Bostrycin

Chen, S.-Y.; Huang, C.; Zhang, C.-L.; Chen, Y.-Z.; Lin, F.-C.

doi:10.1107/S1600536808032030

有机化合物

晶体学
通信

国际标准编号：2056-9890

第64卷| 第11部分| 2008年11月| 第2226页

doi:10.1107/S1600536808032030

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博斯特霉素

陈绍元,^一 ^* 朝皇,^一张楚龙,^一陈宇哲 ^b条和傅成林 ^一

^一中华人民共和国浙江大学生物技术研究所水稻生物学国家重点实验室^b条中华人民共和国浙江大学药学学院
^*通信电子邮件：fuchenglin@zju.edu.cn

(2008年9月6日收到； 2008年10月6日接受；在线2008年10月31日)

标题化合物C₁₆H（H）₁₆O（运行）₈是一种有效的非特异性植物毒素。这个晶体结构是两种重头异构体的平均值，即5,6,7,9,10-五氢氧基-2-甲氧基-7-甲基-1,4,5,6,10-六氢蒽-1,4-二酮和1,4,5,16,7-五氢氧化基-2-甲基-5,6,8,9,10-10-六羟基蒽-9,10-二酮。这两个互变异构体中的环己烯环都显示出半椅子构象。晶体结构中存在广泛的O-H·O氢键网络。

实验

水晶数据

C₁₆H（H）₁₆O（运行）₈
M（M）_第页= 336.29
单诊所，P（P）2₁
一= 8.280 (2) Å
b条= 6.644 (2) Å
c（c）=13.1535（12）Å
β= 102.12 (2)°
V（V）= 707.5 (3) Å^三
Z轴= 2
钼K（K）α辐射
μ=0.13毫米⁻¹
T型=293（2）K
0.30×0.20×0.08毫米

数据收集

Rigaku R轴快速IP衍射仪
吸收校正：多次扫描(ABSCOR公司; 东芝，1995年 )T型_最小值= 0.953,T型_最大值= 0.990
6151测量反射
1517次独立反射
1282次反射我> 2σ(我)
R（右）_整数= 0.025

精炼

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035
水风险(F类²) = 0.105
S公司= 1.08
1517次反射
220个参数
1个约束
受约束的氢原子参数
Δρ_最大值=0.24埃⁻³
Δρ_最小值=-0.19埃⁻³

表1
氢键几何形状（λ，°）

D类-H月A类	D类-H（H）	H月A类	D类⋯A类	D类-H月A类
O1-H1型A类●臭氧^我	0.85	2.55	3.229 (3)	137
臭氧-H3A类2008年1月^ii（ii）	0.84	2.40	2.808 (3)	111
4小时4小时A类2008年1月^ii（ii）	0.90	2.54	3.223 (3)	132
O5-H5型A类●O4	0.92	1.85	2.687 (3)	152
O6-H6型A类2007年1月^三	0.97	1.92	2.821 (3)	154
O7-H7型A类·O1^iv（四）	0.90	2.11	2.966 (3)	159
O7-H7型A类●氧气^iv（四）	0.90	2.40	3.066 (3)	131
对称代码：（i）x个+1,年,z; （ii）x个-1,年,z; （iii） $[-x+1，y-{\script{1\over 2}}，-z+2]$ ; （iv） $[-x+1，y+{\script{1\over 2}}，-z+1]$ .

数据收集：自动处理（里加库，1998年 ); 细胞精细化： 自动处理; 数据缩减：晶体结构（里加库/MSC，2002年 ); 用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008年 ); 用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年); 分子图形：ORTEP-3公司（Farrugia，1997年 ); 用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年 ).

支持信息

晶体结构：包含全局数据块I。内政部：10.1107/S1600536808032030/xu2453升1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536808032030/xu2453Isup2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

博斯特霉素是一种非特异性的植物毒素，于1975年被鉴定为真菌沙尘螨的代谢物（van Eijk，1975；Charudattan&Rao，1982）。它对枯草芽孢杆菌有活性，但对白地霉无活性（Charudattan&Rao，1982）。我们在这里报告晶体结构标题化合物的名称。

这个晶体结构标题化合物是两个互变异构体的平均结构，即5,6,7,9,10-五羟基-2-甲氧基-7-甲基-1,4,5,6,1,7,8-六氢蒽-1,4-二酮（I）和1,4,5,16,7-五羟基2-甲氧基7-甲基-5,6,7，8,9,10-10-六氢芴-9,10-二酮（II）。这两个互变异构体的分子结构分别如图1和图2所示。这两个互变异构体分子都包含三个六元环，其中C9环表现出半椅子构象。在分子中，羰基与相邻的羟基氢键相连。键的距离和角度与在博斯霉素衍生物博斯霉素乙酰化物中发现的一致（Kelly&Saha，1985）。广泛的O-H··O氢键网络有助于稳定晶体结构（表1）。

相关文献顶部

一般背景见：Charudattan&Rao（1982）；van Eijk（1975）。有关相关结构，请参见：Kelly&Saha（1985）。

实验顶部

用于形态鉴定（Arthrinium服务提供商.（CGMCC 2082），一种来自蓼的真菌L（左））培养物在室温（293K）、环境光下，在OA、PDA和SNA培养基上培养7-14天。显微镜观察和测量是从安装在水中的载玻片上进行的。为了产生代谢物，将菌株接种到PDA培养基上，并在298 K的黑暗中培养10天。选择的菌株也在液体培养基中以120 rpm的转速放置在旋转摇床中，在298 K的黑暗中培育7天。培养后，将瓶子储存在253 K下，直到提取。

液体培养物用三氯甲烷萃取。过滤并蒸发三氯甲烷相真空中然后将样品重新溶解在三氯甲烷中，然后过滤以去除固体。蒸发三氯甲烷溶液在真空中单晶是从乙醇溶液中获得的。

计算详细信息顶部

数据收集：自动处理（里加库，1998年）；细胞精细化： 自动处理（里加库，1998年）；数据缩减：晶体结构（里加库/MSC，2002年）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：转运蛋白-3（Farrugia，1997）；用于准备出版材料的软件：WinGX公司（Farrugia，1999年）。

数字顶部

	图1。（I）的分子结构具有50%的概率位移椭球（H原子的任意球体），虚线表示氢键。
	图2。（II）的分子结构具有50%的概率位移椭球（H原子的任意球体），虚线表示氢键。

5,6,7,9,10-五羟基-2-甲氧基-7-甲基-1,4,5,6,10,8-六氢蒽-1,4-二酮-1,4,1,5,6，7-五羟基-2-甲氧基7-甲基-5,6,7，8,9,10-六氢蒽-9,10-二酮顶部

水晶数据顶部

C₁₆H（H）₁₆O（运行）₈	F类(000) = 352
M（M）_第页= 336.29	D类_x个=1.579毫克⁻^三
单诊所，P（P）2₁	钼K（K）α辐射，λ= 0.71069 Å
大厅符号：P 2yb	5814次反射的单元参数
一= 8.280 (2) Å	θ= 6.1–54.9°
b条= 6.644 (2) Å	µ=0.13毫米⁻¹
c（c）= 13.1535 (12) Å	T型=293千
β= 102.12 (2)°	大块，红色
V（V）= 707.5 (3) Å^三	0.30×0.20×0.08毫米
Z轴= 2

数据收集顶部

Rigaku R轴快速IP 衍射仪	1517个独立反射
辐射源：细焦点密封管	1282次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.025
探测器分辨率：10像素mm^-1	θ_最大值= 26.0°,θ_最小值=3.2°
ω扫描	小时=−10→10
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	k=−8→8
T型_最小值= 0.953,T型_最大值= 0.990	我=−16→16
6151测量反射

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：满	氢站点位置：从邻近站点推断
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035	受约束的氢原子参数
水风险(F类²) = 0.105	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0667P（P）)²+ 0.0817P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.08	(Δ/σ)_最大值=0.001
1517次反射	Δρ_最大值=0.24埃⁻^三
220个参数	Δρ_最小值=−0.19埃⁻^三
1个约束	消光校正：SHELXL97型（谢尔德里克，2008），Fc^*=kFc[1+0.001xFc²λ^三/罪（2θ)]^-1/4
主原子位置定位：结构-变量直接方法	消光系数：0.009（3）

水晶数据顶部

C₁₆H（H）₁₆O（运行）₈	V（V）= 707.5 (3) Å^三
M（M）_第页= 336.29	Z轴= 2
单诊所，P（P）2₁	钼K（K）α辐射
一=8.280（2）Å	µ=0.13毫米⁻¹
b条= 6.644 (2) Å	T型=293千
c（c）= 13.1535 (12) Å	0.30×0.20×0.08毫米
β= 102.12 (2)°

数据收集顶部

Rigaku R轴快速IP 衍射仪	1517次独立反射
吸收校正：多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）	1282次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.953,T型_最大值= 0.990	R（右）_整数= 0.025
6151测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.035	1个约束
水风险(F类²) = 0.105	受约束的氢原子参数
S公司= 1.08	Δρ_最大值=0.24埃⁻^三
1517次反射	Δρ_最小值=−0.19埃⁻^三
220个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（除了两个l.s.平面之间二面角中的e.s.d.）均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时，单独考虑单元e.s.d；只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时，才使用它们之间的相关性。细胞e.s.d.的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，带有F类负值设置为零F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²在统计上大约是基于F类、和R（右）-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式	开路特性。(<1)
O1公司	0.4354 (2)	0.3424 (4)	0.34450（13）	0.0399 (5)
甲型H1A	0.5153	0.3341	0.3968	0.060*	0.50
氧气	0.1814 (2)	0.3555 (4)	0.19361 (12)	0.0414 (5)
臭氧	−0.1725 (2)	0.3863 (4)	0.43528（13）	0.0384 (5)
H3A型	−0.1659	0.3844	0.4995	0.058*	0.50
第4页	−0.0420 (2)	0.3933 (4)	0.63061 (13)	0.0370 (5)
H4A型	−0.1226	0.4012	0.5725	0.055*	0.50
O5公司	0.1000 (3)	0.2810 (5)	0.82507 (17)	0.0571 (7)
H5A型	0.0233	0.2963	0.7644	0.086*
O6公司	0.3619 (2)	0.4004 (4)	0.97960 (12)	0.0417 (5)
H6A型	0.4364	0.3205	1.0303	0.063*
O7公司	0.5068（2）	0.6526 (3)	0.84879 (13)	0.0336 (5)
H7A型	0.5511	0.7105	0.7990	0.050*
O8号机组	0.5671 (2)	0.3429 (4)	0.54013 (13)	0.0401 (6)
H8A型	0.5559	0.3636	0.4666	0.060*	0.50
C1类	0.2943 (3)	0.3552 (4)	0.37142（18）	0.0302 (6)
指挥与控制	0.1464 (3)	0.3632 (4)	0.28875 (18)	0.0303 (6)
C3类	−0.0063 (3)	0.3742 (5)	0.31216 (18)	0.0314 (6)
H3级	−0.0996	0.3781	0.2587	0.038*
补体第四成份	−0.0247 (3)	0.3798 (4)	0.41735 (18)	0.0284 (5)
C5型	0.1177 (3)	0.3742 (4)	0.50050 (17)	0.0263 (5)
C6级	0.1023 (3)	0.3820 (4)	0.60602 (17)	0.0268（5）
抄送7	0.2492 (3)	0.3761 (5)	0.68900 (17)	0.0291（6）
抄送8	0.2301 (3)	0.3980 (5)	0.80142 (17)	0.0311 (6)
H8型	0.2063	0.5396	0.8130	0.037*
C9级	0.3863 (3)	0.3403 (4)	0.87974 (18)	0.0323（6）
H9型	0.3996	0.1938	0.8790	0.039*
第10条	0.5382 (3)	0.4387 (4)	0.85300 (17)	0.0309 (6)
C11号机组	0.5585 (3)	0.3595 (5)	0.74721 (17)	0.0319 (6)
H11A型	0.6425	0.4383	0.7240	0.038*
H11B型	0.5970	0.2213	0.7552	0.038*
第12项	0.4022 (3)	0.3671 (4)	0.66537 (17)	0.0294 (6)
第13页	0.4195 (3)	0.3563 (4)	0.55826 (18)	0.0296 (6)
第14项	0.2770 (3)	0.3626（4）	0.47627 (17)	0.0262 (5)
第15项	0.0456 (3)	0.3549 (6)	0.10420（18）	0.0435 (8)
H15A型	−0.0220	0.2384	0.1068	0.065*
H15B型	0.0881	0.3517	0.0417	0.065*
H15C型	−0.0196	0.4743	0.1048	0.065*
第16号	0.6936 (3)	0.3933 (6)	0.93488 (19)	0.0408 (7)
H16A型	0.7885	0.4434	0.9117	0.061*
H16B型	0.7039	0.2505	0.9453	0.061*
H16C型	0.6861	0.4575	0.9991	0.061*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
O1公司	0.0294 (10)	0.0644（15）	0.0268 (8)	0.0039 (10)	0.0076 (7)	−0.0058 (10)
氧气	0.0318 (10)	0.0719 (15)	0.0203 (7)	0.0052 (11)	0.0050 (7)	−0.0025 (10)
臭氧	0.0233 (9)	0.0584 (13)	0.0343 (9)	0.0031 (10)	0.0082 (7)	0.0005 (10)
第4页	0.0279 (10)	0.0541（12）	0.0311 (8)	−0.0002 (10)	0.0112 (7)	−0.0016 (10)
O5公司	0.0513 (14)	0.0811（19）	0.0421 (11)	−0.0192 (13)	0.0170 (10)	0.0069 (12)
O6公司	0.0528 (12)	0.0518 (12)	0.0226 (8)	0.0093 (11)	0.0126 (8)	0.0056 (10)
O7公司	0.0444 (11)	0.0318（10）	0.0262 (8)	−0.0028 (9)	0.0112 (7)	0.0001 (8)
O8号机组	0.0223 (9)	0.0710 (16)	0.0279 (8)	0.0015 (10)	0.0073 (7)	−0.0065 (11)
C1类	0.0294 (13)	0.0370 (15)	0.0262 (11)	0.0026 (13)	0.0101 (9)	−0.0003 (12)
指挥与控制	0.0326 (14)	0.0360 (15)	0.0233 (11)	0.0014 (14)	0.0079 (9)	−0.0003 (12)
C3类	0.0298 (13)	0.0360 (14)	0.0274 (11)	0.0032 (13)	0.0035 (9)	0.0003 (12)
补体第四成份	0.0249 (13)	0.0297 (13)	0.0307 (11)	0.0012 (12)	0.0064（9）	0.0003 (12)
C5型	0.0274 (13)	0.0282 (12)	0.0249 (11)	0.0006 (12)	0.0089（9）	0.0005 (12)
C6级	0.0267 (12)	0.0279 (12)	0.0278 (11)	−0.0006 (12)	0.0103 (9)	−0.0021 (12)
抄送7	0.0317 (13)	0.0334 (13)	0.0245 (11)	−0.0020 (13)	0.0108 (9)	−0.0003 (12)
抄送8	0.0335 (14)	0.0369 (14)	0.0261 (11)	−0.0011（12）	0.0137 (10)	0.0017 (12)
C9级	0.0411 (15)	0.0348 (14)	0.0232 (10)	0.0016 (13)	0.0117 (10)	0.0021 (11)
第10条	0.0363 (15)	0.0338 (15)	0.0224 (12)	0.0012 (12)	0.0055 (10)	0.0004 (11)
C11号机组	0.0283 (13)	0.0429 (16)	0.0251 (11)	0.0016 (13)	0.0067 (9)	−0.0028 (12)
第12项	0.0304 (13)	0.0340 (14)	0.0248 (11)	0.0024 (13)	0.0079 (9)	−0.0028 (12)
第13页	0.0270 (13)	0.0370 (15)	0.0262 (11)	0.0028 (12)	0.0087 (9)	−0.0019 (11)
第14项	0.0250 (12)	0.0309 (13)	0.0230（10）	0.0014 (12)	0.0059 (9)	−0.0019 (12)
第15项	0.0381 (15)	0.068 (2)	0.0225（11）	0.0052 (17)	0.0028 (10)	−0.0018 (15)
第16号	0.0368 (15)	0.0555 (17)	0.0279 (12)	0.0023 (15)	0.0019 (10)	−0.0011 (14)

几何参数（λ，º）顶部

O1-C1型	1.293 (3)	C5至C6	1.421 (3)
O1-H1A型	0.8501	C5-C14型	1.423 (3)
氧气-C2	1.344 (3)	C6至C7	1.454 (3)
氧气-C15	1.447 (3)	C7-C12号机组	1.368 (4)
臭氧-C4	1.294 (3)	C7-C8	1.527 (3)
臭氧-H3A	0.8350	C8-C9型	1.524 (4)
O4-C6型	1.304 (3)	C8-H8型	0.9800
O4-H4A型	0.9046	C9-C10型	1.523 (4)
O5-C8型	1.415 (4)	C9-H9	0.9800
O5-H5A型	0.9154	C10-C16号机组	1.525（3）
O6-C9型	1.427 (3)	C10-C11号机组	1.530 (3)
O6-H6A型	0.9667	C11-C12号机组	1.501 (3)
O7-C10型	1.444 (3)	C11-H11A型	0.9700
O7-H7A型	0.9012	C11-H11B型	0.9700
O8-C13型	1.296 (3)	C12-C13型	1.448 (3)
O8-H8A型	0.9624	C13至C14	1.422 (3)
C1-C14	1.417 (3)	C15-H15A型	0.9600
C1-C2类	1.458 (3)	C15-H15B型	0.9600
C2-C3型	1.364 (4)	C15-H15C型	0.9600
C3-C4型	1.424 (3)	C16-H16A型	0.9600
C3-H3型	0.9300	C16-H16B型	0.9600
C4-C5型	1.431 (3)	C16-H16C型	0.9600

C1-O1-H1A型	112.1	C10-C9-C8号机组	111.2 (2)
C2-O2-C15型	118.3 (2)	O6-C9-H9型	108.9
C4-O3-H3A型	108.7	C10-C9-H9型	108.9
C6-O4-H4A型	110.2	C8-C9-H9型	108.9
C8-O5-H5A型	99.7	O7-C10-C9型	106.3 (2)
C9-O6-H6A	106.8	O7-C10-C16型	109.9 (2)
C10-O7-H7A型	110.5	C9-C10-C16	111.6 (2)
C13-O8-H8A型	106.3	O7-C10-C11型	110.9 (2)
O1-C1-C14型	123.4 (2)	C9-C10-C11	108.4 (2)
O1-C1-C2型	117.6 (2)	C16-C10-C11型	109.7 (2)
C14-C1-C2型	119.0 (2)	C12-C11-C10	113.5 (2)
氧气-C2-C3	127.1 (2)	C12-C11-H11A型	108.9
O2-c-C1型	112.4 (2)	C10-C11-H11A型	108.9
C3-C2-C1型	120.4 (2)	C12-C11-H11B型	108.9
C2-C3-C4型	120.9 (2)	C10-C11-H11B型	108.9
C2-C3-H3型	119.5	H11A-C11-H11B型	107.7
C4-C3-H3型	119.5	C7-C12-C13号机组	120.6（2）
臭氧-C4-C3	118.4 (2)	C7-C12-C11号机组	122.6 (2)
臭氧-C4-C5	121.4 (2)	C13-C12-C11	116.7 (2)
C3-C4-C5型	120.2 (2)	O8-C13-C14型	121.8 (2)
C6-C5-C14型	119.9 (2)	O8-C13-C12型	118.2（2）
C6-C5-C4	121.1 (2)	C14-C13-C12	120.1 (2)
C14-C5-C4型	119.0 (2)	C1-C14-C13	120.0 (2)
O4-C6-C5型	121.3 (2)	C1-C14-C5型	120.5 (2)
O4-C6-C7	118.7 (2)	C13-C14-C5	119.5 (2)
C5-C6-C7	120.0（2）	O2-C15-H15A型	109.5
C12-C7-C6	119.9 (2)	O2-C15-H15B	109.5
C12-C7-C8型	120.9 (2)	H15A-C15-H15B	109.5
C6-C7-C8型	119.0 (2)	氧气-C15-H15C	109.5
O5-C8-C9	106.9 (2)	H15A-C15-H15C	109.5
O5-C8-C7型	113.5 (2)	H15B-C15-H15C型	109.5
C9-C8-C7	112.6（2）	C10-C16-H16A型	109.5
O5-C8-H8型	107.8	C10-C16-H16B型	109.5
C9-C8-H8	107.8	H16A-C16-H16B型	109.5
C7-C8-H8型	107.8	C10-C16-H16C型	109.5
O6-C9-C10型	112.1 (2)	H16A-C16-H16C型	109.5
O6-C9-C8型	106.7 (2)	H16B-C16-H16C型	109.5

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1-H1型A类···臭氧^我	0.85	2.55	3.229 (3)	137
臭氧-H3A类···O8号机组^ii（ii）	0.84	2.40	2.808 (3)	111
4小时4小时A类···O8号机组^ii（ii）	0.90	2.54	3.223 (3)	132
O5-H5型A类···O4号机组	0.92	1.85	2.687 (3)	152
O6-H6型A类···O7公司^三	0.97	1.92	2.821 (3)	154
O7-H7型A类···O1公司^iv（四）	0.90	2.11	2.966 (3)	159
O7-H7型A类···氧气^iv（四）	0.90	2.40	3.066（3）	131

对称代码：（i）x个+1,年,z; （ii）x个−1,年,z; （iii）−x个+1,年−1/2,−z+2; （iv）−x个+1,年+1/2,−z+1.

实验细节

水晶数据
化学配方	C₁₆H（H）₁₆O（运行）₈
M（M）_第页	336.29
晶体系统，空间组	单诊所，P（P）2₁
温度（K）	293
一,b条,c（c）(Å)	8.280 (2), 6.644 (2), 13.1535 (12)
β(°)	102.12（2）
V（V）(Å^三)	707.5 (3)
Z轴	2
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.13
晶体尺寸（mm）	0.30 × 0.20 × 0.08

数据收集
衍射仪	Rigaku R轴快速IP 衍射仪
吸收校正	多扫描 (ABSCOR公司; 东芝，1995年）
T型_最小值,T型_最大值	0.953, 0.990
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	6151, 1517, 1282
R（右）_整数	0.025
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.617

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)]，水风险(F类²),S公司	0.035, 0.105, 1.08
反射次数	1517
参数数量	220
约束装置数量	1
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.24,−0.19

计算机程序：自动处理（Rigaku，1998），晶体结构（里加库/MSC，2002年），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），转运蛋白-3（Farrugia，1997），WinGX公司（Farrugia，1999年）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1-H1A···O3^我	0.85	2.55	3.229 (3)	137
O3-H3A··O8^ii（ii）	0.84	2.40	2.808 (3)	111
O4-H4A··O8^ii（ii）	0.90	2.54	3.223 (3)	132
O5-H5A··O4	0.92	1.85	2.687 (3)	152
O6-H6A···O7^三	0.97	1.92	2.821 (3)	154
O7-H7A···O1^iv（四）	0.90	2.11	2.966 (3)	159
O7-H7A···O2^iv（四）	0.90	2.40	3.066 (3)	131

对称代码：（i）x个+1,年,z; （ii）x个−1,年,z; （iii）−x个+1,年−1/2,−z+2; （iv）−x个+1,年+1/2,−z+1.

致谢

这项工作得到了浙江省科技项目（批准号：2004 C22008和2006 C12088）和国家自然科学基金（批准号30600002）的支持。

工具书类

Charudattan，R.&Rao，K.V.（1982年）。应用。环境。微生物。 43, 846–849. 中国科学院公共医学科学网谷歌学者
 Eijk，G.W.van（1975年）。单元格。分子生命科学。 31，783–784页谷歌学者
 Farrugia，L.J.（1997）。J.应用。克里斯特。 30, 565. 交叉参考 IUCr日志谷歌学者
 Farrugia，L.J.（1999）。J.应用。克里斯特。 32, 837–838. 交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者
 Higashi，T.（1995）。ABSCOR公司Rigaku Corporation，日本东京。谷歌学者
 Kelly，T.&Saha，J.K.（1985）。有机化学杂志。 50，3679–3685CSD公司交叉参考中国科学院科学网谷歌学者
 里加库（1998）。自动处理Rigaku Corporation，日本东京。谷歌学者
 里加库/MSC（2002年）。晶体结构里加库/MSC，美国德克萨斯州伍德兰谷歌学者
 Sheldrick，G.M.（2008）。《水晶学报》。A类64, 112–122. 科学网交叉参考中国科学院 IUCr日志谷歌学者