4-Amino-3,5-dimethyl-4H1-,2,4-triazole–water (2/3)

Cheng, L.; Zhang, Y.-W.; Sun, Y.-Y.; Xu, G.

doi:10.1107/S1600536808028146

有机化合物

晶体学
通信

国际标准编号：2056-9890

第64卷| 第10部分| 2008年10月| 第o1893页

doi:10.1107/S1600536808028146

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4-氨基-3,5-二甲基-4H（H）1-，2,4-三唑-水（2/3）

林成,^一 ^* 张亚文,^一孙燕燕 ^一和徐刚（音译）^一

^一中国南京东南大学化学与化工系
^*通信电子邮件：cep02chl@yahoo.com.cn

(收到日期：2008年9月2日； 2008年9月3日接受； 2008年9月6日在线)

这个不对称单元标题化合物的2C₄H（H）₈N个₄·3小时₂O、包含两个晶体独立的4-氨基-3,5-二甲基-1,2,4-三唑分子和三个水分子。该结构表现出N-H…O、O-H…N和O-H…O氢键。

实验

水晶数据

2摄氏度₄H（H）₈N个₄·3小时₂O（运行）
M（M）_第页= 278.34
三联诊所， $[P\上一行]$
一= 7.194 (4) Å
b条= 8.680 (4) Å
c（c）= 13.592 (7) Å
α= 72.332 (8)°
β= 84.993 (8)°
γ= 68.936 (7)°
V（V）= 754.5 (6) Å^三
Z轴= 2
钼K（K）α辐射
μ=0.10毫米⁻¹
T型=293（2）K
0.20×0.18×0.17毫米

数据收集

布鲁克APEX CCD衍射仪
吸收校正：多扫描(SADABS公司; Sheldrick，2000年 )T型_最小值= 0.981,T型_最大值= 0.984
5166次测量反射
2904个独立反射
2447次反射我> 2σ(我)
R（右）_整数= 0.014

精炼

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.049
水风险(F类²) = 0.137
S公司= 1.03
2904次反射
213个参数
用独立和约束精化的混合物处理H原子
Δρ_最大值=0.27埃⁻³
Δρ_最小值=-0.22埃⁻³

表1
氢键几何形状（λ，°）

天-H月A类	天-H（H）	H月A类	天⋯A类	天-H月A类
N4-H4型天2010年1月W公司	0.93 (2)	2.00 (2)	2.924 (3)	170.9 (18)
N4-H4型E类●臭氧W公司^我	0.88 (2)	2.21 (2)	3.078 (3)	168.3 (18)
N8-H8型E类●氧气W公司^ii（ii）	0.93 (3)	2.23 (3)	3.104 (3)	156 (2)
O1公司W公司-上半年华盛顿州●氧气W公司^三	0.84 (3)	1.95 (3)	2.793 (3)	173 (3)
O1公司W公司-上半年工作分解结构●臭氧W公司^iv（四）	0.92 (3)	1.93 (3)	2.810 (2)	160 (3)
氧气W公司-氢气华盛顿州●氮气	0.87 (3)	2.02 (3)	2.885 (2)	171 (2)
氧气W公司-氢气工作分解结构·N5	0.90 (3)	1.93 (3)	2.816 (2)	168 (2)
臭氧W公司-人3华盛顿州●N1	0.88 (2)	1.92 (2)	2.787 (2)	168 (2)
臭氧W公司-人3工作分解结构●N6	0.89 (3)	1.93 (3)	2.827 (2)	176 (2)
对称代码：（i）-x个+1, -年, -z（z）; （ii）-x个+1, -年+1, -z（z）-1; （iii）-x个, -年+1, -z（z）; （iv）-x个, -年, -z（z）.

数据收集：智能（布鲁克，2000年 ); 细胞精细化： 圣保罗（布鲁克，2000年); 数据缩减：圣保罗; 用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008年 ); 用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008年); 分子图形：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008年); 用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司.

支持信息

晶体结构：包含全局数据块I。内政部：10.1107/S1600536808028146/bt2782sup1.cif

结构因素：包含数据块I。DOI：10.1107/S1600536808028146/bt2782发行2.hkl

checkCIF报告

注释顶部

4-氨基-1,2,4-三唑衍生物在药物化学、农业和工业化学（Bentiss等人。1999; 科林等人。2003; 柯蒂斯等人。2004). 它们也被用作配位化学中的多齿配体（Beckmann等人。2003). 这里，我们报告了一种水合4-氨基-1,2,4-三唑（mta）₂.3小时₂O（mta=4-氨基-3,5-二甲基-1,2,4-三唑）。

这个不对称单元标题化合物中含有两个晶体学上独立的mta分子和三个水分子。C类═四嗪环的N-N-C片段具有C═N距离为1.299（2）、1.300（2）和1.304（2）欧，N-N距离为1.392（2）与1.389（2）奥。所有其他C-N距离在1.352（2）和1.362（2）之间，被认为具有部分双键特征。在结晶状态下，mta和结晶水分子通过N-H··O、O-H··N和O-H··O氢键连接在一起。

相关文献顶部

相关结构见：Wang等人。(2006); 扎查拉等人。2004). 相关文献见：Beckmann&Brooker（2003）；本蒂斯等人。(1999); 科林等人。(2003); 柯蒂斯（2004）。

实验顶部

至mta（mta=4-氨基-3,5-二甲基-1,2,4-三唑）（0.0228 g，0.2 mmol）在CH中的溶液_三OH（5 ml），MnSO水溶液（5 ml₄.H型₂添加O（0.0169 g，0.1 mmol）。将混合物搅拌半小时并过滤。滤液在室温下缓慢蒸发。几天后，获得无色块状晶体，产率为5%（0.0007 g）（基于mta）。

计算详细信息顶部

数据收集：智能（布鲁克，2000年）；细胞精细化：智能（布鲁克，2000年）；数据缩减：圣保罗（布鲁克，2000年）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）；用于优化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）；用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）。

数字顶部

	图1。标题化合物的不对称单元，具有30%的热椭球体。
	图2。标题化合物的三维超分子网络。为了清楚起见，省略了与C原子结合的H原子。

4-氨基-3,5-二甲基-4H-1,2,4-三唑-水（2/3）顶部

水晶数据顶部

2摄氏度₄H（H）₈N个₄·3小时₂O（运行）	Z轴= 2
M（M）_第页= 278.34	F类(000) = 300
三联诊所，P（P）1	天_x个=1.225毫克⁻^三
大厅符号：-P 1	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
一= 7.194 (4) Å	785次反射的细胞参数
b条= 8.680 (4) Å	θ= 2.4–28.0°
c（c）= 13.592 (7) Å	µ=0.10毫米⁻¹
α= 72.332 (8)°	T型=293千
β= 84.993 (8)°	块，无色
γ= 68.936 (7)°	0.20×0.18×0.17毫米
V（V）= 754.5 (6) Å^三

数据收集顶部

布鲁克APEX CCD 衍射仪	2904个独立反射
辐射源：细焦点密封管	2447次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.014
ϕ和ω扫描	θ_最大值= 26.0°,θ_最小值= 2.6°
吸收校正：多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，2000年）	小时=−8→8
T型_最小值= 0.981,T型_最大值= 0.984	k个=−10→10
5166次测量反射	我=−16→12

精炼顶部

优化于F类²	二次原子位置：差分傅里叶映射
最小二乘矩阵：完整	氢站点位置：从邻近站点推断
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.049	用独立和约束精化的混合物处理H原子
水风险(F类²) = 0.137	周= 1/[σ²(F类_o（o）²) + (0.0782P（P）)²+ 0.0952P（P）] 哪里P（P）= (F类_o（o）²+ 2F类_c（c）²)/3
S公司= 1.03	(Δ/σ)_最大值< 0.001
2904次反射	Δρ_最大值=0.27埃⁻^三
213个参数	Δρ_最小值=−0.22埃⁻^三
0个约束	消光校正：SHELXL97型（谢尔德里克，2008），Fc^*=kFc[1+0.001xFc²λ^三/罪（2θ)]^-1/4
主原子位置定位：结构-变量直接方法	消光系数：0.151（12）

水晶数据顶部

2摄氏度₄H（H）₈N个₄·3小时₂O（运行）	γ= 68.936 (7)°
M（M）_第页= 278.34	V（V）= 754.5 (6) Å^三
三联诊所，P（P）1	Z轴= 2
一= 7.194 (4) Å	钼K（K）α辐射
b条= 8.680 (4) Å	µ=0.10毫米⁻¹
c（c）= 13.592 (7) Å	T型=293千
α= 72.332 (8)°	0.20×0.18×0.17毫米
β= 84.993 (8)°

数据收集顶部

布鲁克APEX CCD 衍射仪	2904个独立反射
吸收校正：多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，2000年）	2447次反射我> 2σ(我)
T型_最小值= 0.981,T型_最大值= 0.984	R（右）_整数= 0.014
5166次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.049	0个约束
水风险(F类²) = 0.137	用独立和约束精化的混合物处理H原子
S公司= 1.03	Δρ_最大值=0.27埃⁻^三
2904次反射	Δρ_最小值=−0.22埃⁻^三
213个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（除了两个l.s.平面之间二面角中的e.s.d.）均使用全协方差矩阵进行估计。在估计e.s.d.的距离、角度和扭转角时，单独考虑单元e.s.d；只有当e.s.d.的胞内参数由晶体对称性定义时，才使用它们之间的相关性。单元e.s.d.的近似（各向同性）处理用于估计涉及l.s.平面的e.s.d。

精炼.改进F类²对抗所有反射。加权R（右）-因子水风险和贴合度S公司基于F类²，常规R（右）-因素R（右）基于F类，使用F类负值设置为零F类²。的阈值表达式F类²>σ(F类²)仅用于计算R（右）-因子（gt）等.与选择反射进行细化无关。R（右）-因素基于F类²在统计上大约是基于F类、和R（右）-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
C1类	0.2307 (2)	0.21698 (19)	0.03818 (12)	0.0464 (4)
指挥与控制	0.2155 (3)	0.3435 (2)	0.09351 (15)	0.0675 (5)
过氧化氢	0.2195	0.4487	0.0448	0.101*
过氧化氢	0.3249	0.2973	0.1422	0.101*
过氧化氢	0.0922	0.3666	0.1295	0.101*
C3类	0.2508 (2)	−0.02273 (19)	0.01050 (12)	0.0450 (4)
补体第四成份	0.2584 (3)	−0.2021 (2)	0.02881 (14)	0.0574 (4)
H4A型	0.2743	−0.2287	−0.0357	0.086*
H4B型	0.1369	−0.2134	0.0596	0.086*
H4C型	0.3691	−0.2805	0.0744	0.086*
C5级	0.2491 (2)	0.3310 (2)	−0.54342 (13)	0.0518 (4)
C6级	0.2507 (4)	0.2018 (3)	−0.59340 (17)	0.0790 (6)
H6A型	0.2633	0.0947	−0.5416	0.119*
H6B型	0.3612	0.1843	−0.6389	0.119*
h6厘米	0.1286	0.2421	−0.6324	0.119*
抄送7	0.2362 (2)	0.5735 (2)	−0.52294 (12)	0.0500 (4)
抄送8	0.2197 (3)	0.7564 (2)	−0.54624 (15)	0.0691 (5)
H8A型	0.2259	0.7821	−0.4830	0.104*
H8B型	0.0951	0.8304	−0.5817	0.104*
H8C型	0.3274	0.7752	−0.5892	0.104*
N1型	0.2638 (2)	0.08533 (18)	−0.07827 (10)	0.0528 (4)
氮气	0.2508 (2)	0.23853 (17)	−0.06052 (10)	0.0533 (4)
N3号机组	0.22893 (18)	0.05496 (15)	0.08561 (9)	0.0433 (3)
N4型	0.2136 (3)	−0.02566 (19)	0.19138 (10)	0.0543 (4)
H4D型	0.100 (3)	0.047 (3)	0.2139 (15)	0.071 (6)*
H4E型	0.320 (3)	−0.030 (3)	0.2220 (15)	0.071 (6)*
5号机组	0.2546 (2)	0.46293 (18)	−0.43183 (10)	0.0568 (4)
N6号	0.2637 (2)	0.30785 (18)	−0.44498 (11)	0.0579 (4)
7号机组	0.2326 (2)	0.49581 (17)	−0.59485 (9)	0.0511 (4)
N8号	0.2096 (4)	0.5651 (3)	−0.70320 (12)	0.0790 (6)
H8D型	0.105 (4)	0.659 (4)	−0.710 (2)	0.109 (10)*
H8E型	0.325 (5)	0.589 (4)	−0.726 (2)	0.119 (10)*
O1瓦	−0.1595 (3)	0.1723 (3)	0.26863 (18)	0.1022 (7)
H1WA公司	−0.219 (5)	0.280 (4)	0.254 (2)	0.132 (12)*
H1WB公司	−0.248 (5)	0.128 (4)	0.254 (2)	0.131 (11)*
O2瓦	0.3524 (2)	0.47375 (18)	−0.23848 (12)	0.0706 (4)
H2WA公司	0.308 (4)	0.412 (3)	−0.186 (2)	0.090 (7)*
过氧化氢	0.308 (4)	0.466 (3)	−0.296 (2)	0.101 (8)*
O3瓦	0.3962 (2)	0.02300 (16)	−0.26616 (11)	0.0610 (4)
H3WA公司	0.341 (3)	0.055 (3)	−0.2121 (18)	0.079 (6)*
H3WB公司	0.349 (4)	0.114 (3)	−0.321 (2)	0.093 (8)*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
C1类	0.0471 (8)	0.0429 (8)	0.0438 (8)	−0.0139 (6)	−0.0002 (6)	−0.0069 (6)
指挥与控制	0.0849 (13)	0.0529 (10)	0.0645 (11)	−0.0241 (9)	−0.0015 (10)	−0.0161 (9)
C3类	0.0393 (7)	0.0485 (8)	0.0455 (8)	−0.0143 (6)	0.0017 (6)	−0.0128 (7)
补体第四成份	0.0574 (10)	0.0543 (10)	0.0636 (11)	−0.0213 (8)	0.0020 (8)	−0.0198 (8)
C5级	0.0514 (9)	0.0550 (9)	0.0478 (9)	−0.0184 (7)	0.0075 (7)	−0.0152 (7)
C6级	0.0942 (15)	0.0765 (13)	0.0778 (14)	−0.0334 (11)	0.0145 (11)	−0.0378 (11)
抄送7	0.0513 (9)	0.0539 (9)	0.0444 (9)	−0.0212 (7)	0.0050 (7)	−0.0115 (7)
抄送8	0.0833 (13)	0.0610 (11)	0.0660 (12)	−0.0345 (10)	0.0060 (10)	−0.0129 (9)
N1型	0.0571 (8)	0.0584 (8)	0.0431 (7)	−0.0227 (6)	0.0055 (6)	−0.0134 (6)
氮气	0.0589 (8)	0.0512 (8)	0.0455 (8)	−0.0221 (6)	0.0029 (6)	−0.0053 (6)
N3号机组	0.0445 (7)	0.0430 (7)	0.0374 (7)	−0.0144 (5)	0.0013 (5)	−0.0060 (5)
N4型	0.0632 (9)	0.0543 (8)	0.0378 (7)	−0.0206 (7)	0.0038 (7)	−0.0034 (6)
5号机组	0.0697 (9)	0.0578 (8)	0.0427 (8)	−0.0249 (7)	0.0031 (6)	−0.0119 (6)
N6号	0.0709 (9)	0.0516 (8)	0.0467 (8)	−0.0213 (7)	0.0030 (6)	−0.0086 (6)
7号机组	0.0565 (8)	0.0584 (8)	0.0368 (7)	−0.0242 (6)	0.0045 (6)	−0.0080 (6)
N8号	0.1082 (16)	0.0910 (14)	0.0374 (8)	−0.0448 (13)	0.0018 (9)	−0.0062 (8)
O1瓦	0.0737 (10)	0.0831 (12)	0.170 (2)	−0.0312 (9)	0.0195 (10)	−0.0655 (13)
O2瓦	0.1040 (11)	0.0668 (9)	0.0514 (8)	−0.0482 (8)	−0.0005 (7)	−0.0090 (6)
O3瓦	0.0781 (9)	0.0496 (7)	0.0488 (7)	−0.0161 (6)	0.0067 (6)	−0.0143 (6)

几何参数（λ，º）顶部

C1-N2型	1.300 (2)	C7-N7号机组	1.352 (2)
C1-N3型	1.362 (2)	C7-C8号机组	1.483 (2)
C1-C2类	1.478 (2)	C8-H8A型	0.9600
C2-H2A型	0.9600	C8-H8B型	0.9600
C2-H2B型	0.9600	C8-H8C基因	0.9600
C2-H2C型	0.9600	N1至N2	1.391 (2)
C3-N1型	1.304 (2)	N3-N4号机组	1.4091 (18)
C3-N3型	1.355 (2)	N4-H4D型	0.93 (2)
C3-C4型	1.482 (2)	N4-H4E型	0.88 (2)
C4-H4A型	0.9600	N5-N6号	1.389 (2)
C4-H4B型	0.9600	N7到N8	1.411 (2)
C4-H4C型	0.9600	N8-H8D型	0.88 (3)
碳五氮六	1.299 (2)	N8-H8E型	0.93 (3)
碳五氮七	1.354 (2)	O1W-H1WA型	0.84 (3)
C5-C6型	1.474 (3)	O1W-H1WB型	0.92 (3)
C6-H6A型	0.9600	O2W-H2WA公司	0.87 (3)
C6-H6B型	0.9600	O2W到H2WB	0.90 (3)
C6-H6C型	0.9600	O3W-H3WA型	0.88 (2)
C7-N5号机组	1.299 (2)	O3W-H3WB型	0.89 (3)

N2-C1-N3型	109.30 (14)	编号5-C7-C8	126.38 (16)
N2-C1-C2型	126.85 (15)	编号7-C7-C8	124.62 (15)
编号3-C1-C2	123.85 (15)	C7-C8-H8A型	109.5
C1-C2-H2A	109.5	C7-C8-H8B	109.5
C1-C2-H2B	109.5	H8A-C8-H8B	109.5
H2A-C2-H2B型	109.5	C7-C8-H8C型	109.5
C1-C2-H2C	109.5	H8A-C8-H8C型	109.5
H2A-C2-H2C型	109.5	H8B-C8-H8C型	109.5
H2B-C2-H2C型	109.5	C3-N1-N2	107.78 (13)
N1-C3-N3号机组	109.02 (14)	C1-N2-N1型	107.36 (12)
N1-C3-C4型	126.61 (15)	C3-N3-C1	106.55 (13)
N3-C3-C4型	124.37 (14)	C3-N3-N4型	124.23 (13)
C3-C4-H4A型	109.5	C1-N3-N4型	129.20 (13)
C3-C4-H4B型	109.5	N3-N4-H4D型	106.6 (12)
H4A-C4-H4B型	109.5	N3-N4-H4E型	105.8 (13)
C3-C4-H4C型	109.5	H4D-N4-H4E型	109.1 (17)
H4A-C4-H4C型	109.5	C7-N5-N6号机组	107.56 (14)
H4B-C4-H4C型	109.5	C5-N6-N5	107.64 (13)
编号6-C5-N7	108.89 (15)	C7-N7-C5	106.91 (14)
编号6-C5-C6	126.70 (17)	C7-N7-N8号	129.47 (15)
编号7-C5-C6	124.41 (16)	C5-N7-N8	123.59 (15)
C5-C6-H6A	109.5	N7-N8-H8D型	102.0 (18)
C5-C6-H6B型	109.5	N7-N8-H8E型	105.6 (17)
H6A-C6-H6B型	109.5	H8D-N8-H8E型	112 (3)
C5-C6-H6C型	109.5	H1WA-O1W-H1WB	106 (3)
H6A-C6-H6C型	109.5	H2WA-O2W-H2WB	107 (2)
H6B-C6-H6C型	109.5	H3WA-O3W-H3WB型	107 (2)
N5-C7-N7号	109.00 (15)

氢键几何形状（λ，º）顶部

天-H（H）···A类	天-H（H）	小时···A类	天···A类	天-H（H）···A类
N4-H4型天···O1公司W公司	0.93 (2)	2.00 (2)	2.924 (3)	170.9 (18)
N4-H4型E类···臭氧W公司^我	0.88 (2)	2.21 (2)	3.078 (3)	168.3 (18)
N8-H8型E类···氧气W公司^ii（ii）	0.93 (3)	2.23 (3)	3.104 (3)	156 (2)
O1公司W公司-上半年华盛顿州···氧气W公司^三	0.84 (3)	1.95 (3)	2.793 (3)	173 (3)
O1公司W公司-上半年工作分解结构···臭氧W公司^iv（四）	0.92 (3)	1.93 (3)	2.810 (2)	160 (3)
氧气W公司-氢气华盛顿州···氮气	0.87 (3)	2.02 (3)	2.885 (2)	171 (2)
氧气W公司-氢气工作分解结构···5号机组	0.90 (3)	1.93 (3)	2.816 (2)	168 (2)
臭氧W公司-人3华盛顿州···N1型	0.88 (2)	1.92 (2)	2.787 (2)	168 (2)
臭氧W公司-人3工作分解结构···N6号	0.89 (3)	1.93 (3)	2.827 (2)	176 (2)

对称代码：（i）−x个+1,−年,−z（z）; （ii）−x个+1,−年+1,−z（z）−1; （iii）−x个,−年+1,−z（z）; （iv）−x个,−年,−z（z）.

实验细节

水晶数据
化学配方	2摄氏度₄H（H）₈N个₄·3小时₂O（运行）
M（M）_第页	278.34
晶体系统，空间组	三联诊所，P（P）1
温度（K）	293
一,b条,c（c）(Å)	7.194 (4), 8.680 (4), 13.592 (7)
α,β,γ(°)	72.332 (8), 84.993 (8), 68.936 (7)
V（V）(Å^三)	754.5 (6)
Z轴	2
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	0.10
晶体尺寸（mm）	0.20 × 0.18 × 0.17

数据收集
衍射仪	布吕克顶CCD（电荷耦合器件）衍射仪
吸收校正	多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，2000年）
T型_最小值,T型_最大值	0.981, 0.984
测量、独立和观察到的[我> 2σ(我)]反射	5166, 2904, 2447
R（右）_整数	0.014
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.617

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.049, 0.137, 1.03
反射次数	2904
参数数量	213
氢原子处理	用独立和约束精化的混合物处理H原子
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.27,−0.22

计算机程序：智能（布鲁克，2000），圣保罗（布鲁克，2000），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），SHELXTL公司（谢尔德里克，2008）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

天-H（H）···A类	天-H（H）	小时···A类	天···A类	天-H（H）···A类
N4-H4D···O1W	0.93 (2)	2.00 (2)	2.924 (3)	170.9 (18)
N4-H4E···O3W^我	0.88 (2)	2.21 (2)	3.078 (3)	168.3 (18)
N8-H8E···O2W^ii（ii）	0.93 (3)	2.23 (3)	3.104 (3)	156 (2)
O1W-H1WA··O2W^三	0.84 (3)	1.95 (3)	2.793 (3)	173 (3)
O1W-H1WB··O3W^iv（四）	0.92 (3)	1.93 (3)	2.810 (2)	160 (3)
O2W-H2WA··N2	0.87 (3)	2.02 (3)	2.885 (2)	171 (2)
O2W-H2WB···N5	0.90 (3)	1.93 (3)	2.816 (2)	168 (2)
O3W-H3WA··N1	0.88 (2)	1.92 (2)	2.787 (2)	168 (2)
O3W-H3WB··N6	0.89 (3)	1.93 (3)	2.827 (2)	176 (2)

对称代码：（i）−x个+1,−年,−z（z）; （ii）−x个+1,−年+1,−z（z）−1; （iii）−x个,−年+1,−z（z）; （iv）−x个,−年,−z（z）.

鸣谢

作者感谢东南大学青年优秀人才项目的资金支持。

工具书类

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