有机化合物\(\def\h填{\hskip5em}\def\hfil{\hski p3em}\def\eqno#1{\hfil{#1}}\)

期刊徽标晶体学
通信
编号:2056-9890

联苯-2,2′-二乙酸二酯

南京理工大学理学院应用化学系,南京210009,中华人民共和国
*通信电子邮件:cj1908@126.com

(收到日期:2008年10月27日; 2008年10月28日接受; 在线2008年11月8日)

在标题化合物中,C16H(H)14O(运行)4作为2,2′-联苯的衍生物,苯环的取向为58.32(3)°。

相关文献

有关键长数据,请参见:Allen等。(1987【Allen,F.H.、Kennard,O.、Watson,D.G.、Brammer,L.、Orpen,A.G.和Taylor,R.(1987)。《化学与社会杂志》珀金分卷2,第S1-19页。】).

【方案一】

实验

水晶数据
  • C类16H(H)14O(运行)4

  • M(M)第页= 270.27

  • 单诊所,P(P)21/n个

  • = 8.8380 (18) Å

  • b条= 18.204 (4) Å

  • c(c)= 8.9620 (18) Å

  • β= 108.75 (3)°

  • V(V)= 1365.3 (5) Å

  • Z轴= 4

  • K(K)α辐射

  • μ=0.10毫米−1

  • T型=294(2)K

  • 0.30×0.20×0.10毫米

数据收集
  • Enraf–Nonius CAD-4衍射仪

  • 吸收校正:ψ扫描(北方等。, 1968【North,A.C.T.,Phillips,D.C.&Mathews,F.S.(1968),《结晶学报》A24,351-359。】)T型最小值= 0.972,T型最大值= 0.991

  • 2643次测量反射

  • 2478次独立反射

  • 1645次反射> 2σ()

  • 整数= 0.026

  • 3个标准反射频率:120分钟强度衰减:1%

精炼
  • [F类2> 2σ(F类2)] = 0.053

  • 水风险(F类2) = 0.156

  • S公司= 1.00

  • 2478次反射

  • 184个参数

  • 受约束的氢原子参数

  • Δρ最大值=0.23埃−3

  • Δρ最小值=−0.27埃−3

数据收集:CAD-4软件(恩拉夫·诺尼乌斯,1989年[Enraf-Nonius(1989)。CAD-4软件。荷兰代尔夫特Enraf-Nius。]); 细胞精细化: CAD-4软件; 数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995年【Harms,K.和Wocadlo,S.(1995)。XCAD4。德国马尔堡大学); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008年[Sheldrick,G.M.(2008),《水晶学报》,A64112-122。]); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.

支持信息


注释顶部

穿心莲内酯的一些衍生物是重要的化学物质。我们在此报告晶体结构标题化合物的名称。

在标题化合物(图1)中,键长(艾伦等。和角度在正常范围内。环A(C3-C8)和环B(C9-C14)当然是平面的,它们之间的二面角为A/B=58.32(3)°。

相关文献顶部

有关键长数据,请参见:Allen等。(1987).

实验顶部

为了制备标题化合物,在室温下将2,2'-双酚(10 g)溶解在醋酸酐(50 ml)中。反应完成后,用乙酸乙酯萃取,用饱和盐水洗涤,用硫酸钠干燥。过滤产物,浓缩有机层。在室温下从乙酸乙酯(10 ml)中获得适于X射线分析的晶体。

精炼顶部

氢原子被几何定位,芳香族H和甲基H的C-H分别为0.93和0.96º,并被限制在它们的母原子上国际标准化组织(H) =xU等式(C) 式中,对于甲基H,x=1.5,对于芳香族H原子,x=1.2。

计算详细信息顶部

数据收集:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1989);细胞精细化: CAD-4软件(Enraf–Nonius,1989);数据缩减:XCAD4公司(Harms和Wocadlo,1995年);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。

数字顶部
[图1] 图1。标题分子的分子结构,采用原子编号方案。在30%概率水平上绘制的位移椭球体。
联苯-2,2'-二乙酸二酯顶部
水晶数据 顶部
C类16H(H)14O(运行)4F类(000) = 568
M(M)第页= 270.27D类x个=1.315毫克
单诊所,P(P)21/n个K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å
大厅符号:-P 2yn25次反射的细胞参数
= 8.8380 (18) Åθ= 9–14°
b条= 18.204 (4) ŵ=0.10毫米1
c(c)= 8.9620 (18) ÅT型=294千
β= 108.75 (3)°块状,无色
V(V)= 1365.3 (5) Å0.30×0.20×0.10毫米
Z轴= 4
数据收集 顶部
Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
1645次反射> 2σ()
辐射源:细焦点密封管整数= 0.026
石墨单色仪θ最大值= 25.3°,θ最小值= 2.2°
ω/2θ扫描小时= 010
吸收校正:ψ扫描
(北部等。, 1968)
k= 021
T型最小值= 0.972,T型最大值= 0.991=1010
2643次测量反射每120分钟3次标准反射
2478次独立反射强度衰减:1%
精炼 顶部
优化于F类2二次原子位置:差分傅里叶映射
最小二乘矩阵:完整氢站点位置:从邻近站点推断
[F类2> 2σ(F类2)] = 0.054受约束的氢原子参数
水风险(F类2) = 0.156 w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.04P(P))2+ 2.02P(P)]
哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3
S公司= 1.00(Δ/σ)最大值< 0.001
2478次反射Δρ最大值=0.23埃
184个参数Δρ最小值=0.27埃
0个约束消光校正:SHELXL97型(谢尔德里克,2008),Fc*=kFc[1+0.001xFc2λ/罪(2θ)]-1/4
主原子位置定位:结构-变量直接方法消光系数:0.040(3)
水晶数据 顶部
C类16H(H)14O(运行)4V(V)= 1365.3 (5) Å
M(M)第页= 270.27Z轴= 4
单诊所,P(P)21/n个K(K)α辐射
= 8.8380 (18) ŵ=0.10毫米1
b条= 18.204 (4) ÅT型=294千
c(c)= 8.9620 (18) Å0.30×0.20×0.10毫米
β= 108.75 (3)°
数据收集 顶部
Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
1645次反射> 2σ()
吸收校正:ψ扫描
(北部等。, 1968)
整数= 0.026
T型最小值= 0.972,T型最大值= 0.991每120分钟3次标准反射
2643次测量反射强度衰减:1%
2478次独立反射
精炼 顶部
[F类2> 2σ(F类2)] = 0.0540个约束
水风险(F类2) = 0.156受约束的氢原子参数
S公司= 1.00Δρ最大值=0.23埃
2478次反射Δρ最小值=0.27埃
184个参数
特殊细节 顶部

几何图形所有的e.s.d.(除了两个l.s.平面之间的二面角中的e.s.d.)都是使用全协方差矩阵估计的。在估计距离、角度和扭转角中的e.s.d.时,单独考虑单元e.s.d;只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时,才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类2对抗所有反射。加权-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规-因素基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算-因子(gt).与选择反射进行细化无关。-因素基于F类2在统计上大约是基于F类,以及-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部
x个z(z)U型国际标准化组织*/U型等式
O10.0543 (3)0.18629 (18)0.4765 (3)0.0742 (8)
氧气0.0736 (3)0.22040 (12)0.7226 (3)0.0486 (6)
臭氧0.2528 (3)0.08431 (13)0.7691 (2)0.0468 (6)
O4号机组0.1896 (4)0.03274 (15)0.7923 (3)0.0762 (9)
C1类0.2647 (5)0.2666 (2)0.6182 (5)0.0750 (13)
甲型H1A0.28740.27190.52090.113*
H1B型0.35390.24370.69520.113*
H1C型0.24630.31420.65530.113*
指挥与控制0.1200 (5)0.2203 (2)0.5920 (5)0.0544 (9)
C3类0.0585 (4)0.17726 (18)0.7219 (4)0.0438 (8)
补体第四成份0.2080 (4)0.1915 (2)0.6172 (4)0.0576 (10)
H4A型0.22170.22690.53920.069*
C5级0.3376 (4)0.1522 (2)0.6297 (5)0.0649 (11)
H5A型0.43910.16130.55960.078*
C6级0.3171 (5)0.1001 (2)0.7448 (5)0.0656 (11)
H6A型0.40470.07380.75200.079*
抄送70.1664 (4)0.0864 (2)0.8507 (4)0.0522 (9)
H7A型0.15410.05110.92870.063*
抄送80.0327 (4)0.12500 (18)0.8416 (4)0.0406 (8)
C90.1255 (4)0.11569 (17)0.9635 (4)0.0395 (7)
C10号机组0.1422 (4)0.12691 (18)1.1210 (4)0.0466 (8)
H10A型0.05250.13711.15020.056*
C11号机组0.2908 (4)0.1231 (2)1.2353 (4)0.0546 (9)
H11A型0.30030.13211.34010.065*
第12项0.4247 (4)0.1062 (2)1.1957 (4)0.0547 (9)
H12A型0.52420.10391.27320.066*
第13页0.4108 (4)0.09252 (19)1.0405 (4)0.0512 (9)
H13A型0.50050.08061.01260.061*
第14项0.2620 (4)0.09669 (17)0.9267 (4)0.0418 (8)
第15项0.2136 (4)0.0154 (2)0.7134 (4)0.0475 (8)
第16号0.2087 (5)0.0091 (2)0.5468 (4)0.0636 (11)
H16A型0.17460.03950.50880.095*
H16B型0.31340.01800.54000.095*
H16C型0.13510.04450.48390.095*
原子位移参数(2) 顶部
U型11U型22U型33U型12U型13U型23
O10.0705 (19)0.099 (2)0.0555 (17)0.0022 (17)0.0229 (14)0.0038 (16)
氧气0.0470 (13)0.0506 (14)0.0484 (13)0.0043 (11)0.0156 (11)0.0034 (11)
臭氧0.0520 (14)0.0505 (14)0.0426 (13)0.0022 (11)0.0217 (11)0.0004 (11)
O4号机组0.117 (3)0.0578 (17)0.0618 (17)0.0175 (17)0.0403 (17)0.0039 (14)
C1类0.069 (3)0.081 (3)0.083 (3)0.009 (2)0.034 (2)0.013 (2)
指挥与控制0.056 (2)0.056 (2)0.050 (2)0.0067 (18)0.0175 (18)0.0116 (18)
C3类0.0397 (18)0.0448 (19)0.0473 (19)0.0003 (15)0.0147 (15)0.0042 (15)
补体第四成份0.054 (2)0.063 (2)0.051 (2)0.0104 (19)0.0100 (18)0.0078 (18)
C5级0.040 (2)0.085 (3)0.064 (3)0.009 (2)0.0099 (18)0.016 (2)
C6级0.047 (2)0.085 (3)0.071 (3)0.012 (2)0.026 (2)0.025 (2)
抄送70.048 (2)0.060 (2)0.054 (2)0.0084 (17)0.0233 (17)0.0084 (17)
抄送80.0348 (17)0.0478 (19)0.0421 (18)0.0007 (14)0.0163 (14)0.0056 (15)
C90.0432 (18)0.0389 (18)0.0394 (17)0.0009 (14)0.0172 (14)0.0023 (14)
C10号机组0.0465 (19)0.053 (2)0.0437 (19)0.0001 (16)0.0189 (16)0.0018 (15)
C11号机组0.064 (2)0.060 (2)0.0405 (19)0.0014 (19)0.0183 (18)0.0020 (17)
第12项0.046 (2)0.063 (2)0.050 (2)0.0075 (17)0.0078 (17)0.0027 (17)
第13页0.0414 (19)0.059 (2)0.055 (2)0.0038 (16)0.0175 (16)0.0047 (17)
第14项0.0463 (19)0.0433 (18)0.0383 (17)0.0032 (15)0.0168 (15)0.0020 (14)
第15项0.0423 (19)0.054 (2)0.048 (2)0.0024 (16)0.0171 (16)0.0055 (17)
第16号0.072 (3)0.077 (3)0.047 (2)0.010 (2)0.0257 (19)0.0065 (19)
几何参数(λ,º) 顶部
O1-C2型1.185 (4)C7-C8号机组1.400 (4)
氧气-C21.359 (4)C7-H7A型0.9300
氧气-C31.406 (4)C8-C9型1.482 (4)
臭氧-C151.353 (4)C9-C10型1.386 (4)
臭氧-C141.406 (4)C9-C14型1.393 (4)
4至151.187 (4)C10-C11号机组1.383 (5)
C1-C2类1.487 (5)C10-H10A型0.9300
C1-H1A型0.9600C11-C12号机组1.376 (5)
C1-H1B型0.9600C11-H11A型0.9300
C1-H1C型0.9600C12-C13型1.379 (5)
C3-C4型1.377 (5)C12-小时12a0.9300
C3-C8型1.396 (4)C13至C141.384 (5)
C4-C5型1.385 (6)C13-H13A型0.9300
C4-H4A型0.9300C15至C161.484 (5)
C5至C61.370 (6)C16-H16A型0.9600
C5-H5A型0.9300C16-H16B型0.9600
C6至C71.387 (5)C16-H16C型0.9600
C6-H6A型0.9300
C2-O2-C3118.4 (3)C7-C8-C9120.9 (3)
C15-O3-C14116.4 (3)C10-C9-C14号机组117.4 (3)
C2-C1-H1A型109.5C10-C9-C8号机组120.0 (3)
C2-C1-H1B型109.5C14-C9-C8122.5 (3)
H1A-C1-H1B型109.5C11-C10-C9120.8 (3)
C2-C1-H1C型109.5C11-C10-H10A型119.6
H1A-C1-H1C型109.5C9-C10-H10A119.6
H1B-C1-H1C型109.5C12-C11-C10120.7 (3)
O1-C2-O2型123.7 (4)C12-C11-H11A型119.7
O1-C2-C1型126.1 (4)C10-C11-H11A型119.7
氧气-C2-C1110.2 (3)C11-C12-C13型119.7 (3)
C4-C3-C8型122.4 (3)C11-C12-H12A型120.1
C4-C3-O2120.8 (3)C13-C12-H12A型120.1
C8-C3-O2型116.6 (3)C12-C13-C14型119.3 (3)
C3-C4-C5型119.0 (4)C12-C13-H13A型120.4
C3-C4-H4A型120.5C14-C13-H13A型120.4
C5-C4-H4A120.5C13-C14-C9122.0 (3)
C6-C5-C4120.4 (4)C13-C14-O3型117.8 (3)
C6-C5-H5A型119.8C9-C14-O3型120.2 (3)
C4-C5-H5A型119.8O4至C15至O3122.6 (3)
C5-C6-C7120.3 (4)O4-C15-C16型126.0 (4)
C5-C6-H6A119.8O3-C15-C16型111.4 (3)
C7-C6-H6A型119.8C15-C16-H16A109.5
C6-C7-C8型120.8 (4)C15-C16-H16B型109.5
C6-C7-H7A型119.6H16A-C16-H16B型109.5
C8-C7-H7A型119.6C15-C16-H16C109.5
C3-C8-C7型117.0 (3)H16A-C16-H16C型109.5
C3-C8-C9型121.8 (3)H16B-C16-H16C109.5
C3-O2-C2-O10.7 (5)C3-C8-C9-C14型60.2 (4)
C3-O2-C2-C1177.8 (3)C7-C8-C9-C14号机组126.0 (3)
C2-O2-C3-C4型63.2 (4)C14-C9-C10-C113.4 (5)
C2-O2-C3-C8型122.9 (3)C8-C9-C10-C11号机组175.8 (3)
C8-C3-C4-C50.5 (5)C9-C10-C11-C121.8 (5)
O2-C3-C4-C5174.1 (3)C10-C11-C12-C130.2 (6)
C3-C4-C5-C6型0.1 (6)C11-C12-C13-C140.5 (5)
C4-C5-C6-C7型0.4 (6)C12-C13-C14-C91.2 (5)
C5-C6-C7-C80.4 (6)C12-C13-C14-O3型178.4 (3)
C4-C3-C8-C70.6 (5)C10-C9-C14-C133.1 (5)
O2-C3-C8-C7174.3 (3)C8-C9-C14-C13176.0 (3)
C4-C3-C8-C9173.5 (3)C10-C9-C14-O3型179.8 (3)
O2-C3-C8-C90.3 (4)C8-C9-C14-O3型1.1 (5)
C6-C7-C8-C30.1 (5)C15-O3-C14-C1396.1 (4)
C6-C7-C8-C9174.0 (3)C15-O3-C14-C986.7 (4)
C3-C8-C9-C10118.9 (3)C14-O3-C15-O40.8 (5)
C7-C8-C9-C1054.9 (4)C14-O3-C15-C16179.6 (3)

实验细节

水晶数据
化学配方C类16H(H)14O(运行)4
M(M)第页270.27
水晶系统,太空组单诊所,P(P)21/n个
温度(K)294
,b条,c(c)(Å)8.8380 (18), 18.204 (4), 8.9620 (18)
β(°)108.75 (3)
V(V))1365.3 (5)
Z轴4
辐射类型K(K)α
µ(毫米1)0.10
晶体尺寸(mm)0.30 × 0.20 × 0.10
数据收集
衍射仪Enraf–Nonius CAD-4公司
衍射仪
吸收校正ψ扫描
(北部等。, 1968)
T型最小值,T型最大值0.972, 0.991
测量、独立和
观察到的[> 2σ()]反射
2643, 2478, 1645
整数0.026
(罪θ/λ)最大值1)0.601
精炼
[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司0.054, 0.156, 1.00
反射次数2478
参数数量184
氢原子处理受约束的氢原子参数
Δρ最大值, Δρ最小值(eó))0.23,0.27

计算机程序:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1989),XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995),SHELXS97标准(谢尔德里克,2008),SHELXL97型(谢尔德里克,2008),SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。

 

致谢

作者感谢南京大学测试与分析中心的支持。

工具书类

第一次引用Allen,F.H.、Kennard,O.、Watson,D.G.、Brammer,L.、Orpen,A.G.和Taylor,R.(1987年)。化学杂志。Soc.Perkin事务处理。2第S1-19页交叉参考 科学网 谷歌学者
第一次引用Enraf–Nonius(1989年)。CAD-4软件Enraf–代尔夫特·诺尼乌斯。荷兰。 谷歌学者
第一次引用Harms,K.和Wocadlo,S.(1995年)。XCAD4公司。德国马尔堡大学。 谷歌学者
第一次引用North,A.C.T.,Phillips,D.C.&Mathews,F.S.(1968年)。《水晶学报》。A类24, 351–359. 交叉参考 IUCr日志 科学网 谷歌学者
第一次引用Sheldrick,G.M.(2008)。《水晶学报》。A类64, 112–122. 科学网 交叉参考 中国科学院 IUCr日志 谷歌学者

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