有机化合物\(\def\h填{\hskip5em}\def\hfil{\hski p3em}\def\eqno#1{\hfil{#1}}\)

期刊徽标晶体学
通信
国际标准编号:2056-9890

乙基3-溴-1-(3-氯-2-吡啶基)-1H(H)-吡唑-5-羧酸盐

南京理工大学理学院应用化学系,南京210009,中华人民共和国
*通信电子邮件:zhuhj@njut.edu.cn

(收到日期:2008年10月16日; 2008年11月22日接受; 在线2008年12月13日)

标题化合物C11H(H)9溴氯化铵O(运行)2是合成Rynaxypyre的中间体,Rynaxybyre是一种新型杀虫邻氨基苯甲酸二胺,用作强效和选择性的ryanodine受体激活剂。芳香环平面之间的二面角为78.7(2)°。

相关文献

合成程序见:拉姆等。(2007[Lahm,G.P.、Stevenson,T.M.、Selby,T.P.,Freudenberger,J.H.、Cordova,D.、Flexner,L.、Bellin,C.A.、Dubas,C.M.、Smith,B.K.、Hughes,K.A.、Hollinghaus,J.G.、Clark,C.E.和Benner,E.A.(2007)。生物组织医学化学快报17,6274-6279。]). 有关键长数据,请参见:Allen等。(1987【Allen,F.H.、Kennard,O.、Watson,D.G.、Brammer,L.、Orpen,A.G.和Taylor,R.(1987)。《化学与社会杂志》珀金分卷2,第S1-19页。】).

【方案一】

实验

水晶数据
  • C类11H(H)9溴氯化铵O(运行)2

  • M(M)第页= 330.57

  • 正交各向异性,P(P)212121

  • = 7.404 (2) Å

  • b条= 10.024 (2) Å

  • c(c)= 17.072 (3) Å

  • V(V)= 1267.0 (4) Å

  • Z轴= 4

  • K(K)α辐射

  • μ=3.45毫米−1

  • T型=298(2)K

  • 0.40×0.30×0.30mm

数据收集
  • Enraf–Nonius CAD-4衍射仪

  • 吸收校正:ψ扫描(北部等。, 1968【North,A.C.T.,Phillips,D.C.&Mathews,F.S.(1968),《结晶学报》A24,351-359。】)T型最小值= 0.339,T型最大值=0.424(预期范围=0.284–0.355)

  • 2295次测量反射

  • 1347次独立反射

  • 959次反射> 2σ()

  • R(右)整数= 0.051

  • 每200次反射强度衰减3次标准反射:1%

精炼
  • R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.056

  • 水风险(F类2) = 0.129

  • S公司= 1.00

  • 1347次反射

  • 163个参数

  • 受约束的氢原子参数

  • Δρ最大值=0.33埃−3

  • Δρ最小值=-0.42埃−3

  • 绝对结构:Flack(1983[Flack,H.D.(1983),《晶体学报》A39,876-881。]),15对Friedel

  • Flack参数:0.37

数据收集:CAD-4软件(恩拉夫·诺尼乌斯,1985年[Enraf-Nonius(1985)。CAD-4软件。荷兰代尔夫特Enraf-Nius。]); 细胞精细化: CAD-4软件; 数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995年[Harms,K.和Wocadlo,S.(1995),XCAD4。德国马尔堡大学); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.

支持信息


注释顶部

乙基3-溴-1-(3-氯吡啶-2-基)-1H(H)-吡唑-5-羧酸盐是合成Rynaxypre的重要中间体之一,Rynaxycyre是一种新型的杀虫邻氨基苯甲酸二胺,用作一种有效的选择性ryanodine受体活化剂(Lahm等。, 2007).

(I)的分子结构如图1所示,补充材料中给出了几何参数的完整列表。键的长度和角度在正常范围内(艾伦等。, 1987). 环A(C1-C5/N1)和环B(C9-C11/N2/N3)的二面角测量为78.7(2)°。

未观察到明显的分子内或分子间氢键晶体结构(图2)。

相关文献顶部

合成程序见:拉姆等。(2007). 有关键长数据,请参见:Allen等。(1987).

实验顶部

标题化合物(I)是通过文献报道的方法合成的(拉姆等。, 2007). 通过溶解3-溴-1-(3-氯吡啶-2-基)-1乙基得到标题化合物的晶体H(H)-吡唑-5-羧酸盐(3.3g,10.0mmol)存于乙腈(60ml)中,并在室温下缓慢蒸发溶剂约20d。

精炼顶部

H原子以几何方式定位,对于芳香族H,O-H=0.82 Au,C-H=0.93 Au,对于CH,C-H=0.97 Au2CH为0.96º组。氢原子被限制在其母原子上U型国际标准化组织(H)=xU(xU)等式(C/O),其中x个=1.2,对于芳香族H和x个其他H=1.5。

计算详细信息顶部

数据收集:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1985);细胞精细化: CAD-4软件(Enraf–Nonius,1985);数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(Sheldrick,2008)。

数字顶部
[图1] 图1。标题分子结构图,带有原子编号方案。位移椭球是在50%的概率水平上绘制的。
[图2] 图2。(I)的包装图。
乙基3-溴-1-(3-氯吡啶-2-基)-1H(H)-吡唑-5-羧酸盐顶部
水晶数据 顶部
C类11H(H)9溴氯化铵O(运行)2F类(000) = 656
M(M)第页= 330.57D类x个=1.733毫克
正交各向异性,P(P)212121K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å
大厅符号:P 2ac 2ab25次反射的细胞参数
= 7.404 (2) Åθ= 9–13°
b条= 10.024 (2) ŵ=3.45毫米1
c(c)= 17.072 (3) ÅT型=298千
V(V)= 1267.0 (4) Å块,无色
Z轴= 40.40×0.30×0.30mm
数据收集 顶部
Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
959次反射> 2σ()
辐射源:细焦点密封管R(右)整数= 0.051
石墨单色仪θ最大值= 25.3°,θ最小值= 2.4°
ω/2θ扫描小时= 08
吸收校正:ψ扫描
(北部等。, 1968)
k= 012
T型最小值= 0.339,T型最大值= 0.424=2020
2295次测量反射每200次反射中有3次标准反射
1347次独立反射强度衰减:1%
精炼 顶部
优化于F类2二次原子位置:差分傅里叶映射
最小二乘矩阵:完整氢站点位置:从邻近站点推断
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.056受约束的氢原子参数
水风险(F类2) = 0.129 w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.063P(P))2+ 0.5P(P)]
哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3
S公司= 1.01(Δ/σ)最大值= 0.001
1347次反射Δρ最大值=0.33埃
163个参数Δρ最小值=0.42埃
0个约束绝对结构:Flack(1983),155对Frieldel对
主原子位置定位:结构-变量直接方法绝对结构参数:0.37
水晶数据 顶部
C类11H(H)9溴氯化铵O(运行)2V(V)= 1267.0 (4) Å
M(M)第页= 330.57Z轴= 4
正交各向异性,P(P)212121K(K)α辐射
= 7.404 (2) ŵ=3.45毫米1
b条= 10.024 (2) ÅT型=298千
c(c)= 17.072 (3) Å0.40×0.30×0.30mm
数据收集 顶部
Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
959次反射> 2σ()
吸收校正:ψ扫描
(北部等。, 1968)
R(右)整数= 0.051
T型最小值= 0.339,T型最大值= 0.424每200次反射中有3次标准反射
2295次测量反射强度衰减:1%
1347次独立反射
精炼 顶部
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.056受约束的氢原子参数
水风险(F类2) = 0.129Δρ最大值=0.33埃
S公司= 1.01Δρ最小值=0.42埃
1347次反射绝对结构:Flack(1983),155对Frieldel对
163个参数绝对结构参数:0.37
0个约束
特殊细节 顶部

几何图形.所有e.s.d.(除了两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.)均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时,单元e.s.d.单独考虑;只有当由晶体对称性定义时,才使用电解槽参数中e.s.d.之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类2对抗所有反射。加权R(右)-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规R(右)-因素R(右)基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算R(右)-因子(gt).与选择反射进行细化无关。R(右)-因素基于F类2在统计上大约是基于F类、和R(右)-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部
x个z(z)U型国际标准化组织*/U型等式
英国0.03831 (14)0.07498 (8)0.79256 (5)0.0580 (3)
0.2975 (3)0.5607 (2)0.90139 (15)0.0661 (6)
O1公司0.0029 (10)0.4767 (5)1.0803 (3)0.0645 (19)
N1型0.2392 (8)0.5697 (7)0.9219 (4)0.0481 (16)
C1类0.0862 (11)0.6189 (7)0.9087 (5)0.046 (2)
指挥与控制0.0441 (15)0.7564 (7)0.9030 (4)0.056 (2)
过氧化氢0.13550.81900.89640.067*
氮气0.0180 (10)0.3292 (5)0.8505 (3)0.0457 (17)
氧气0.0190 (8)0.2604 (4)1.1121 (3)0.0483 (14)
N3号机组0.0260 (10)0.3932 (5)0.9196 (3)0.0442 (16)
C3类0.1273 (14)0.7949 (8)0.9073 (6)0.059 (2)
H3A型0.15640.88480.90270.071*
补体第四成份0.2629 (11)0.7014 (8)0.9187 (5)0.055 (2)
H4A型0.38010.73330.92450.066*
C5级0.0628 (13)0.5354 (6)0.9191 (4)0.045 (2)
C6级0.0235 (18)0.1666 (8)1.2393 (5)0.074 (3)
H6A型0.03240.18601.29430.111*
H6B型0.12180.10991.22410.111*
H6C型0.08890.12241.22890.111*
抄送70.0317 (13)0.2919 (7)1.1945 (4)0.0476 (19)
H7A型0.06710.34991.20970.057*
H7B型0.14440.33771.20520.057*
抄送80.0085 (12)0.3603 (7)1.0617 (4)0.046 (2)
C9级0.0042 (11)0.3108 (6)0.9816 (4)0.041 (2)
C10号机组0.0303 (12)0.1880 (6)0.9503 (4)0.0413 (17)
H10A型0.05260.10920.97730.050*
C11号机组0.0173 (11)0.2032 (6)0.8719 (4)0.0383 (18)
原子位移参数(2) 顶部
U型11U型22U型33U型12U型13U型23
英国0.0822 (6)0.0377 (4)0.0539 (4)0.0033 (5)0.0035 (5)0.0055 (4)
0.0537 (13)0.0473 (14)0.0974 (17)0.0016 (12)0.0030 (12)0.0009 (13)
O1公司0.107 (6)0.032 (3)0.054 (3)0.003 (3)0.006 (4)0.004 (2)
N1型0.047 (4)0.028 (4)0.070 (4)0.004 (4)0.019 (3)0.005 (4)
C1类0.045 (5)0.034 (4)0.058 (5)0.004 (3)0.002 (4)0.000 (3)
指挥与控制0.082 (7)0.026 (4)0.059 (5)0.001 (5)0.018 (6)0.003 (3)
氮气0.067 (5)0.028 (3)0.042 (3)0.003 (3)0.014 (4)0.002 (2)
氧气0.070 (4)0.035 (3)0.040 (2)0.000 (3)0.004 (3)0.001 (2)
N3号机组0.066 (4)0.024 (3)0.043 (3)0.003 (3)0.001 (3)0.001 (2)
C3类0.071 (7)0.030 (5)0.077 (6)0.009 (5)0.004 (6)0.003 (4)
补体第四成份0.034 (5)0.052 (5)0.079 (6)0.001 (4)0.002 (5)0.001 (5)
C5级0.073 (6)0.025 (4)0.036 (4)0.010 (4)0.005 (4)0.007 (3)
C6级0.113 (9)0.058 (5)0.050 (5)0.006 (6)0.006 (6)0.013 (4)
抄送70.059 (5)0.043 (4)0.041 (4)0.010 (4)0.006 (4)0.005 (3)
抄送80.057 (7)0.029 (4)0.052 (4)0.008 (4)0.009 (4)0.001 (3)
C9级0.052 (6)0.030 (4)0.041 (4)0.001 (4)0.000 (4)0.001 (3)
C10号机组0.057 (5)0.019 (3)0.048 (4)0.002 (4)0.003 (4)0.003 (3)
C11号机组0.044 (5)0.025 (3)0.046 (4)0.004 (3)0.003 (4)0.001 (3)
几何参数(λ,º) 顶部
溴-C111.874 (6)N3-C5号1.452 (8)
氯-C11.675 (8)C3-C4型1.387 (12)
O1-C8型1.210 (7)C3-H3A型0.9300
N1-C4型1.334 (9)C4-H4A型0.9300
N1-C5型1.351 (11)C6至C71.472 (9)
C1-C5号机组1.396 (11)C6-H6A型0.9600
C1-C2类1.416 (10)C6-H6B型0.9600
C2-C3型1.328 (12)C6-H6C型0.9600
C2-H2A型0.9300C7-H7A型0.9700
N2-C11型1.340 (8)C7-H7B基因0.9700
N2-N3气体1.344 (7)C8-C9型1.454 (10)
氧气-C81.323 (8)C9-C10型1.356 (9)
氧气-C71.445 (7)C10-C11号机组1.351 (9)
N3-C9型1.361 (8)C10-H10A型0.9300
C4-N1-C5112.2 (6)H6A-C6-H6B型109.5
C5-C1-C2114.7 (8)C7-C6-H6C型109.5
C5-C1-Cl122.6 (6)H6A-C6-H6C型109.5
C2-C1-氯122.6 (7)H6B-C6-H6C型109.5
C3-C2-C1119.3 (9)氧气-C7-C6108.5 (6)
C3-C2-H2A型120.4O2-C7-H7A110
C1-C2-H2A120.4C6-C7-H7A型110
C11-N2-N3102.7 (5)氧气-C7-H7B110
C8-O2-C7型118.2 (5)C6-C7-H7B型110
N2-N3-C9112.7 (5)H7A-C7-H7B型108.4
N2-N3-C5118.2 (5)O1-C8-O2124.1 (7)
C9-N3-C5129.1 (5)O1-C8-C9125.1 (7)
C2-C3-C4型120.2 (8)O2-C8-C9110.8 (6)
C2-C3-H3A型119.9C10-C9-N3105.5 (6)
C4-C3-H3A型119.9C10-C9-C8号机组132.6 (6)
N1-C4-C3型125.4 (8)N3-C9-C8121.9 (6)
N1-C4-H4A型117.3C11-C10-C9106.1 (6)
C3-C4-H4A型117.3C11-C10-H10A型126.9
N1-C5-C1128.0 (6)C9-C10-H10A126.9
N1-C5-N3型115.5 (7)N2-C11-C10型113.0 (6)
C1-C5-N3型116.2 (8)N2-C11-Br117.8 (5)
C7-C6-H6A型109.5C10-C11-Br129.2 (5)
C7-C6-H6B型109.5
C5-C1-C2-C3型0.4 (12)C8-O2-C7-C6174.4 (8)
氯-C1-C2-C3178.2 (8)C7-O2-C8-O12.5 (13)
C11-N2-N3-C90.4 (9)C7-O2-C8-C9177.6 (7)
C11-N2-N3-C5180.0 (7)N2-N3-C9-C100.9 (10)
C1-C2-C3-C4型1.2 (15)C5-N3-C9-C10179.6 (8)
C5-N1-C4-C34.9 (12)N2-N3-C9-C8177.7 (7)
C2-C3-C4-N1型3.8 (16)C5-N3-C9-C81.8 (14)
C4-N1-C5-C14.2 (11)O1-C8-C9-C10171.0 (10)
C4-N1-C5-N3177.9 (6)氧气-C8-C9-C109.1 (13)
C2-C1-C5-N1型2.1 (12)O1-C8-C9-N37.1 (14)
氯-C1-C5-N1176.5 (6)O2-C8-C9-N3172.8 (8)
C2-C1-C5-N3型175.8 (6)N3-C9-C10-C11号0.9 (10)
氯-C1-C5-N32.8 (10)C8-C9-C10-C11号机组177.4 (9)
N2-N3-C5-N189.5 (9)N3-N2-C11-C100.2 (10)
C9-N3-C5-N191.0 (10)N3-N2-C11-溴179.4 (6)
N2-N3-C5-C1型85.1 (9)C9-C10-C11-N20.7 (10)
C9-N3-C5-C194.4 (10)C9-C10-C11-Br179.8 (6)

实验细节

水晶数据
化学配方C类11H(H)9溴氯化铵O(运行)2
M(M)第页330.57
晶体系统,空间组正交各向异性,P(P)212121
温度(K)298
,b条,c(c)(Å)7.404 (2), 10.024 (2), 17.072 (3)
V(V))1267.0 (4)
Z轴4
辐射类型K(K)α
µ(毫米1)3.45
晶体尺寸(mm)0.40 × 0.30 × 0.30
数据收集
衍射仪Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
吸收校正ψ扫描
(北部等。, 1968)
T型最小值,T型最大值0.339, 0.424
测量、独立和
观察到的[> 2σ()]反射
2295, 1347, 959
R(右)整数0.051
(罪θ/λ)最大值1)0.601
精炼
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司0.056, 0.129, 1.01
反射次数1347
参数数量163
氢原子处理受约束的氢原子参数
Δρ最大值, Δρ最小值(eó))0.33,0.42
绝对结构Flack(1983),155对Frieldel
绝对结构参数0.37

计算机程序:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1985),XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995),SHELXS97标准(谢尔德里克,2008),SHELXL97型(谢尔德里克,2008),SHELXTL公司(Sheldrick,2008)。

 

致谢

作者感谢南京大学测试与分析中心的支持。

工具书类

第一次引用Allen,F.H.、Kennard,O.、Watson,D.G.、Brammer,L.、Orpen,A.G.和Taylor,R.(1987年)。化学杂志。Soc.Perkin事务处理。2第S1-19页交叉参考 科学网 谷歌学者
第一次引用Enraf–Nonius(1985)。CAD-4软件Enraf–荷兰代尔夫特的Nonius。 谷歌学者
第一次引用Flack,H.D.(1983年)。《水晶学报》。39, 876–881. 交叉参考 中国科学院 科学网 IUCr日志 谷歌学者
第一次引用Harms,K.和Wocadlo,S.(1995年)。XCAD4公司德国马尔堡大学。 谷歌学者
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