4) | H2A-C2-H2B型 | 109 |
N3-C11-S1号 | 119.9 (3) | C10-C5-C6 | 120.4 (4) |
N2-C11-S1型 | 117.4(3) | C10-C5-N1型 | 118.9 (4) |
C7-C6-C5型 | 117.7 (4) | C6-C5-N1型 | 120.6 (4) |
C7-C6-H6型 | 121.1 | N2-C12-H12A型 | 109.5 |
C5-C6-H6 | 121.1 | N2-C12-H12B型 | 109.5 |
C8-C7-C6 | 123.4 (4) | H12A-C12-H12B型 | 109.5 |
C8-C7-Cl1型 | 118.1 (3) | N2-C12-H12C型 | 109.5 |
C6-C7-Cl1 | 118.5 (3) | H12A-C12-H12C型 | 109.5 |
C9-C10-C5 | 119.6 (4) | H12B-C12-H12C型 | 109.5 |
C9-C10-H10 | 120.2 | C2-C3-C4型 | 103.8(3) |
C5-C10-H10 | 120.2 | C2-C3-H3A型 | 111 |
N3-C13-H13A号 | 109.5 | C4-C3-H3A型 | 111 |
N3-C13-H13B | 109.5 | C2-C3-H3B型 | 111 |
H13A-C13-H13B型 | 109.5 | C4-C3-H3B型 | 111 |
N3-C13-H13C | 109.5 | H3A-C3-H3B型 | 109 |
H13A-C13-H13C型 | 109.5 | C7-C8-C9 | 117.9 (4) |
H13B-C13-H13C型 | 109.5 | C7-C8-H8型 | 121.1 |
C10-C9-C8 | 120.9 (4) | C9-C8-H8 | 121.1 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
N3-H3··Br1我 | 0.80 (5) | 2.56 (5) | 3.314 (4) | 159 (5) |
N2-H2··Br1 | 0.81 (5) | 2.51 (5) | 3.303 (4) | 170 (5) |
C6-H6···O1 | 0.95 | 2.38 | 2.899 (5) | 114 |
C8-H8··Br1ii(ii) | 0.95 | 2.87 | 3.662 (5) | 142 |
C2-H2型A类···Cg公司1三 | 0.99 | 2.69 | 3.628 (4) | 159 |
对称代码:(i)x个,年−1,z(z);(ii)−x个+1,年−1/2,−z(z)+1/2; (iii)−x个+1,年+1/2,−z(z)+1/2. |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C13H(H)17氯离子三操作系统+·英国− |
M(M)第页 | 378.72 |
晶体系统,空间组 | 单诊所,对21/c(c) |
温度(K) | 150 |
一,b条,c(c)(Å) | 14.9409(9)、7.7050(5)、13.9141(15) |
β(°) | 100.758 (7) |
V(V)(Å三) | 1573.6 (2) |
Z轴 | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 2.91 |
晶体尺寸(mm) | 0.41×0.40×0.22 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Bruker–Nonius KappaCCD公司 衍射仪 |
吸收校正 | 高斯积分 (科彭,1970) |
T型最小值,T型最大值 | 0.401, 0.658 |
测量的、独立的和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 11628, 3455, 2671 |
R(右)整数 | 0.060 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.650 |
|
精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.048, 0.114, 1.22 |
反射次数 | 3455 |
参数数量 | 189 |
氢原子处理 | 用独立和约束精化的混合物处理H原子 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.74,−0.82 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
N3-H3··Br1我 | 0.80 (5) | 2.56 (5) | 3.314 (4) | 159 (5) |
N2-H2··Br1 | 0.81 (5) | 2.51 (5) | 3.303 (4) | 170 (5) |
C6-H6···O1 | 0.95 | 2.38 | 2.899 (5) | 114 |
C8-H8··Br1ii(ii) | 0.95 | 2.87 | 3.662 (5) | 142 |
C2-H2A··Cg1三 | 0.99 | 2.69 | 3.628 (4) | 159 |
对称代码:(i)x个,年−1,z(z);(ii)−x个+1,年−1/2,−z(z)+1/2; (iii)−x个+1,年+1/2,−z(z)+1/2. |
致谢
作者感谢捷克共和国教育、青年和体育部在MSM 0021627501研究项目框架内为这项工作提供的财政支持。
| 晶体学 通信 |
国际标准编号:2056-9890
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