实验
水晶数据
C类9H(H)9N个三O(运行)6 M(M)第页= 255.19 正交各向异性,P(P)212121 一= 6.514 (4) Å b条= 9.097 (3) Å c(c)= 18.177 (3) Å 五= 1077.1 (8) Å三 Z轴= 4 钼K(K)α辐射 μ=0.14毫米−1 T型=294(2)K 0.46×0.45×0.33毫米
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数据收集
Enraf–Nonius CAD-4衍射仪 吸收校正:无 1124次测量反射 1118个独立反射 945次反射我> 2σ(我) R(右)整数= 0.015 每100次反射强度衰减3次标准反射:3.4%
|
D类-H月A类 | D类-小时 | H月A类 | D类⋯A类 | D类-H月A类 | 氧气-氢气W公司2010年1月我 | 0.82 | 1.99 | 2.737 (3) | 151 | N1-H1型N个●氧气我 | 0.86 | 2.12 | 2.935 (3) | 158 | 对称代码:(i) 。 | |
数据收集:DIFRAC公司(盖布等。, 1993
); 细胞精细化: DIFRAC公司; 数据缩减:NRCVAX公司(盖布等。, 1989
); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008年
); 用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008年
); 分子图形:ORTEP-3公司(Farrugia,1997年
)和钻石(勃兰登堡,1998年
); 用于准备出版材料的软件:SHELXL97型。
支持信息
在室温下将3,5-二硝基苯甲酸甲酯(5.65 g,0.025 mol)和50%水性2-氨基乙醇(30.5 g,0.5 mol)的混合物搅拌10 h。然后添加30 ml水并收集结晶产物。乙醇粗产物的再结晶生成N-(2-羟乙基)-3,5-二硝基苯甲酰胺(m.p.416-417 K)(Lin&Smith,1981)。获得了标题化合物的单晶,并用于室温下的X射线衍射研究。
所有H原子被放置在理想位置{C-H=0.93 Au%(芳香族);C-H=0.97 Au%(亚甲基);N-H=0.86 Au%;O-H=0.82 Au%},并作为骑行物进行精炼U型国际标准化组织(H) =1.2U型等式(C,N)或1.5U型等式(O) ●●●●。Friedel对在最终细化时合并。
数据收集:DIFRAC公司(盖布等。, 1993); 细胞精细化: DIFRAC公司(盖布等。, 1993); 数据缩减:NRCVAX公司(盖布等。, 1989); 用于求解结构的程序:SHELXS97标准(谢尔德里克,2008);用于优化结构的程序:SHELXL97型(谢尔德里克,2008);分子图形:ORTEP-3公司(Farrugia,1997)和钻石(勃兰登堡,1998);用于准备出版材料的软件:SHELXL97型(谢尔德里克,2008)。
水晶数据 顶部 C类9H(H)9N个三O(运行)6 | D类x个=1.574毫克/米−三 |
M(M)第页= 255.19 | 熔点=416–417 K |
正交各向异性,P(P)212121 | 钼K(K)α辐射,λ= 0.71073 Å |
大厅符号:p2ac 2ab | 24次反射的细胞参数 |
一= 6.514 (4) Å | θ= 4.5–7.8° |
b条= 9.097 (3) Å | µ=0.14毫米−1 |
c(c)= 18.177 (3) Å | T型=294千 |
五=1077.1(8)Å三 | 块,无色 |
Z轴= 4 | 0.46×0.45×0.33毫米 |
F类(000) = 528 | |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4型 衍射仪 | R(右)整数= 0.015 |
辐射源:细焦点密封管 | θ最大= 25.0°,θ最小值= 2.2° |
石墨单色仪 | 小时=−三→7 |
ω/2θ扫描 | k个=−4→10 |
1124次测量反射 | 我=−10→21 |
1118个独立反射 | 每100次反射中有3次标准反射 |
945次反射我> 2σ(我) | 强度衰减:3.4% |
精炼 顶部 优化于F类2 | 二次原子位置:差分傅里叶映射 |
最小二乘矩阵:完整 | 氢站点位置:从邻近站点推断 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.035 | 受约束的氢原子参数 |
水风险(F类2) = 0.092 | w个= 1/[σ2(F类o个2) + (0.0522P(P))2+ 0.1396P(P)] 哪里P(P)= (F类o个2+ 2F类c(c)2)/3 |
S公司= 1.10 | (Δ/σ)最大<0.001 |
1118次反射 | Δρ最大=0.14埃−三 |
164个参数 | Δρ最小值=−0.18埃−三 |
0个约束 | 消光校正:SHELXL97型(谢尔德里克,2008),Fc*=kFc[1+0.001xFc2λ三/罪(2θ)]-1/4 |
主原子位置定位:结构-变量直接方法 | 消光系数:0.219(12) |
水晶数据 顶部 C类9H(H)9N个三O(运行)6 | 五= 1077.1 (8) Å三 |
M(M)第页= 255.19 | Z轴= 4 |
正交各向异性,P(P)212121 | 钼K(K)α辐射 |
一= 6.514 (4) Å | µ=0.14毫米−1 |
b条= 9.097 (3) Å | T型=294千 |
c(c)= 18.177 (3) Å | 0.46×0.45×0.33毫米 |
数据收集 顶部 Enraf–Nonius CAD-4型 衍射仪 | R(右)整数= 0.015 |
1124次测量反射 | 每100次反射中有3次标准反射 |
1118个独立反射 | 强度衰减:3.4% |
945次反射我> 2σ(我) | |
精炼 顶部 R(右)[F类2> 2σ(F类2)] = 0.035 | 0个约束 |
水风险(F类2)=0.092 | 受约束的氢原子参数 |
S公司= 1.10 | Δρ最大=0.14埃−三 |
1118次反射 | Δρ最小值=−0.18埃−三 |
164个参数 | |
特殊细节 顶部 几何图形使用全协方差矩阵估计所有esd(除了两个l.s.平面之间二面角的esd)。在估计距离、角度和扭转角的esd时,单独考虑单元esd;细胞参数中esd之间的相关性仅在由晶体对称性定义时使用。使用细胞静电放电的近似(各向同性)处理来估计涉及l.s.平面的静电放电。 |
精炼.F的细化2对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F2,传统的R系数R基于F,对于负F,F设置为零2F的阈值表达式2>2西格玛(F2)仅用于计算R系数(gt)等,与选择反射进行细化无关。基于F的R系数2从统计上看,是基于F的因子的两倍,而基于ALL数据的R因子将更大。 |
分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数2) 顶部 | x个 | 年 | z | U型国际标准化组织*/U型等式 | |
O1公司 | 0.2873 (3) | 0.5989 (2) | 0.34735 (10) | 0.0471 (6) | |
氧气 | 0.5044 (3) | 0.7755 (2) | 0.56083 (10) | 0.0476 (6) | |
H2W(氢气) | 0.5535 | 0.8106 | 0.5985 | 0.071* | |
臭氧层 | 0.5495 (4) | 0.6710 (3) | 0.02304 (11) | 0.0717 (8) | |
O4号机组 | 0.3233 (5) | 0.5573 (4) | 0.08631(13) | 0.1040 (12) | |
O5公司 | 1.0931 (4) | 0.9372 (3) | 0.26737 (12) | 0.0799 (9) | |
O6公司 | 1.1272 (4) | 0.8922 (3) | 0.15286 (11) | 0.0696 (8) | |
N1型 | 0.5752(4) | 0.6420(2) | 0.41241 (11) | 0.0370 (6) | |
甲型H1N | 0.6916 | 0.6865 | 0.4132 | 0.044* | |
氮气 | 0.4757 (5) | 0.6333 (3) | 0.08103 (13) | 0.0535 (7) | |
N3号机组 | 1.0356 (4) | 0.8822 (3) | 0.21046 (13) | 0.0464 (6) | |
C1类 | 0.5713 (4) | 0.6903 (3) | 0.28124 (14) | 0.0316 (6) | |
C2 | 0.7552 (4) | 0.7679 (3) | 0.27890 (13) | 0.0332 (6) | |
过氧化氢 | 0.8186 | 0.7982 | 0.3222 | 0.040* | |
C3类 | 0.8421 (4) | 0.7994(3) | 0.21153 (14) | 0.0355 (6) | |
补体第四成份 | 0.7576 (4) | 0.7570 (3) | 0.14550 (13) | 0.0366 (7) | |
H4型 | 0.8202 | 0.7779 | 0.1007 | 0.044* | |
C5级 | 0.5739 (5) | 0.6816 (3) | 0.14983(14) | 0.0386(7) | |
C6级 | 0.4801 (4) | 0.6487 (3) | 0.21553 (14) | 0.0358 (6) | |
H6型 | 0.3556 | 0.5987 | 0.2159 | 0.043* | |
抄送7 | 0.4681 (4) | 0.6420 (3) | 0.35076 (14) | 0.0350 (7) | |
抄送8 | 0.5042 (5) | 0.5698 (3) | 0.47915 (13) | 0.0437 (7) | |
H8A型 | 0.5403 | 0.4664 | 0.4768 | 0.052* | |
H8B型 | 0.3557 | 0.5765 | 0.4815 | 0.052* | |
C9 | 0.5928 (4) | 0.6344 (3) | 0.54759 (14) | 0.0426(7) | |
H9A型 | 0.5652 | 0.5700 | 0.5890 | 0.051* | |
H9B型 | 0.7404 | 0.6438 | 0.5424 | 0.051* | |
原子位移参数(2) 顶部 | U型11 | U型22 | U型33 | U型12 | U型13 | U型23 |
O1公司 | 0.0326 (11) | 0.0647 (13) | 0.0441 (10) | −0.0133 (11) | 0.0046 (9) | −0.0125 (10) |
氧气 | 0.0324(10) | 0.0700(13) | 0.0405 (10) | 0.0039 (11) | −0.0015(9) | −0.0121 (9) |
臭氧层 | 0.089 (2) | 0.0951 (17) | 0.0311 (11) | −0.0176 (17) | −0.0042 (13) | 0.0000 (11) |
O4号机组 | 0.103 (2) | 0.156 (3) | 0.0536 (14) | −0.079 (2) | −0.0175 (15) | −0.0111 (17) |
O5公司 | 0.0793 (19) | 0.113 (2) | 0.0478 (13) | −0.0607 (17) | −0.0059 (12) | 0.0036 (13) |
O6公司 | 0.0530 (14) | 0.104 (2) | 0.0523 (13) | −0.0241 (16) | 0.0145 (12) | 0.0089 (13) |
N1型 | 0.0305 (12) | 0.0486 (13) | 0.0319 (11) | −0.0083 (12) | 0.0060(10) | 0.0000 (10) |
氮气 | 0.0617 (19) | 0.0631 (16) | 0.0356(13) | −0.0109 (18) | −0.0113 (14) | −0.0048 (12) |
N3号机组 | 0.0415 (14) | 0.0577 (14) | 0.0400 (13) | −0.0152 (13) | 0.0011 (13) | 0.0105 (13) |
C1类 | 0.0287 (13) | 0.0319 (12) | 0.0341 (13) | 0.0022 (12) | 0.0013 (12) | −0.0024 (11) |
C2 | 0.0334 (14) | 0.0363 (13) | 0.0300(12) | −0.0038(12) | −0.0027 (12) | −0.0013 (11) |
C3类 | 0.0320 (13) | 0.0378 (13) | 0.0367 (13) | −0.0040 (12) | 0.0003 (13) | 0.0023 (12) |
补体第四成份 | 0.0415 (17) | 0.0383 (14) | 0.0300 (12) | 0.0006 (14) | 0.0033 (13) | 0.0031 (11) |
C5级 | 0.0442 (17) | 0.0414 (14) | 0.0303 (13) | 0.0005 (15) | −0.0081 (12) | −0.0026 (11) |
C6级 | 0.0281 (13) | 0.0400 (13) | 0.0391 (14) | −0.0011 (12) | −0.0031 (13) | −0.0039 (12) |
抄送7 | 0.0310 (16) | 0.0392 (15) | 0.0346(14) | −0.0051 (14) | 0.0027 (12) | −0.0081 (11) |
抄送8 | 0.0455 (16) | 0.0502 (15) | 0.0354 (13) | −0.0075 (15) | 0.0068 (14) | 0.0031 (12) |
C9 | 0.0345 (15) | 0.0576 (17) | 0.0356 (13) | 0.0019 (16) | 0.0030 (12) | 0.0081 (13) |
几何参数(λ,º) 顶部 O1-C7型 | 1.243 (4) | C1-C7号机组 | 1.498(4) |
氧气-C9 | 1.428 (3) | C2-C3型 | 1.379 (3) |
氧气-水 | 0.8200 | C2-H2A型 | 0.9300 |
O3-N2气体 | 1.208 (3) | C3-C4型 | 1.376 (4) |
O4-N2气体 | 1.213 (4) | C4至C5 | 1.382 (4) |
臭氧-N3 | 1.209 (3) | C4-H4型 | 0.9300 |
臭氧-N3 | 1.209 (3) | C5至C6 | 1.374(4) |
N1-C7型 | 1.320 (3) | C6-H6型 | 0.9300 |
N1-C8型 | 1.455 (3) | C8-C9型 | 1.492 (4) |
N1-H1N型 | 0.8600 | C8-H8A型 | 0.9700 |
N2-C5气体 | 1.472 (4) | C8-H8B型 | 0.9700 |
N3-C3 | 1.468 (3) | C9-H9A型 | 0.9700 |
C1-C6号机组 | 1.387 (3) | C9-H9B型 | 0.9700 |
C1-C2类 | 1.391(4) | | |
| | | |
C9-O2-H2W型 | 109.5 | C6-C5-C4 | 122.9 (2) |
C7-N1-C8型 | 122.7 (2) | C6-C5-N2 | 118.7 (3) |
C7-N1-H1N型 | 118.7 | C4-C5-N2型 | 118.4 (3) |
C8-N1-H1N型 | 118.7 | C5-C6-C1 | 119.9 (2) |
臭氧-N2-O4 | 123.8 (3) | C5-C6-H6 | 120 |
臭氧-N2-C5 | 119.0 (3) | C1-C6-H6型 | 120 |
O4-N2-C5气体 | 117.3 (3) | O1-C7-N1型 | 122.9 (3) |
O6-N3-O5型 | 123.9 (2) | O1-C7-C1 | 118.4(2) |
O6-N3-C3 | 118.3(2) | N1-C7-C1 | 118.6 (2) |
O5-N3-C3 | 117.8 (2) | N1-C8-C9型 | 113.2 (2) |
C6-C1-C2型 | 118.8 (2) | N1-C8-H8A型 | 108.9 |
C6-C1-C7 | 117.0 (2) | C9-C8-H8A | 108.9 |
C2-C1-C7型 | 124.2 (2) | N1-C8-H8B型 | 108.9 |
C3-C2-C1 | 119.1 (2) | C9-C8-H8B | 108.9 |
C3-C2-H2A | 120.5 | H8A-C8-H8B | 107.7 |
C1-C2-H2A型 | 120.5 | O2-C9-C8型 | 109.8 (2) |
C4-C3-C2型 | 123.5(2) | 氧气-C9-H9A | 109.7 |
C4-C3-N3型 | 118.4 (2) | C8-C9-H9A型 | 109.7 |
C2-C3-N3型 | 118.1 (2) | 氧气-C9-H9B | 109.7 |
C3-C4-C5型 | 115.9 (2) | C8-C9-H9B型 | 109.7 |
C3-C4-H4型 | 122.1 | H9A-C9-H9B | 108.2 |
C5-C4-H4 | 122.1 | | |
| | | |
C6-C1-C2-C3型 | −0.8 (3) | 臭氧-N2-C5-C4 | −5.8 (4) |
C7-C1-C2-C3 | 176.3 (2) | O4-N2-C5-C4 | 174.3 (3) |
C1-C2-C3-C4型 | −0.6 (4) | C4-C5-C6-C1型 | −0.8 (4) |
C1-C2-C3-N3 | 179.6 (2) | N2-C5-C6-C1型 | 178.7 (2) |
臭氧-N3-C3-C4 | −10.1 (4) | C2-C1-C6-C5型 | 1.4 (4) |
臭氧-N3-C3-C4 | 169.5 (3) | C7-C1-C6-C5 | −175.9 (3) |
臭氧-N3-C3-C2 | 169.7 (3) | C8-N1-C7-O1型 | 10.3 (4) |
臭氧-N3-C3-C2 | −10.7 (4) | C8-N1-C7-C1 | −167.1 (2) |
C2-C3-C4-C5型 | 1.2 (4) | C6-C1-C7-O1 | −16.4 (4) |
N3-C3-C4-C5 | −179.0 (2) | C2-C1-C7-O1型 | 166.4 (2) |
C3-C4-C5-C6型 | −0.6 (4) | C6-C1-C7-N1 | 161.2 (2) |
C3-C4-C5-N2 | 180.0 (3) | C2-C1-C7-N1型 | −16.0 (4) |
臭氧-N2-C5-C6 | 174.7(3) | C7-N1-C8-C9 | −154.7 (3) |
O4-N2-C5-C6 | −5.2 (4) | N1-C8-C9-O2 | 71.7 (3) |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-H(H)···A类 | D类-H(H) | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
氧气-氢气W公司···O1公司我 | 0.82 | 1.99 | 2.737 (3) | 151 |
N1-H1型N个···氧气我 | 0.86 | 2.12 | 2.935 (3) | 158 |
对称代码:(i)x个+1/2,−年+3/2,−z+1. |
实验细节
水晶数据 |
化学配方 | C类9H(H)9N个三O(运行)6 |
M(M)第页 | 255.19 |
晶体系统,空间组 | 正交各向异性,P(P)212121 |
温度(K) | 294 |
一,b条,c(c)(Å) | 6.514 (4), 9.097 (3), 18.177 (3) |
五(Å三) | 1077.1 (8) |
Z轴 | 4 |
辐射类型 | 钼K(K)α |
µ(毫米−1) | 0.14 |
晶体尺寸(mm) | 0.46 × 0.45 × 0.33 |
|
数据收集 |
衍射仪 | Enraf–Nonius CAD-4型 衍射仪 |
吸收校正 | – |
测量、独立和 观察到的[我> 2σ(我)]反射 | 1124, 1118, 945 |
R(右)整数 | 0.015 |
(罪θ/λ)最大(Å−1) | 0.594 |
|
精炼 |
R(右)[F类2> 2σ(F类2)],水风险(F类2),S公司 | 0.035, 0.092, 1.10 |
反射次数 | 1118 |
参数数量 | 164 |
氢原子处理 | 受约束的氢原子参数 |
Δρ最大, Δρ最小值(eó)−三) | 0.14,−0.18 |
氢键几何形状(λ,º) 顶部 D类-小时···A类 | D类-小时 | H(H)···A类 | D类···A类 | D类-H(H)···A类 |
O2-H2W···O1我 | 0.82 | 1.99 | 2.737 (3) | 150.7 |
N1-H1N··O2我 | 0.86 | 2.12 | 2.935 (3) | 158.2 |
对称代码:(i)x个+1/2,−年+3/2,−z+1. |
致谢
作者感谢国家自然科学基金(NSFC,合同号:20675054)和四川大学促进计划基金(编号:0082204127090)对本研究的资助。
![期刊徽标](https://journals.iucr.org/logos/jicons/e_96x112.png) | 晶体学 通信 |
国际标准编号:2056-9890
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