支持信息
Tb混合物4O(运行)7(0.189 g;0.25 mmol)、异烟酸(0.135 g;1.5 mmol),草酸(0.135g;1.5 mm ol),水(10 mL)和HNO三将(0.385 mmol;0.92g/ml)搅拌20 min,然后密封在20 ml Teflon-lined不锈钢高压釜中。将高压灭菌器加热至433K达3天,然后在5K小时冷却至室温-1通过此过程,获得了标题化合物的无色块状晶体。
水氢原子位于不同的傅里叶映射中,其键长被设置为O–H=0.84的理想值,最后使用骑乘模型对其各向同性进行细化U型国际标准化组织(H) =1.5U型等式(O) ●●●●。将C-H H原子放置在计算位置,并将其视为骑在母体C原子上,C-H=0.93ºU型国际标准化组织(H) =1.2U型等式(C) ●●●●。
数据收集:4月2日(布鲁克,2004);细胞细化: 圣保罗(布鲁克,2004);数据缩减:圣保罗(布鲁克,2004);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:柏拉图式的(斯佩克,2003)和SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXL97型(谢尔德里克,2008)。
聚[diaqua-µ2-异烟酸-µ2-草酸-铽(III)]顶部 水晶数据 顶部 [Tb(C6H(H)4不2)(C)2O(运行)4)(H)2O)2] | F类(000) = 1536 |
M(M)第页=405.07 | D类x个=2.542毫克−三 |
单诊所,C2/c(c) | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
一= 17.7919 (18) Å | 2410次反射的细胞参数 |
b条= 9.9259 (10) Å | θ= 2.4–27.7° |
c(c)= 12.9670 (13) Å | µ=6.72毫米−1 |
β= 112.414 (1)° | T型=296千 |
V(V)= 2117.0 (4) Å三 | 块,无色 |
Z轴= 8 | 0.23×0.22×0.20毫米 |
数据收集 顶部 Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 | 1674次反射我> 2σ(我) |
辐射源:细焦点密封管 | R(右)整数= 0.031 |
ϕ和ω扫描 | θ最大值= 25.2°,θ最小值= 2.4° |
吸收校正:多扫描 (4月2日;布鲁克,2004年) | 小时=−21→20 |
T型最小值= 0.241,T型最大值= 0.272 | k个=−5→11 |
5243次测量反射 | 我=−15→15 |
1907独立反射 | |
精炼 顶部 优化于F类2 | 主原子位置定位:结构-变量直接方法 |
最小二乘矩阵:完整 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.025 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
水风险(F类2) = 0.063 | 受约束的氢原子参数 |
S公司= 1.01 | w个= 1/[σ2(F类哦2) + (0.0363对)2] 哪里对= (F类哦2+ 2F类c(c)2)/3 |
1907次反射 | (Δ/σ)最大值= 0.002 |
163个参数 | Δρ最大值=1.40埃−三 |
6个约束 | Δρ最小值=−1.31埃−三 |
水晶数据 顶部 [Tb(C6H(H)4不2)(C)2O(运行)4)(H)2O)2] | V(V)=2117.0(4)Å三 |
M(M)第页= 405.07 | Z轴= 8 |
单诊所,C2/c(c) | 钼K(K)α辐射 |
一=17.7919(18)Å | µ=6.72毫米−1 |
b条= 9.9259 (10) Å | T型=296千 |
c(c)= 12.9670 (13) Å | 0.23×0.22×0.20毫米 |
β= 112.414 (1)° | |
数据收集 顶部 Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 | 1907独立反射 |
吸收校正:多扫描 (4月2日;布鲁克,2004年) | 1674次反射我> 2σ(我) |
T型最小值= 0.241,T型最大值= 0.272 | R(右)整数= 0.031 |
5243次测量反射 | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.025 | 6个约束 |
水风险(F类2) = 0.063 | 受约束的氢原子参数 |
S公司= 1.01 | Δρ最大值=1.40埃−三 |
1907次反射 | Δρ最小值=−1.31埃−三 |
163个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。细胞esd的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的esd。 |
精炼.F的细化2对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F2,传统的R系数R基于F,对于负F,F设置为零2F的阈值表达式2>2西格玛(F2)仅用于计算R系数(gt)等,与选择反射进行细化无关。基于F的R系数2从统计上看,是基于F的因子的两倍,而基于ALL数据的R因子将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数(Å2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
第1天 | 0.824056 (12) | 0.03238(2) | 0.574780 (18) | 0.01553(10) | |
O5公司 | 0.9618 (2) | −0.0185 (4) | 0.6050(3) | 0.0289 (9) | |
氧气 | 0.6877 (2) | 0.0558 (4) | 0.4672 (3) | 0.0326 (9) | |
臭氧 | 0.8029 (2) | −0.1491 (3) | 0.4403 (3) | 0.0239 (8) | |
抄送8 | 1.0149 (3) | −0.0110 (5) | 0.7019 (4) | 0.0192 (11) | |
O6公司 | 1.0905 (2) | −0.0055 (4) | 0.7291 (3) | 0.0272 (9) | |
C1类 | 0.6278 (3) | 0.1294 (5) | 0.4198 (4) | 0.0215 (11) | |
指挥与控制 | 0.5442 (3) | 0.0692 (5) | 0.3902 (4) | 0.0172 (10) | |
C3类 | 0.4756 (3) | 0.1501 (6) | 0.3627 (4) | 0.0264 (12) | |
H3级 | 0.4800 | 0.2434 | 0.3618 | 0.032* | |
C6型 | 0.5336 (3) | −0.0690(5) | 0.3874 (4) | 0.0241 (11) | |
人6 | 0.5781 | −0.1263 | 0.4050 | 0.029* | |
补体第四成份 | 0.4010 (3) | 0.0890 (6) | 0.3366 (4) | 0.0315 (13) | |
H4型 | 0.3556 | 0.1438 | 0.3206 | 0.038* | |
C5级 | 0.4563 (3) | −0.1211 (5) | 0.3584 (5) | 0.0314 (13) | |
人5 | 0.4500 | −0.2142 | 0.3564 | 0.038* | |
N1型 | 0.3903 (3) | −0.0438 (5) | 0.3330 (4) | 0.0309 (11) | |
抄送7 | 0.7582 (3) | −0.2447 (5) | 0.4457 (4) | 0.0201 (11) | |
O4号机组 | 0.7261 (2) | −0.3320 (3) | 0.3724 (3) | 0.0252 (8) | |
O1公司 | 0.6308 (2) | 0.2507 (4) | 0.3926 (3) | 0.0334(9) | |
O1瓦 | 0.75857 (19) | 0.1250(3) | 0.6941 (3) | 0.0228 (8) | |
H1W(高度) | 0.7146 | 0.0877 | 0.6885 | 0.034* | |
H2W(氢气) | 0.7794 | 0.1546 | 0.7598 | 0.034* | |
O2瓦 | 0.8300 (2) | 0.1188 (4) | 0.4029 (3) | 0.0312 (9) | |
高3瓦 | 0.8554 | 0.0794 | 0.3691 | 0.047* | |
H4W型 | 0.8051 | 0.1834 | 0.3631 | 0.047* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
第1天 | 0.01241 (14) | 0.01564 (15) | 0.01830 (15) | −0.00225 (9) | 0.00558 (10) | −0.00106 (9) |
O5公司 | 0.0153 (18) | 0.048 (2) | 0.023 (2) | 0.0038 (17) | 0.0067 (16) | −0.0063 (18) |
氧气 | 0.0144 (18) | 0.052 (3) | 0.028 (2) | 0.0001 (18) | 0.0045 (16) | 0.001 (2) |
臭氧层 | 0.0271 (19) | 0.0201(18) | 0.0287 (19) | −0.0097 (16) | 0.0153(16) | −0.0047 (16) |
抄送8 | 0.017 (3) | 0.018 (2) | 0.019 (3) | 0.003 (2) | 0.003 (2) | 0.000(2) |
O6公司 | 0.0132 (18) | 0.040 (2) | 0.027 (2) | 0.0019 (16) | 0.0068 (16) | −0.0024 (17) |
C1类 | 0.019 (3) | 0.031 (3) | 0.016 (2) | −0.006 (2) | 0.009 (2) | −0.007 (2) |
指挥与控制 | 0.017 (2) | 0.021 (3) | 0.014 (2) | −0.005 (2) | 0.0058 (19) | 0.001 (2) |
C3类 | 0.023 (3) | 0.028 (3) | 0.033 (3) | 0.004 (2) | 0.017 (2) | 0.008 (2) |
C6级 | 0.019 (3) | 0.022 (3) | 0.031 (3) | −0.003 (2) | 0.010 (2) | 0.001 (2) |
补体第四成份 | 0.019 (3) | 0.049 (4) | 0.030 (3) | 0.007 (3) | 0.014 (2) | 0.008 (3) |
C5级 | 0.036 (3) | 0.022 (3) | 0.040 (3) | −0.013 (3) | 0.018 (3) | −0.004 (3) |
N1型 | 0.023 (2) | 0.044 (3) | 0.026 (2) | −0.009 (2) | 0.010 (2) | −0.001 (2) |
抄送7 | 0.019 (2) | 0.017 (3) | 0.023 (3) | 0.004 (2) | 0.006 (2) | 0.002 (2) |
O4号机组 | 0.033 (2) | 0.0225 (18) | 0.0218 (18) | −0.0081 (16) | 0.0128 (16) | −0.0050 (16) |
O1公司 | 0.038 (2) | 0.027 (2) | 0.041 (2) | −0.0189 (18) | 0.0211 (19) | −0.0120 (19) |
O1瓦 | 0.0180 (17) | 0.027 (2) | 0.0260 (18) | −0.0064 (15) | 0.0116 (15) | −0.0071 (16) |
O2瓦 | 0.049 (2) | 0.024 (2) | 0.029 (2) | 0.0045 (18) | 0.0241 (18) | 0.0045 (17) |
几何参数(λ,º) 顶部 Tb1-O1型我 | 2.280 (3) | C2-C3型 | 1.389 (7) |
Tb1-O2号 | 2.303(3) | C3-C4型 | 1.379 (7) |
第1-O5天 | 2.383 (3) | C3-H3型 | 0.9300 |
Tb1-O4号机组ii(ii) | 2.385 (3) | C6-C5型 | 1.380 (7) |
Tb1-O2瓦 | 2.427 (3) | C6-H6型 | 0.9300 |
Tb1-O3号 | 2.435 (3) | C4-N1型 | 1.330 (8) |
Tb1-O6号三 | 2.443 (4) | C4-H4型 | 0.9300 |
Tb1-O1W型 | 2.443 (3) | C5-N1型 | 1.335 (7) |
O5-C8型 | 1.254 (6) | C5-H5型 | 0.9300 |
氧气-C1 | 1.244 (6) | C7-O4型 | 1.251 (6) |
臭氧-C7 | 1.259 (6) | C7-C7号机组ii(ii) | 1.545 (10) |
C8-O6型 | 1.256 (6) | O4-Tb1型ii(ii) | 2.385 (3) |
C8-C8号机组三 | 1.529(10) | O1-Tb1型我 | 2.280(3) |
O6-Tb1型三 | 2.443 (4) | O1W至H1W | 0.8429 |
C1-O1型 | 1.261 (6) | O1W-H2W型 | 0.8420 |
C1-C2类 | 1.511 (6) | O2W-H3W型 | 0.8367 |
C2-C6型 | 1.383 (7) | O2W-H4W型 | 0.8365 |
| | | |
O1公司我-Tb1-O2号 | 103.43 (14) | O6-C8-C8型三 | 116.0 (5) |
O1公司我-第1-O5天 | 84.39 (13) | C8-O6-Tb1型三 | 118.3 (3) |
O2-Tb1-O5型 | 154.22 (14) | 氧气-C1-O1 | 125.4 (5) |
O1公司我-Tb1-O4号机组ii(ii) | 151.43 (12) | O2-C1-C2型 | 117.9 (5) |
O2-Tb1-O4型ii(ii) | 80.50 (13) | O1-C1-C2型 | 116.7 (5) |
O5-Tb1-O4型ii(ii) | 104.46 (13) | C6-C2-C3 | 118.0(4) |
O1公司我-Tb1-O2瓦 | 72.60(12) | C6-C2-C1 | 120.7 (4) |
氧合二-Tb1-O2W | 79.21 (13) | C3-C2-C1 | 121.3 (5) |
O5-Tb1-O2W型 | 79.88 (13) | C4-C3-C2型 | 118.6 (5) |
O4号机组ii(ii)-Tb1-O2瓦 | 135.25 (12) | C4-C3-H3型 | 120.7 |
O1公司我-Tb1-O3号 | 141.11 (12) | C2-C3-H3型 | 120.7 |
O2-Tb1-O3 | 78.56 (13) | C5-C6-C2型 | 119.4 (5) |
O5-Tb1-O3型 | 80.16 (12) | C5-C6-H6 | 120.3 |
O4号机组ii(ii)-Tb1-O3号 | 67.43 (11) | C2-C6-H6型 | 120.3 |
O2W-Tb1-O3型 | 69.67 (11) | N1-C4-C3型 | 123.8 (5) |
O1公司我-Tb1-O6号三 | 85.24 (13) | N1-C4-H4型 | 118.1 |
O2-Tb1-O6型三 | 137.67 (13) | C3至C4 | 118.1 |
O5-Tb1-O6型三 | 66.65(12) | N1-C5-C6 | 122.9 (5) |
O4号机组ii(ii)-Tb1-O6型三 | 74.06 (12) | N1-C5-H5型 | 118.6 |
O2W-Tb1-O6型三 | 141.48 (12) | C6-C5-H5型 | 118.6 |
O3-Tb1-O6型三 | 119.77 (12) | C4-N1-C5 | 117.4 (4) |
O1公司我-Tb1-O1W型 | 75.34 (12) | O4-C7-O3 | 126.5 (5) |
O2-Tb1-O1W型 | 72.48 (13) | O4-C7-C7型ii(ii) | 117.1 (5) |
O5-Tb1-O1W型 | 133.16 (12) | O3-C7-C7型ii(ii) | 116.4 (5) |
O4号机组ii(ii)-Tb1-O1W型 | 79.12 (11) | C7-O4-Tb1型ii(ii) | 118.1 (3) |
O2W-Tb1-O1W型 | 130.27 (12) | C1-O1-Tb1型我 | 154.0 (4) |
O3-Tb1-O1W型 | 138.71 (11) | Tb1-O1W-H1W型 | 115.5 |
O6公司三-Tb1-O1W型 | 69.91 (12) | Tb1-O1W-H2W型 | 129.8 |
C8-O5-Tb1型 | 119.1 (3) | H1W-O1W-H2W型 | 106 |
C1-O2-Tb1型 | 149.9 (4) | Tb1-O2W-H3W型 | 122.5 |
C7-O3-Tb1型 | 116.5 (3) | Tb1-O2W-H4W型 | 129.8 |
O5-C8-O6型 | 127.0 (5) | H3W-O2W-H4W型 | 107.4 |
O5-C8-C8型三 | 117.0 (5) | | |
对称代码:(i)−x个+3/2,−年+1/2,−z(z)+1; (ii)−x个+3/2,−年−1/2,−z(z)+1; (iii)−x个+2,年,−z(z)+3/2. |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
O1公司W公司-氢气W公司···臭氧iv(四) | 0.84 | 2.22 | 2.992 (5) | 153 |
氧气W公司-H4型W公司···O1公司W公司我 | 0.84 | 2.19 | 3.003 (5) | 163 |
O1公司W公司-上半年W公司···N1型v(v) | 0.84 | 1.83 | 2.661 (5) | 167 |
氧气W公司-H3级W公司···O6公司六 | 0.84 | 2.01 | 2.836 (5) | 172 |
对称代码:(i)−x个+3/2,−年+1/2,−z(z)+1; (iv)x个,−年,z(z)+1/2; (v)−x个+1,−年,−z(z)+1; (vi)−x个+2,−年,−z(z)+1. |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | [Tb(C6H(H)4不2)(C)2O(运行)4)(H)2O)2] |
M(M)第页 | 405.07 |
晶体系统,空间组 | 单诊所,C2/c(c) |
温度(K) | 296 |
一,b条,c(c)(Å) | 17.7919 (18), 9.9259 (10), 12.9670 (13) |
β(°) | 112.414 (1) |
V(V)(Å三) | 2117.0 (4) |
Z轴 | 8 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 6.72 |
晶体尺寸(mm) | 0.23 × 0.22 × 0.20 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Bruker APEXII区域探测器 衍射仪 |
吸收校正 | 多扫描 (4月2日;布鲁克,2004年) |
T型最小值,T型最大值 | 0.241, 0.272 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 5243, 1907, 1674 |
R(右)整数 | 0.031 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.599 |
|
精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.025、0.063、1.01 |
反射次数 | 1907 |
参数数量 | 163 |
约束装置数量 | 6 |
氢原子处理 | 受约束的氢原子参数 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 1.40,−1.31 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
O1W-H2W···O3我 | 0.84 | 2.22 | 2.992 (5) | 153.3 |
O2W-H4W··O1Wii(ii) | 0.84 | 2.19 | 3.003 (5) | 163.2 |
O1W-H1W···N1三 | 0.84 | 1.83 | 2.661 (5) | 167.3 |
O2W-H3W··O6iv(四) | 0.84 | 2.01 | 2.836 (5) | 171.6 |
对称代码:(i)x个,−年,z(z)+1/2; (ii)−x个+3/2,−年+1/2,−z(z)+1; (iii)−x个+1,−年,−z(z)+1; (iv)−x个+2,−年,−z(z)+1. |