相关文献
合成程序见:拉姆等。(2007). 有关键长数据,请参见:Allen等。(1987).
实验
水晶数据
C类11H(H)9溴氯化铵三O(运行)2 M(M)第页= 330.57 正交各向异性,P(P)212121 一= 7.404 (2) Å b条= 10.024 (2) Å c(c)= 17.072 (3) Å V(V)= 1267.0 (4) Å三 Z轴= 4 钼K(K)α辐射 μ=3.45毫米−1 T型=298(2)K 0.40×0.30×0.30mm
|
数据收集:CAD-4软件(恩拉夫·诺尼乌斯,1985年); 细胞精细化: CAD-4软件; 数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995年); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年); 分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008年); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.
支持信息
标题化合物(I)是通过文献报道的方法合成的(拉姆等。, 2007). 通过溶解3-溴-1-(3-氯吡啶-2-基)-1乙基得到标题化合物的晶体H(H)-吡唑-5-羧酸盐(3.3g,10.0mmol)存于乙腈(60ml)中,并在室温下缓慢蒸发溶剂约20d。
H原子以几何方式定位,对于芳香族H,O-H=0.82 Au,C-H=0.93 Au,对于CH,C-H=0.97 Au2CH为0.96º三组。氢原子被限制在其母原子上U型国际标准化组织(H)=xU(xU)等式(C/O),其中x个=1.2,对于芳香族H和x个其他H=1.5。
数据收集:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1985);细胞精细化: CAD-4软件(Enraf–Nonius,1985);数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(Sheldrick,2008)。
乙基3-溴-1-(3-氯吡啶-2-基)-1H(H)-吡唑-5-羧酸盐顶部 水晶数据 顶部 C类11H(H)9溴氯化铵三O(运行)2 | F类(000) = 656 |
M(M)第页= 330.57 | D类x个=1.733毫克−三 |
正交各向异性,P(P)212121 | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:P 2ac 2ab | 25次反射的细胞参数 |
一= 7.404 (2) Å | θ= 9–13° |
b条= 10.024 (2) Å | µ=3.45毫米−1 |
c(c)= 17.072 (3) Å | T型=298千 |
V(V)= 1267.0 (4) Å三 | 块,无色 |
Z轴= 4 | 0.40×0.30×0.30mm |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 959次反射我> 2σ(我) |
辐射源:细焦点密封管 | R(右)整数= 0.051 |
石墨单色仪 | θ最大值= 25.3°,θ最小值= 2.4° |
ω/2θ扫描 | 小时= 0→8 |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | k= 0→12 |
T型最小值= 0.339,T型最大值= 0.424 | 我=−20→20 |
2295次测量反射 | 每200次反射中有3次标准反射 |
1347次独立反射 | 强度衰减:1% |
精炼 顶部 优化于F类2 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
最小二乘矩阵:完整 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.056 | 受约束的氢原子参数 |
水风险(F类2) = 0.129 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.063P(P))2+ 0.5P(P)] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
S公司= 1.01 | (Δ/σ)最大值= 0.001 |
1347次反射 | Δρ最大值=0.33埃−三 |
163个参数 | Δρ最小值=−0.42埃−三 |
0个约束 | 绝对结构:Flack(1983),155对Frieldel对 |
主原子位置定位:结构-变量直接方法 | 绝对结构参数:0.37 |
水晶数据 顶部 C类11H(H)9溴氯化铵三O(运行)2 | V(V)= 1267.0 (4) Å三 |
M(M)第页= 330.57 | Z轴= 4 |
正交各向异性,P(P)212121 | 钼K(K)α辐射 |
一= 7.404 (2) Å | µ=3.45毫米−1 |
b条= 10.024 (2) Å | T型=298千 |
c(c)= 17.072 (3) Å | 0.40×0.30×0.30mm |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 959次反射我> 2σ(我) |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | R(右)整数= 0.051 |
T型最小值= 0.339,T型最大值= 0.424 | 每200次反射中有3次标准反射 |
2295次测量反射 | 强度衰减:1% |
1347次独立反射 | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.056 | 受约束的氢原子参数 |
水风险(F类2) = 0.129 | Δρ最大值=0.33埃−三 |
S公司= 1.01 | Δρ最小值=−0.42埃−三 |
1347次反射 | 绝对结构:Flack(1983),155对Frieldel对 |
163个参数 | 绝对结构参数:0.37 |
0个约束 | |
特殊细节 顶部 几何图形.所有e.s.d.(除了两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.)均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时,单元e.s.d.单独考虑;只有当由晶体对称性定义时,才使用电解槽参数中e.s.d.之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。 |
精炼.改进F类2对抗所有反射。加权R(右)-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规R(右)-因素R(右)基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算R(右)-因子(gt)等.与选择反射进行细化无关。R(右)-因素基于F类2在统计上大约是基于F类、和R(右)-基于所有数据的因素将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
英国 | 0.03831 (14) | 0.07498 (8) | 0.79256 (5) | 0.0580 (3) | |
氯 | 0.2975 (3) | 0.5607 (2) | 0.90139 (15) | 0.0661 (6) | |
O1公司 | 0.0029 (10) | 0.4767 (5) | 1.0803 (3) | 0.0645 (19) | |
N1型 | −0.2392 (8) | 0.5697 (7) | 0.9219 (4) | 0.0481 (16) | |
C1类 | 0.0862 (11) | 0.6189 (7) | 0.9087 (5) | 0.046 (2) | |
指挥与控制 | 0.0441 (15) | 0.7564 (7) | 0.9030 (4) | 0.056 (2) | |
过氧化氢 | 0.1355 | 0.8190 | 0.8964 | 0.067* | |
氮气 | −0.0180 (10) | 0.3292 (5) | 0.8505 (3) | 0.0457 (17) | |
氧气 | 0.0190 (8) | 0.2604 (4) | 1.1121 (3) | 0.0483 (14) | |
N3号机组 | −0.0260 (10) | 0.3932 (5) | 0.9196 (3) | 0.0442 (16) | |
C3类 | −0.1273 (14) | 0.7949 (8) | 0.9073 (6) | 0.059 (2) | |
H3A型 | −0.1564 | 0.8848 | 0.9027 | 0.071* | |
补体第四成份 | −0.2629 (11) | 0.7014 (8) | 0.9187 (5) | 0.055 (2) | |
H4A型 | −0.3801 | 0.7333 | 0.9245 | 0.066* | |
C5级 | −0.0628 (13) | 0.5354 (6) | 0.9191 (4) | 0.045 (2) | |
C6级 | 0.0235 (18) | 0.1666 (8) | 1.2393 (5) | 0.074 (3) | |
H6A型 | 0.0324 | 0.1860 | 1.2943 | 0.111* | |
H6B型 | 0.1218 | 0.1099 | 1.2241 | 0.111* | |
H6C型 | −0.0889 | 0.1224 | 1.2289 | 0.111* | |
抄送7 | 0.0317 (13) | 0.2919 (7) | 1.1945 (4) | 0.0476 (19) | |
H7A型 | −0.0671 | 0.3499 | 1.2097 | 0.057* | |
H7B型 | 0.1444 | 0.3377 | 1.2052 | 0.057* | |
抄送8 | 0.0085 (12) | 0.3603 (7) | 1.0617 (4) | 0.046 (2) | |
C9级 | 0.0042 (11) | 0.3108 (6) | 0.9816 (4) | 0.041 (2) | |
C10号机组 | 0.0303 (12) | 0.1880 (6) | 0.9503 (4) | 0.0413 (17) | |
H10A型 | 0.0526 | 0.1092 | 0.9773 | 0.050* | |
C11号机组 | 0.0173 (11) | 0.2032 (6) | 0.8719 (4) | 0.0383 (18) | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
英国 | 0.0822 (6) | 0.0377 (4) | 0.0539 (4) | 0.0033 (5) | 0.0035 (5) | −0.0055 (4) |
氯 | 0.0537 (13) | 0.0473 (14) | 0.0974 (17) | 0.0016 (12) | 0.0030 (12) | 0.0009 (13) |
O1公司 | 0.107 (6) | 0.032 (3) | 0.054 (3) | −0.003 (3) | −0.006 (4) | −0.004 (2) |
N1型 | 0.047 (4) | 0.028 (4) | 0.070 (4) | 0.004 (4) | 0.019 (3) | 0.005 (4) |
C1类 | 0.045 (5) | 0.034 (4) | 0.058 (5) | 0.004 (3) | 0.002 (4) | 0.000 (3) |
指挥与控制 | 0.082 (7) | 0.026 (4) | 0.059 (5) | 0.001 (5) | 0.018 (6) | 0.003 (3) |
氮气 | 0.067 (5) | 0.028 (3) | 0.042 (3) | 0.003 (3) | −0.014 (4) | 0.002 (2) |
氧气 | 0.070 (4) | 0.035 (3) | 0.040 (2) | 0.000 (3) | −0.004 (3) | −0.001 (2) |
N3号机组 | 0.066 (4) | 0.024 (3) | 0.043 (3) | −0.003 (3) | −0.001 (3) | −0.001 (2) |
C3类 | 0.071 (7) | 0.030 (5) | 0.077 (6) | 0.009 (5) | 0.004 (6) | −0.003 (4) |
补体第四成份 | 0.034 (5) | 0.052 (5) | 0.079 (6) | 0.001 (4) | 0.002 (5) | −0.001 (5) |
C5级 | 0.073 (6) | 0.025 (4) | 0.036 (4) | −0.010 (4) | −0.005 (4) | 0.007 (3) |
C6级 | 0.113 (9) | 0.058 (5) | 0.050 (5) | 0.006 (6) | −0.006 (6) | 0.013 (4) |
抄送7 | 0.059 (5) | 0.043 (4) | 0.041 (4) | 0.010 (4) | −0.006 (4) | −0.005 (3) |
抄送8 | 0.057 (7) | 0.029 (4) | 0.052 (4) | −0.008 (4) | 0.009 (4) | 0.001 (3) |
C9级 | 0.052 (6) | 0.030 (4) | 0.041 (4) | −0.001 (4) | 0.000 (4) | 0.001 (3) |
C10号机组 | 0.057 (5) | 0.019 (3) | 0.048 (4) | 0.002 (4) | −0.003 (4) | 0.003 (3) |
C11号机组 | 0.044 (5) | 0.025 (3) | 0.046 (4) | −0.004 (3) | 0.003 (4) | 0.001 (3) |
几何参数(λ,º) 顶部 溴-C11 | 1.874 (6) | N3-C5号 | 1.452 (8) |
氯-C1 | 1.675 (8) | C3-C4型 | 1.387 (12) |
O1-C8型 | 1.210 (7) | C3-H3A型 | 0.9300 |
N1-C4型 | 1.334 (9) | C4-H4A型 | 0.9300 |
N1-C5型 | 1.351 (11) | C6至C7 | 1.472 (9) |
C1-C5号机组 | 1.396 (11) | C6-H6A型 | 0.9600 |
C1-C2类 | 1.416 (10) | C6-H6B型 | 0.9600 |
C2-C3型 | 1.328 (12) | C6-H6C型 | 0.9600 |
C2-H2A型 | 0.9300 | C7-H7A型 | 0.9700 |
N2-C11型 | 1.340 (8) | C7-H7B基因 | 0.9700 |
N2-N3气体 | 1.344 (7) | C8-C9型 | 1.454 (10) |
氧气-C8 | 1.323 (8) | C9-C10型 | 1.356 (9) |
氧气-C7 | 1.445 (7) | C10-C11号机组 | 1.351 (9) |
N3-C9型 | 1.361 (8) | C10-H10A型 | 0.9300 |
| | | |
C4-N1-C5 | 112.2 (6) | H6A-C6-H6B型 | 109.5 |
C5-C1-C2 | 114.7 (8) | C7-C6-H6C型 | 109.5 |
C5-C1-Cl | 122.6 (6) | H6A-C6-H6C型 | 109.5 |
C2-C1-氯 | 122.6 (7) | H6B-C6-H6C型 | 109.5 |
C3-C2-C1 | 119.3 (9) | 氧气-C7-C6 | 108.5 (6) |
C3-C2-H2A型 | 120.4 | O2-C7-H7A | 110 |
C1-C2-H2A | 120.4 | C6-C7-H7A型 | 110 |
C11-N2-N3 | 102.7 (5) | 氧气-C7-H7B | 110 |
C8-O2-C7型 | 118.2 (5) | C6-C7-H7B型 | 110 |
N2-N3-C9 | 112.7 (5) | H7A-C7-H7B型 | 108.4 |
N2-N3-C5 | 118.2 (5) | O1-C8-O2 | 124.1 (7) |
C9-N3-C5 | 129.1 (5) | O1-C8-C9 | 125.1 (7) |
C2-C3-C4型 | 120.2 (8) | O2-C8-C9 | 110.8 (6) |
C2-C3-H3A型 | 119.9 | C10-C9-N3 | 105.5 (6) |
C4-C3-H3A型 | 119.9 | C10-C9-C8号机组 | 132.6 (6) |
N1-C4-C3型 | 125.4 (8) | N3-C9-C8 | 121.9 (6) |
N1-C4-H4A型 | 117.3 | C11-C10-C9 | 106.1 (6) |
C3-C4-H4A型 | 117.3 | C11-C10-H10A型 | 126.9 |
N1-C5-C1 | 128.0 (6) | C9-C10-H10A | 126.9 |
N1-C5-N3型 | 115.5 (7) | N2-C11-C10型 | 113.0 (6) |
C1-C5-N3型 | 116.2 (8) | N2-C11-Br | 117.8 (5) |
C7-C6-H6A型 | 109.5 | C10-C11-Br | 129.2 (5) |
C7-C6-H6B型 | 109.5 | | |
| | | |
C5-C1-C2-C3型 | −0.4 (12) | C8-O2-C7-C6 | 174.4 (8) |
氯-C1-C2-C3 | 178.2 (8) | C7-O2-C8-O1 | −2.5 (13) |
C11-N2-N3-C9 | 0.4 (9) | C7-O2-C8-C9 | 177.6 (7) |
C11-N2-N3-C5 | 180.0 (7) | N2-N3-C9-C10 | −0.9 (10) |
C1-C2-C3-C4型 | 1.2 (15) | C5-N3-C9-C10 | 179.6 (8) |
C5-N1-C4-C3 | 4.9 (12) | N2-N3-C9-C8 | 177.7 (7) |
C2-C3-C4-N1型 | −3.8 (16) | C5-N3-C9-C8 | −1.8 (14) |
C4-N1-C5-C1 | −4.2 (11) | O1-C8-C9-C10 | 171.0 (10) |
C4-N1-C5-N3 | −177.9 (6) | 氧气-C8-C9-C10 | −9.1 (13) |
C2-C1-C5-N1型 | 2.1 (12) | O1-C8-C9-N3 | −7.1 (14) |
氯-C1-C5-N1 | −176.5 (6) | O2-C8-C9-N3 | 172.8 (8) |
C2-C1-C5-N3型 | 175.8 (6) | N3-C9-C10-C11号 | 0.9 (10) |
氯-C1-C5-N3 | −2.8 (10) | C8-C9-C10-C11号机组 | −177.4 (9) |
N2-N3-C5-N1 | 89.5 (9) | N3-N2-C11-C10 | 0.2 (10) |
C9-N3-C5-N1 | −91.0 (10) | N3-N2-C11-溴 | 179.4 (6) |
N2-N3-C5-C1型 | −85.1 (9) | C9-C10-C11-N2 | −0.7 (10) |
C9-N3-C5-C1 | 94.4 (10) | C9-C10-C11-Br | −179.8 (6) |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C类11H(H)9溴氯化铵三O(运行)2 |
M(M)第页 | 330.57 |
晶体系统,空间组 | 正交各向异性,P(P)212121 |
温度(K) | 298 |
一,b条,c(c)(Å) | 7.404 (2), 10.024 (2), 17.072 (3) |
V(V)(Å三) | 1267.0 (4) |
Z轴 | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 3.45 |
晶体尺寸(mm) | 0.40 × 0.30 × 0.30 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 |
吸收校正 | ψ扫描 (北部等。, 1968) |
T型最小值,T型最大值 | 0.339, 0.424 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 2295, 1347, 959 |
R(右)整数 | 0.051 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.601 |
|
精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.056, 0.129, 1.01 |
反射次数 | 1347 |
参数数量 | 163 |
氢原子处理 | 受约束的氢原子参数 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.33,−0.42 |
绝对结构 | Flack(1983),155对Frieldel |
绝对结构参数 | 0.37 |