相关文献
有关键长数据,请参见:Allen等。(1987
).
实验
水晶数据
C类16H(H)14O(运行)4 M(M)第页= 270.27 单诊所,P(P)21/n个 一= 8.8380 (18) Å b条= 18.204 (4) Å c(c)= 8.9620 (18) Å β= 108.75 (3)° V(V)= 1365.3 (5) Å三 Z轴= 4 钼K(K)α辐射 μ=0.10毫米−1 T型=294(2)K 0.30×0.20×0.10毫米
|
精炼
对[F类2> 2σ(F类2)] = 0.053 水风险(F类2) = 0.156 S公司= 1.00 2478次反射 184个参数 受约束的氢原子参数 Δρ最大值=0.23埃−3 Δρ最小值=−0.27埃−3
|
数据收集:CAD-4软件(恩拉夫·诺尼乌斯,1989年
); 细胞精细化: CAD-4软件; 数据缩减:XCAD4公司(Harms&Wocadlo,1995年
); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年
); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年
); 分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008年
); 用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司.
支持信息
为了制备标题化合物,在室温下将2,2'-双酚(10 g)溶解在醋酸酐(50 ml)中。反应完成后,用乙酸乙酯萃取,用饱和盐水洗涤,用硫酸钠干燥。过滤产物,浓缩有机层。在室温下从乙酸乙酯(10 ml)中获得适于X射线分析的晶体。
氢原子被几何定位,芳香族H和甲基H的C-H分别为0.93和0.96º,并被限制在它们的母原子上国际标准化组织(H) =xU等式(C) 式中,对于甲基H,x=1.5,对于芳香族H原子,x=1.2。
数据收集:CAD-4软件(Enraf–Nonius,1989);细胞精细化: CAD-4软件(Enraf–Nonius,1989);数据缩减:XCAD4公司(Harms和Wocadlo,1995年);用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008);用于准备出版材料的软件:SHELXTL公司(谢尔德里克,2008)。
水晶数据 顶部 C类16H(H)14O(运行)4 | F类(000) = 568 |
M(M)第页= 270.27 | D类x个=1.315毫克−三 |
单诊所,P(P)21/n个 | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:-P 2yn | 25次反射的细胞参数 |
一= 8.8380 (18) Å | θ= 9–14° |
b条= 18.204 (4) Å | µ=0.10毫米−1 |
c(c)= 8.9620 (18) Å | T型=294千 |
β= 108.75 (3)° | 块状,无色 |
V(V)= 1365.3 (5) Å三 | 0.30×0.20×0.10毫米 |
Z轴= 4 | |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 1645次反射我> 2σ(我) |
辐射源:细焦点密封管 | 对整数= 0.026 |
石墨单色仪 | θ最大值= 25.3°,θ最小值= 2.2° |
ω/2θ扫描 | 小时= 0→10 |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | k= 0→21 |
T型最小值= 0.972,T型最大值= 0.991 | 我=−10→10 |
2643次测量反射 | 每120分钟3次标准反射 |
2478次独立反射 | 强度衰减:1% |
精炼 顶部 优化于F类2 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
最小二乘矩阵:完整 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
对[F类2> 2σ(F类2)] = 0.054 | 受约束的氢原子参数 |
水风险(F类2) = 0.156 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.04P(P))2+ 2.02P(P)] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
S公司= 1.00 | (Δ/σ)最大值< 0.001 |
2478次反射 | Δρ最大值=0.23埃−三 |
184个参数 | Δρ最小值=−0.27埃−三 |
0个约束 | 消光校正:SHELXL97型(谢尔德里克,2008),Fc*=kFc[1+0.001xFc2λ三/罪(2θ)]-1/4 |
主原子位置定位:结构-变量直接方法 | 消光系数:0.040(3) |
水晶数据 顶部 C类16H(H)14O(运行)4 | V(V)= 1365.3 (5) Å三 |
M(M)第页= 270.27 | Z轴= 4 |
单诊所,P(P)21/n个 | 钼K(K)α辐射 |
一= 8.8380 (18) Å | µ=0.10毫米−1 |
b条= 18.204 (4) Å | T型=294千 |
c(c)= 8.9620 (18) Å | 0.30×0.20×0.10毫米 |
β= 108.75 (3)° | |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 | 1645次反射我> 2σ(我) |
吸收校正:ψ扫描 (北部等。, 1968) | 对整数= 0.026 |
T型最小值= 0.972,T型最大值= 0.991 | 每120分钟3次标准反射 |
2643次测量反射 | 强度衰减:1% |
2478次独立反射 | |
精炼 顶部 对[F类2> 2σ(F类2)] = 0.054 | 0个约束 |
水风险(F类2) = 0.156 | 受约束的氢原子参数 |
S公司= 1.00 | Δρ最大值=0.23埃−三 |
2478次反射 | Δρ最小值=−0.27埃−三 |
184个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形所有的e.s.d.(除了两个l.s.平面之间的二面角中的e.s.d.)都是使用全协方差矩阵估计的。在估计距离、角度和扭转角中的e.s.d.时,单独考虑单元e.s.d;只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时,才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似(各向同性)处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。 |
精炼.改进F类2对抗所有反射。加权对-因子水风险和贴合度S公司基于F类2,常规对-因素对基于F类,使用F类负值设置为零F类2。的阈值表达式F类2>σ(F类2)仅用于计算对-因子(gt)等.与选择反射进行细化无关。对-因素基于F类2在统计上大约是基于F类,以及对-基于所有数据的因素将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z(z) | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
O1 | 0.0543 (3) | 0.18629 (18) | 0.4765 (3) | 0.0742 (8) | |
氧气 | 0.0736 (3) | 0.22040 (12) | 0.7226 (3) | 0.0486 (6) | |
臭氧 | 0.2528 (3) | 0.08431 (13) | 0.7691 (2) | 0.0468 (6) | |
O4号机组 | 0.1896 (4) | −0.03274 (15) | 0.7923 (3) | 0.0762 (9) | |
C1类 | 0.2647 (5) | 0.2666 (2) | 0.6182 (5) | 0.0750 (13) | |
甲型H1A | 0.2874 | 0.2719 | 0.5209 | 0.113* | |
H1B型 | 0.3539 | 0.2437 | 0.6952 | 0.113* | |
H1C型 | 0.2463 | 0.3142 | 0.6553 | 0.113* | |
指挥与控制 | 0.1200 (5) | 0.2203 (2) | 0.5920 (5) | 0.0544 (9) | |
C3类 | −0.0585 (4) | 0.17726 (18) | 0.7219 (4) | 0.0438 (8) | |
补体第四成份 | −0.2080 (4) | 0.1915 (2) | 0.6172 (4) | 0.0576 (10) | |
H4A型 | −0.2217 | 0.2269 | 0.5392 | 0.069* | |
C5级 | −0.3376 (4) | 0.1522 (2) | 0.6297 (5) | 0.0649 (11) | |
H5A型 | −0.4391 | 0.1613 | 0.5596 | 0.078* | |
C6级 | −0.3171 (5) | 0.1001 (2) | 0.7448 (5) | 0.0656 (11) | |
H6A型 | −0.4047 | 0.0738 | 0.7520 | 0.079* | |
抄送7 | −0.1664 (4) | 0.0864 (2) | 0.8507 (4) | 0.0522 (9) | |
H7A型 | −0.1541 | 0.0511 | 0.9287 | 0.063* | |
抄送8 | −0.0327 (4) | 0.12500 (18) | 0.8416 (4) | 0.0406 (8) | |
C9 | 0.1255 (4) | 0.11569 (17) | 0.9635 (4) | 0.0395 (7) | |
C10号机组 | 0.1422 (4) | 0.12691 (18) | 1.1210 (4) | 0.0466 (8) | |
H10A型 | 0.0525 | 0.1371 | 1.1502 | 0.056* | |
C11号机组 | 0.2908 (4) | 0.1231 (2) | 1.2353 (4) | 0.0546 (9) | |
H11A型 | 0.3003 | 0.1321 | 1.3401 | 0.065* | |
第12项 | 0.4247 (4) | 0.1062 (2) | 1.1957 (4) | 0.0547 (9) | |
H12A型 | 0.5242 | 0.1039 | 1.2732 | 0.066* | |
第13页 | 0.4108 (4) | 0.09252 (19) | 1.0405 (4) | 0.0512 (9) | |
H13A型 | 0.5005 | 0.0806 | 1.0126 | 0.061* | |
第14项 | 0.2620 (4) | 0.09669 (17) | 0.9267 (4) | 0.0418 (8) | |
第15项 | 0.2136 (4) | 0.0154 (2) | 0.7134 (4) | 0.0475 (8) | |
第16号 | 0.2087 (5) | 0.0091 (2) | 0.5468 (4) | 0.0636 (11) | |
H16A型 | 0.1746 | −0.0395 | 0.5088 | 0.095* | |
H16B型 | 0.3134 | 0.0180 | 0.5400 | 0.095* | |
H16C型 | 0.1351 | 0.0445 | 0.4839 | 0.095* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
O1 | 0.0705 (19) | 0.099 (2) | 0.0555 (17) | −0.0022 (17) | 0.0229 (14) | −0.0038 (16) |
氧气 | 0.0470 (13) | 0.0506 (14) | 0.0484 (13) | −0.0043 (11) | 0.0156 (11) | 0.0034 (11) |
臭氧 | 0.0520 (14) | 0.0505 (14) | 0.0426 (13) | 0.0022 (11) | 0.0217 (11) | −0.0004 (11) |
O4号机组 | 0.117 (3) | 0.0578 (17) | 0.0618 (17) | −0.0175 (17) | 0.0403 (17) | −0.0039 (14) |
C1类 | 0.069 (3) | 0.081 (3) | 0.083 (3) | −0.009 (2) | 0.034 (2) | 0.013 (2) |
指挥与控制 | 0.056 (2) | 0.056 (2) | 0.050 (2) | 0.0067 (18) | 0.0175 (18) | 0.0116 (18) |
C3类 | 0.0397 (18) | 0.0448 (19) | 0.0473 (19) | 0.0003 (15) | 0.0147 (15) | −0.0042 (15) |
补体第四成份 | 0.054 (2) | 0.063 (2) | 0.051 (2) | 0.0104 (19) | 0.0100 (18) | −0.0078 (18) |
C5级 | 0.040 (2) | 0.085 (3) | 0.064 (3) | 0.009 (2) | 0.0099 (18) | −0.016 (2) |
C6级 | 0.047 (2) | 0.085 (3) | 0.071 (3) | −0.012 (2) | 0.026 (2) | −0.025 (2) |
抄送7 | 0.048 (2) | 0.060 (2) | 0.054 (2) | −0.0084 (17) | 0.0233 (17) | −0.0084 (17) |
抄送8 | 0.0348 (17) | 0.0478 (19) | 0.0421 (18) | 0.0007 (14) | 0.0163 (14) | −0.0056 (15) |
C9 | 0.0432 (18) | 0.0389 (18) | 0.0394 (17) | −0.0009 (14) | 0.0172 (14) | 0.0023 (14) |
C10号机组 | 0.0465 (19) | 0.053 (2) | 0.0437 (19) | 0.0001 (16) | 0.0189 (16) | −0.0018 (15) |
C11号机组 | 0.064 (2) | 0.060 (2) | 0.0405 (19) | 0.0014 (19) | 0.0183 (18) | −0.0020 (17) |
第12项 | 0.046 (2) | 0.063 (2) | 0.050 (2) | 0.0075 (17) | 0.0078 (17) | 0.0027 (17) |
第13页 | 0.0414 (19) | 0.059 (2) | 0.055 (2) | 0.0038 (16) | 0.0175 (16) | 0.0047 (17) |
第14项 | 0.0463 (19) | 0.0433 (18) | 0.0383 (17) | 0.0032 (15) | 0.0168 (15) | 0.0020 (14) |
第15项 | 0.0423 (19) | 0.054 (2) | 0.048 (2) | 0.0024 (16) | 0.0171 (16) | −0.0055 (17) |
第16号 | 0.072 (3) | 0.077 (3) | 0.047 (2) | 0.010 (2) | 0.0257 (19) | −0.0065 (19) |
几何参数(λ,º) 顶部 O1-C2型 | 1.185 (4) | C7-C8号机组 | 1.400 (4) |
氧气-C2 | 1.359 (4) | C7-H7A型 | 0.9300 |
氧气-C3 | 1.406 (4) | C8-C9型 | 1.482 (4) |
臭氧-C15 | 1.353 (4) | C9-C10型 | 1.386 (4) |
臭氧-C14 | 1.406 (4) | C9-C14型 | 1.393 (4) |
4至15 | 1.187 (4) | C10-C11号机组 | 1.383 (5) |
C1-C2类 | 1.487 (5) | C10-H10A型 | 0.9300 |
C1-H1A型 | 0.9600 | C11-C12号机组 | 1.376 (5) |
C1-H1B型 | 0.9600 | C11-H11A型 | 0.9300 |
C1-H1C型 | 0.9600 | C12-C13型 | 1.379 (5) |
C3-C4型 | 1.377 (5) | C12-小时12a | 0.9300 |
C3-C8型 | 1.396 (4) | C13至C14 | 1.384 (5) |
C4-C5型 | 1.385 (6) | C13-H13A型 | 0.9300 |
C4-H4A型 | 0.9300 | C15至C16 | 1.484 (5) |
C5至C6 | 1.370 (6) | C16-H16A型 | 0.9600 |
C5-H5A型 | 0.9300 | C16-H16B型 | 0.9600 |
C6至C7 | 1.387 (5) | C16-H16C型 | 0.9600 |
C6-H6A型 | 0.9300 | | |
| | | |
C2-O2-C3 | 118.4 (3) | C7-C8-C9 | 120.9 (3) |
C15-O3-C14 | 116.4 (3) | C10-C9-C14号机组 | 117.4 (3) |
C2-C1-H1A型 | 109.5 | C10-C9-C8号机组 | 120.0 (3) |
C2-C1-H1B型 | 109.5 | C14-C9-C8 | 122.5 (3) |
H1A-C1-H1B型 | 109.5 | C11-C10-C9 | 120.8 (3) |
C2-C1-H1C型 | 109.5 | C11-C10-H10A型 | 119.6 |
H1A-C1-H1C型 | 109.5 | C9-C10-H10A | 119.6 |
H1B-C1-H1C型 | 109.5 | C12-C11-C10 | 120.7 (3) |
O1-C2-O2型 | 123.7 (4) | C12-C11-H11A型 | 119.7 |
O1-C2-C1型 | 126.1 (4) | C10-C11-H11A型 | 119.7 |
氧气-C2-C1 | 110.2 (3) | C11-C12-C13型 | 119.7 (3) |
C4-C3-C8型 | 122.4 (3) | C11-C12-H12A型 | 120.1 |
C4-C3-O2 | 120.8 (3) | C13-C12-H12A型 | 120.1 |
C8-C3-O2型 | 116.6 (3) | C12-C13-C14型 | 119.3 (3) |
C3-C4-C5型 | 119.0 (4) | C12-C13-H13A型 | 120.4 |
C3-C4-H4A型 | 120.5 | C14-C13-H13A型 | 120.4 |
C5-C4-H4A | 120.5 | C13-C14-C9 | 122.0 (3) |
C6-C5-C4 | 120.4 (4) | C13-C14-O3型 | 117.8 (3) |
C6-C5-H5A型 | 119.8 | C9-C14-O3型 | 120.2 (3) |
C4-C5-H5A型 | 119.8 | O4至C15至O3 | 122.6 (3) |
C5-C6-C7 | 120.3 (4) | O4-C15-C16型 | 126.0 (4) |
C5-C6-H6A | 119.8 | O3-C15-C16型 | 111.4 (3) |
C7-C6-H6A型 | 119.8 | C15-C16-H16A | 109.5 |
C6-C7-C8型 | 120.8 (4) | C15-C16-H16B型 | 109.5 |
C6-C7-H7A型 | 119.6 | H16A-C16-H16B型 | 109.5 |
C8-C7-H7A型 | 119.6 | C15-C16-H16C | 109.5 |
C3-C8-C7型 | 117.0 (3) | H16A-C16-H16C型 | 109.5 |
C3-C8-C9型 | 121.8 (3) | H16B-C16-H16C | 109.5 |
| | | |
C3-O2-C2-O1 | 0.7 (5) | C3-C8-C9-C14型 | −60.2 (4) |
C3-O2-C2-C1 | −177.8 (3) | C7-C8-C9-C14号机组 | 126.0 (3) |
C2-O2-C3-C4型 | −63.2 (4) | C14-C9-C10-C11 | 3.4 (5) |
C2-O2-C3-C8型 | 122.9 (3) | C8-C9-C10-C11号机组 | −175.8 (3) |
C8-C3-C4-C5 | −0.5 (5) | C9-C10-C11-C12 | −1.8 (5) |
O2-C3-C4-C5 | −174.1 (3) | C10-C11-C12-C13 | −0.2 (6) |
C3-C4-C5-C6型 | 0.1 (6) | C11-C12-C13-C14 | 0.5 (5) |
C4-C5-C6-C7型 | 0.4 (6) | C12-C13-C14-C9 | 1.2 (5) |
C5-C6-C7-C8 | −0.4 (6) | C12-C13-C14-O3型 | 178.4 (3) |
C4-C3-C8-C7 | 0.6 (5) | C10-C9-C14-C13 | −3.1 (5) |
O2-C3-C8-C7 | 174.3 (3) | C8-C9-C14-C13 | 176.0 (3) |
C4-C3-C8-C9 | −173.5 (3) | C10-C9-C14-O3型 | 179.8 (3) |
O2-C3-C8-C9 | 0.3 (4) | C8-C9-C14-O3型 | −1.1 (5) |
C6-C7-C8-C3 | −0.1 (5) | C15-O3-C14-C13 | 96.1 (4) |
C6-C7-C8-C9 | 174.0 (3) | C15-O3-C14-C9 | −86.7 (4) |
C3-C8-C9-C10 | 118.9 (3) | C14-O3-C15-O4 | −0.8 (5) |
C7-C8-C9-C10 | −54.9 (4) | C14-O3-C15-C16 | −179.6 (3) |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C类16H(H)14O(运行)4 |
M(M)第页 | 270.27 |
水晶系统,太空组 | 单诊所,P(P)21/n个 |
温度(K) | 294 |
一,b条,c(c)(Å) | 8.8380 (18), 18.204 (4), 8.9620 (18) |
β(°) | 108.75 (3) |
V(V)(Å三) | 1365.3 (5) |
Z轴 | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 0.10 |
晶体尺寸(mm) | 0.30 × 0.20 × 0.10 |
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数据收集 |
衍射仪 | Enraf–Nonius CAD-4公司 衍射仪 |
吸收校正 | ψ扫描 (北部等。, 1968) |
T型最小值,T型最大值 | 0.972, 0.991 |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 2643, 2478, 1645 |
对整数 | 0.026 |
(罪θ/λ)最大值(Å−1) | 0.601 |
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精炼 |
对[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.054, 0.156, 1.00 |
反射次数 | 2478 |
参数数量 | 184 |
氢原子处理 | 受约束的氢原子参数 |
Δρ最大值, Δρ最小值(eó)−三) | 0.23,−0.27 |