Dicerium disilicate, Ce2[Si2O7]

Deng, B.; Ibers, J.A.

doi:10.1107/S1600536805011049

在线购买文章-需要在线订阅或购买单篇文章才能访问本文。

二硅酸二氢铈₂[硅₂O（运行）₇]

B.邓和J.A.伊伯斯

二硅酸二氢铈₂[硅₂O（运行）₇]，在空间群中结晶P（P）4₁正方形系统。在较大稀土元素的二硅酸盐中，它具有同构类似物，即自然对数₂[硅₂O（运行）₇] (自然对数是La、Pr、Nd或Sm）。该结构由离散Ce组成³⁺阳离子和[Si₂O（运行）₇]^6-阴离子；含有四个阳离子和两个阴离子的不对称单元。每个阴离子由两个SiO形成₄共享一个顶点的四面体。

阅读文章类似文章

支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S1600536805011049/wm6067sup1.cif 包含全局数据块，I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S160053680501049/wm6067Isup2.hkl 包含数据块I

checkCIF报告

关键指标

单晶X射线研究
T型=153千
平均值（i-O）=0.006º
R（右）系数=0.024
水风险系数=0.055
数据与参数之比=13.6

检查CIF/PLATON结果

未发现语法错误
警报级别C
STRVA01_ALERT_4_C型Flack测试结果不明确。来自CIF:_refine_ls_abs_structure_Flack 0.522来自CIF:_refine_ls_abs_structure_Flack_su 0.019板033_ LERT_2_CFlack参数值偏离零。。。。。。。0.52平台042_警报_1_C计算和代表MoietyFormula字符串不同？PLAT094_警报_2_C最大/最小残余密度比。。。。2.01
警报级别G
表格01_ LERT_1_GThere is a discrepancy between the atom counts in the_化学公式和化学公式的数量。这是通常是由于部分公式的格式错误。化学公式中的原子数：Ce4 O14 Si4化学配方中的原子数：参考03_ALERT_1_G警告：预计hkl最大值与CIF值不同来自CIF：_diffrn_reflns_theta_max 28.93来自CIF：_reflns_number_total 2729来自CIF：_diffrn_reflns_limit_ max hkl 9。9.   31.来自CIF：_diffrn_reflns_limit_ min hkl-9-8.  -31.测试1：θmax的预期hkl极限计算的最大值hkl 9。9.   33.计算最小hkl-9-9.  -33.参考03_图纸_4_G请检查Friedel对数量的估计值是否为对的。如果不是，请在_提交的CIF的publ_section_exptl_refinement部分。来自CIF：_diffrn_reflns_theta_max 28.93来自CIF：_reflns_number_total 2729对称唯一refns计数1545完整性（_总计/计算）176.63%测试3：检查Friedels的非中心结构Friedel对测量值的估计1184Friedel对分数测量值为0.766是否存在重原子类型Z>Si是
0A级警报=一般情况：严重问题0B级警报=潜在的严重问题4C级警报=检查并解释三G级警报=一般警报；检查3警报类型1 CIF结构/语法错误，数据不一致或缺失2警报类型2结构模型可能错误或有缺陷的指示器0警报类型3结构质量可能较低的指示器2警报类型4改进、方法、查询或建议

计算详细信息顶部

数据收集：智能（布鲁克，2003年）；单元格细化：圣保罗（布鲁克，2003）；数据缩减：圣保罗; 用于求解结构的程序：SHELXTL公司（谢尔德里克，2003）；用于细化结构的程序：SHELXTL公司（谢尔德里克，2003）；分子图形：XP（极限编程）在里面SHELXTL公司; 用于准备出版材料的软件：SHELXTL公司.

二硅酸二乙酯顶部

水晶数据顶部

总工程师₄[硅₂O（运行）₇]₂	D类_x=5.215毫克⁻^三
M（M）_第页= 896.84	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
正方形，P（P）4₁	2729次反射的细胞参数
大厅符号：P 4w	θ= 3.0–28.9°
一= 6.7964 (3) Å	µ=16.14毫米⁻¹
c（c）= 24.7282 (14) Å	T型=153千
V（V）= 1142.22 (10) Å^三	块，绿色
Z轴= 4	0.10×0.04×0.04毫米
F类(000) = 1600

数据收集顶部

Bruker SMART 1000 CCD区域探测器衍射仪	2729次独立反射
辐射源：细焦点密封管	2637次反射我> 2σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.034
ω扫描	θ_最大值= 28.9°,θ_最小值= 3.0°
吸收校正：数值使用SHELXTL进行面诱导（Sheldrick，2003）	小时=−9→9
T型_最小值= 0.482,T型_最大值= 0.741	k个=−8→9
10648次测量反射	我=−31→31

精炼顶部

优化于F类²	主原子位置定位：结构-变量直接方法
最小二乘矩阵：完整	二次原子位置：差分傅里叶映射
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.024	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.028P（P）)²] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
水风险(F类²) = 0.055	(Δ/σ)_最大值= 0.001
S公司= 1.15	Δρ_最大值=2.40埃⁻^三
2729次反射	Δρ_最小值=−1.19埃⁻^三
200个参数	绝对结构：Flack（1983），有1284对Friedel对
1个约束	绝对结构参数：0.522（19）

特殊细节顶部

几何图形.所有e.s.d.（两个l.s.平面之间二面角的e.s.d.除外）使用全协方差矩阵进行估计在估计e.s.d.的距离、角度时单独考虑和扭转角；e.s.d.细胞内参数之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似（各向同性）细胞e.s.d.的处理用于估计涉及l.s.的e.s.d。飞机。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
Ce1公司	0.11721 (6)	0.23463 (6)	0.125617 (17)	0.00974 (10)
二氧化铈	0.16750 (6)	0.51956 (6)	0.367822 (16)	0.00966 (9)
三氧化铈	0.33539 (6)	0.08110 (6)	0.265631 (17)	0.00948 (9)
Ce4级	0.69879 (6)	0.23761 (6)	0.015776 (17)	0.01020 (10)
硅1	0.2332 (3)	0.1505 (3)	0.00002 (9)	0.0085 (4)
二氧化硅	0.2943 (3)	0.0053 (3)	0.39499 (8)	0.0089 (4)
Si3合金	0.3784 (3)	0.2598 (3)	0.49333 (9)	0.0086 (4)
Si4合金	0.5945 (3)	0.3035 (3)	0.15184 (8)	0.0081 (4)
O1公司	0.0404 (8)	0.1533 (8)	0.2183 (2)	0.0118 (11)
氧气	0.0397 (8)	0.4561 (8)	0.5985 (2)	0.0127 (11)
臭氧	0.0553 (8)	0.2839 (8)	0.0247 (2)	0.0092 (11)
O4号机组	0.1212 (8)	0.5662 (8)	0.1910 (2)	0.0104 (11)
O5公司	0.1330 (7)	0.1502 (8)	0.3675 (2)	0.0113 (11)
O6公司	0.1865 (8)	0.2084 (8)	0.6723 (2)	0.0109 (11)
O7公司	0.2369 (8)	0.4407 (8)	0.4736 (2)	0.0118 (11)
O8号机组	0.2431 (8)	0.1254 (8)	0.5343 (2)	0.0107 (11)
O9号机组	0.3276 (8)	0.4292 (8)	0.2756 (2)	0.0089 (11)
O10号机组	0.3826 (8)	0.1088 (8)	0.0507 (2)	0.0124 (11)
O11号机组	0.4286 (8)	0.1389 (8)	0.1711 (2)	0.0109 (11)
O12号机组	0.4805 (8)	0.4848 (8)	0.1248 (2)	0.0125 (11)
O13号机组	0.7159 (8)	0.3708 (8)	0.2080 (2)	0.0119 (11)
O14号机组	0.7487 (7)	0.1845 (8)	0.1132 (2)	0.0106 (11)

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
Ce1公司	0.0097 (2)	0.0101 (2)	0.0094 (2)	0.00114 (15)	−0.00046 (15)	0.00082 (17)
二氧化铈	0.0095 (2)	0.0096 (2)	0.0099 (2)	−0.00032 (16)	0.00005 (16)	0.00008 (17)
Ce3公司	0.0098 (2)	0.0096 (2)	0.0090 (2)	0.00112 (16)	−0.00015 (16)	0.00028 (16)
Ce4级	0.0092 (2)	0.0110 (2)	0.0104 (2)	−0.00110 (16)	−0.00047 (17)	0.00198 (17)
硅1	0.0096 (10)	0.0071 (10)	0.0090 (10)	−0.0003 (8)	0.0000 (7)	−0.0008 (7)
二氧化硅	0.0097 (10)	0.0100 (10)	0.0070 (10)	0.0003 (8)	0.0009 (8)	0.0006 (8)
Si3合金	0.0092 (10)	0.0083 (10)	0.0082 (10)	−0.0006 (8)	0.0004 (8)	−0.0015 (8)
Si4合金	0.0064 (10)	0.0085 (10)	0.0094 (10)	−0.0004 (8)	−0.0005 (8)	−0.0021 (8)
O1公司	0.019 (3)	0.005 (3)	0.011 (3)	−0.001 (2)	−0.002 (2)	0.001 (2)
氧气	0.009 (3)	0.011 (3)	0.018 (3)	−0.003 (2)	0.002 (2)	−0.002 (2)
臭氧	0.011 (3)	0.007 (3)	0.010 (3)	0.003 (2)	−0.001 (2)	−0.003 (2)
O4号机组	0.011 (3)	0.007 (2)	0.013 (3)	−0.003 (2)	−0.002 (2)	0.002 (2)
O5公司	0.007 (2)	0.015 (3)	0.012 (3)	0.000 (2)	−0.003 (2)	0.000 (2)
O6公司	0.010 (3)	0.010 (3)	0.012 (3)	−0.002 (2)	0.000 (2)	−0.001 (2)
O7公司	0.013 (3)	0.008 (2)	0.015 (3)	−0.005 (2)	0.002 (2)	0.001 (2)
O8号机组	0.011 (3)	0.011 (3)	0.010 (3)	−0.001 (2)	−0.001 (2)	0.003 (2)
O9号机组	0.012 (3)	0.006 (2)	0.008 (3)	−0.005 (2)	0.000 (2)	−0.003 (2)
O10号机组	0.009 (3)	0.013 (3)	0.015 (3)	−0.003 (2)	0.002 (2)	0.000 (2)
O11号机组	0.012 (3)	0.012 (3)	0.009 (3)	−0.002 (2)	0.000 (2)	−0.005 (2)
O12号机组	0.015 (3)	0.016 (3)	0.006 (2)	0.008 (2)	−0.005 (2)	−0.003 (2)
O13号机组	0.012 (3)	0.014 (3)	0.010 (3)	−0.001 (2)	−0.002 (2)	−0.001 (2)
O14号机组	0.008 (3)	0.017 (3)	0.007 (3)	−0.001 (2)	0.001 (2)	−0.003 (2)

几何参数（λ，º）顶部

铈-O1	2.414 (5)	硅-O3	1.630 (5)
Ce1-O2^我	2.450 (6)	硅-O10	1.638 (6)
Ce1-O11型	2.483 (6)	硅-O13^四	1.667 (6)
铈-O5^ii（ii）	2.517 (5)	Si1-Ce3合金^ii（ii）	3.482 (2)
铈-O14^三	2.546 (5)	二氧化硅-O6^ii（ii）	1.581 (6)
铈-O3	2.553 (5)	二氧化硅^ii（ii）	1.619 (6)
铈-O10	2.723 (5)	二氧化硅-O5	1.622 (6)
铈-O4	2.774 (5)	二氧化硅-O4^v（v）	1.678 (6)
Ce1-Si1合金	3.255 (2)	Si2-Ce1合金^v（v）	3.326 (2)
Ce1-Si2合金^四	3.326 (2)	Si2-Ce4合金^十四	3.413 (2)
Ce1-Si4合金	3.341 (2)	Si2-Ce2^xv（xv）	3.477 (2)
Ce1-Ce2^ii（ii）	3.8710 (6)	氮化硅^v（v）	1.599 (6)
Ce2-O12^v（v）	2.384 (6)	Si3-O7合金	1.636 (6)
铈-O6^四	2.426 (5)	Si3-O4合金^v（v）	1.644 (6)
Ce2-O5	2.521 (6)	Si3-O8合金	1.645 (6)
Ce2-O11^{不及物动词}	2.541 (5)	Si3-Ce3合金^{不及物动词}	3.213 (2)
铈-O9	2.601 (5)	Si3-Ce2合金^v（v）	3.217 (2)
氧化铈^四	2.637 (5)	Si3-Ce4合金^十四	3.466 (2)
Ce2-O10^{不及物动词}	2.673 (5)	二氧化硅-O12	1.602 (6)
Ce2-O7	2.711 (6)	Si4-O14合金	1.632 (6)
Ce2-O14型^{不及物动词}	2.857 (5)	Si4-O11合金	1.658 (6)
Ce2-Si3型^四	3.217 (2)	Si4-O13合金	1.679 (6)
Ce2-Si4合金^{不及物动词}	3.348 (2)	Si4-Ce2合金^ii（ii）	3.348 (2)
Ce2-Si2^vii（七）	3.477 (2)	O1-Si1型^{不及物动词}	1.611 (6)
Ce3-O2^ii（ii）	2.356 (6)	氧硅合金^{不及物动词}	1.619 (6)
铈-O1	2.373 (6)	O2-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	2.356 (6)
铈-O9	2.379 (5)	氧-铈1^十六	2.450 (6)
铈-O11	2.453 (5)	O3-Ce4氧化铈^三	2.453 (5)
Ce3-O7^ii（ii）	2.503 (5)	O3-Ce3（氧化铈）^四	2.603 (5)
铈-臭氧^v（v）	2.603 (5)	O4-Si3氧化物^四	1.644 (6)
铈-O8^ii（ii）	2.666 (6)	O4-Si2氧化物^四	1.678 (6)
铈-O5	2.909 (6)	O5-Ce1型^{不及物动词}	2.517 (5)
Ce3-Si3合金^ii（ii）	3.213 (2)	O6-Si2型^{不及物动词}	1.581 (6)
Ce3-Si2	3.252 (2)	O6-Ce4（氧化铈）^十七	2.420 (5)
Ce3-Si1合金^{不及物动词}	3.482 (2)	氧六铈^v（v）	2.426 (5)
Ce3-Ce4^八	3.8953 (6)	O7-Ce4（氧化铈）^十八	2.461 (5)
铈-O6^九	2.420 (5)	O7-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	2.503 (5)
铈-O3^x	2.453 (5)	O8-Ce4（氧化铈）^十四	2.540 (6)
铈-O14	2.459 (6)	O8-铈2^v（v）	2.637 (5)
铈-O7^xi（西）	2.461 (5)	O8-铈^{不及物动词}	2.666 (6)
铈-O10	2.476 (5)	O9-Si3型^四	1.599 (6)
铈-O8^十二	2.540 (6)	O10-Ce2（氧化铈）^ii（ii）	2.673 (5)
铈-O13^四	2.667 (5)	O11-Ce2型^ii（ii）	2.541 (5)
Ce4-Si1合金	3.243 (2)	O12-Ce2（氧化铈）^四	2.384 (6)
Ce4-Si2^十二	3.413 (2)	O13-Si1型^v（v）	1.667 (6)
Ce4-Si3合金^十二	3.466 (2)	O13-Ce4（氧化铈）^v（v）	2.667 (5)
Ce4-Si4合金	3.467 (2)	O14-Ce1型^x	2.546 (5)
Ce4-Ce3^十三	3.8953 (6)	O14-Ce2型^ii（ii）	2.857 (5)
Si1-O1^ii（ii）	1.611 (6)

O1-Ce1-O2^我	111.20 (19)	臭氧^x-Ce4-O10型	150.58 (18)
O1-Ce1-O11	72.20 (19)	O14-Ce4-O10型	74.08 (17)
氧气^我-铈-O11	136.00 (17)	O7公司^xi（西）-铈-O10	128.02 (18)
O1-Ce1-O5^ii（ii）	82.38 (18)	O6公司^九-铈-O8^十二	89.55 (17)
氧气^我-铈-O5^ii（ii）	150.32 (18)	臭氧^x-铈-O8^十二	87.42 (17)
O11-Ce1-O5型^ii（ii）	72.54 (17)	O14-Ce4-O8型^十二	70.10 (17)
O1-Ce1-O14^三	82.61 (19)	O7公司^xi（西）-铈-O8^十二	155.70 (19)
氧气^我-铈-O14^三	69.74 (17)	O10-Ce4-O8型^十二	74.26 (18)
O11-Ce1-O14型^三	149.08 (19)	O6公司^九-铈-O13^四	73.95 (18)
O5公司^ii（ii）-Ce1-O14型^三	86.86 (17)	臭氧^x-铈-O13^四	149.17 (17)
O1-Ce1-O3型	157.26 (18)	O14-Ce4-O13型^四	131.10 (17)
氧气^我-铈-O3	63.16 (18)	O7公司^xi（西）-铈-O13^四	79.41 (17)
O11-Ce1-O3	128.15 (17)	O10-Ce4-O13型^四	60.22 (17)
O5公司^ii（ii）-铈-O3	93.87 (17)	O8号机组^十二-铈-O13^四	109.97 (17)
O14号机组^三-铈-O3	74.77 (17)	O6公司^九-Ce4-Si1合金	96.52 (14)
O1-Ce1-O10	135.79 (18)	臭氧^x-Ce4-Si1合金	176.37 (13)
氧气^我-铈-O10	111.83 (17)	O14-Ce4-Si1合金	103.03 (12)
O11-Ce1-O10型	70.20 (17)	O7公司^xi（西）-Ce4-Si1合金	106.53 (13)
O5公司^ii（ii）-铈-O10	64.86 (17)	O10-Ce4-Si1合金	29.60 (13)
O14号机组^三-Ce1-O10型	121.84 (17)	O8号机组^十二-Ce4-Si1合金	89.76 (13)
O3-Ce1-O10型	59.05 (17)	O13号机组^四-Ce4-Si1合金	30.85 (12)
O1-Ce1-O4	68.58 (16)	O6公司^九-Ce4-Si2^十二	24.71 (14)
氧气^我-铈-O4	57.77 (18)	臭氧^x-Ce4-Si2^十二	97.30 (12)
O11-Ce1-O4型	86.58 (16)	O14-Ce4-Si2合金^十二	141.66 (13)
O5公司^ii（ii）-铈-O4	148.43 (18)	O7公司^xi（西）-Ce4-Si2^十二	93.23 (14)
O14号机组^三-铈-O4	100.88 (16)	O10-Ce4-Si2合金^十二	98.43 (13)
O3-Ce1-O4型	117.70 (16)	O8号机组^十二-Ce4-Si2^十二	71.67 (12)
O10-Ce1-O4型	130.17 (15)	O13号机组^四-Ce4-Si2^十二	66.43 (12)
O1-Ce1-Si1合金	156.61 (13)	Si1-Ce4-Si2合金^十二	79.63 (5)
氧气^我-Ce1-Si1合金	89.74 (14)	O6公司^九-Ce4-Si3合金^十二	75.33 (14)
O11-Ce1-Si1合金	100.36 (13)	臭氧^x-Ce4-Si3^十二	106.80 (12)
O5公司^ii（ii）-Ce1-Si1合金	74.23 (13)	O14-Ce4-Si3合金^十二	91.99 (13)
O14号机组^三-Ce1-Si1合金	95.71 (13)	O7公司^xi（西）-Ce4-Si3合金^十二	145.63 (14)
O3-Ce1-Si1合金	29.57 (12)	O10-Ce4-Si3合金^十二	65.15 (13)
O10-Ce1-Si1合金	30.17 (12)	O8号机组^十二-Ce4-Si3合金^十二	26.49 (13)
O4-Ce1-Si1合金	134.16 (12)	O13号机组^四-Ce4-Si3合金^十二	84.45 (12)
O1-Ce1-Si2^四	91.96 (13)	Si1-Ce4-Si3^十二	69.81 (5)
氧气^我-Ce1-Si2合金^四	27.62 (13)	硅2^十二-Ce4-Si3合金^十二	52.42 (5)
O11-Ce1-Si2合金^四	112.45 (13)	O6公司^九-Ce4-Si4合金	176.55 (14)
O5公司^ii（ii）-Ce1-Si2合金^四	171.01 (13)	臭氧^x-Ce4-Si4	95.63 (13)
O14号机组^三-Ce1-Si2合金^四	85.48 (13)	O14-Ce4-Si4合金	25.40 (13)
O3-Ce1-Si2^四	88.67 (12)	O7公司^xi（西）-Ce4-Si4合金	109.44 (14)
O10-Ce1-Si2合金^四	123.49 (12)	O10-Ce4-Si4合金	61.93 (13)
O4-Ce1-Si2^四	30.24 (12)	O8号机组^十二-Ce4-Si4合金	88.99 (12)
Si1-Ce1-Si2合金^四	111.23 (5)	O13号机组^四-Ce4-Si4合金	109.49 (12)
O1-Ce1-Si4合金	93.31 (14)	Si1-Ce4-Si4	86.60 (5)
氧气^我-Ce1-Si4合金	110.82 (13)	硅2^十二-Ce4-Si4合金	156.12 (5)
O11-Ce1-Si4合金	28.52 (13)	Si3合金^十二-Ce4-Si4合金	104.50 (5)
O5公司^ii（ii）-Ce1-Si4合金	93.89 (13)	O6公司^九-Ce4-Ce3^十三	86.10 (13)
O14号机组^三-Ce1-Si4合金	175.72 (13)	臭氧^x-Ce4-Ce3^十三	41.04 (12)
O3-Ce1-Si4氧化物	109.35 (12)	O14-Ce4-Ce3型^十三	91.04 (12)
O10-Ce1-Si4合金	62.14 (12)	O7公司^xi（西）-Ce4-Ce3^十三	38.69 (13)
O4-Ce1-Si4合金	76.33 (11)	氧10-Ce4-Ce3^十三	147.41 (13)
Si1-Ce1-Si4合金	88.54 (6)	O8号机组^十二-Ce4-Ce3^十三	128.33 (12)
二氧化硅^四-Ce1-Si4型	93.40 (5)	O13号机组^四-Ce4-Ce3^十三	117.96 (12)
O1-Ce1-Ce2型^ii（ii）	92.20 (14)	Si1-Ce4-Ce3合金^十三	141.89 (4)
氧气^我-Ce1-Ce2^ii（ii）	154.09 (13)	二氧化硅^十二-Ce4-Ce3^十三	110.51 (4)
O11-Ce1-Ce2^ii（ii）	40.15 (12)	Si3合金^十二-Ce4-Ce3^十三	145.85 (4)
O5公司^ii（ii）-Ce1-Ce2^ii（ii）	39.84 (12)	Si4-Ce4-Ce3合金^十三	92.35 (4)
O14号机组^三-Ce1-Ce2^ii（ii）	126.47 (12)	O1公司^ii（ii）-硅-O3	112.4 (3)
O3-Ce1-Ce2^ii（ii）	99.23 (11)	O1公司^ii（ii）-硅-O10	116.3 (3)
氧10-Ce1-Ce2^ii（ii）	43.65 (12)	O3-Si1-O10型	105.6 (3)
O4-Ce1-Ce2^ii（ii）	126.56 (11)	O1公司^ii（ii）-硅-O13^四	108.9 (3)
Si1-Ce1-Ce2合金^ii（ii）	69.96 (4)	O3-Si1-O13型^四	110.2 (3)
二氧化硅^四-Ce1-Ce2^ii（ii）	148.05 (4)	O10-Si1-O13型^四	102.9 (3)
Si4-Ce1-Ce2合金^ii（ii）	54.73 (4)	O1公司^ii（ii）-Si1-Ce4合金	122.3 (2)
O12号机组^v（v）-铈-O6^四	86.43 (18)	O3-Si1-Ce4氧化物	125.3 (2)
O12号机组^v（v）-Ce2-O5	88.93 (17)	O10-Si1-Ce4合金	48.3 (2)
O6公司^四-Ce2-O5	146.31 (18)	O13号机组^四-Si1-Ce4合金	55.1 (2)
O12号机组^v（v）-Ce2-O11^{不及物动词}	138.36 (18)	O1公司^ii（ii）-Si1-Ce1合金	121.7 (2)
O6公司^四-Ce2-O11^{不及物动词}	90.34 (18)	O3-Si1-Ce1合金	50.6 (2)
O5-Ce2-O11^{不及物动词}	71.52 (17)	O10-Si1-Ce1合金	56.6 (2)
O12号机组^v（v）-铈-O9	67.85 (17)	O13号机组^四-Si1-Ce1合金	129.4 (2)
O6公司^四-铈-O9	129.34 (18)	Ce4-Si1-Ce1	95.14 (6)
O5-Ce2-O9	78.55 (17)	O3-Si1-Ce3氧化物^ii（ii）	105.4 (2)
O11号机组^{不及物动词}-铈-O9	137.77 (17)	O10-Si1-Ce3^ii（ii）	86.3 (2)
O12号机组^v（v）-氧化铈^四	103.47 (18)	O13号机组^四-Si1-Ce3合金^ii（ii）	138.8 (2)
O6公司^四-氧化铈^四	86.80 (18)	Ce4-Si1-Ce3^ii（ii）	116.72 (6)
O5-Ce2-O8型^四	126.64 (18)	Ce1-Si1-Ce3合金^ii（ii）	89.37 (5)
O11号机组^{不及物动词}-氧化铈^四	117.79 (17)	O6公司^ii（ii）-二氧化硅^ii（ii）	113.5 (3)
O9-Ce2-O8型^四	60.17 (17)	O6公司^ii（ii）-二氧化硅-O5	115.5 (3)
O12号机组^v（v）-Ce2-O10^{不及物动词}	134.65 (17)	氧气^ii（ii）-二氧化硅-O5	106.1 (3)
O6公司^四-Ce2-O10^{不及物动词}	135.40 (18)	O6公司^ii（ii）-二氧化硅-O4^v（v）	107.8 (3)
O5-Ce2-O10^{不及物动词}	65.56 (16)	氧气^ii（ii）-二氧化硅-O4^v（v）	100.7 (3)
O11号机组^{不及物动词}-Ce2-O10^{不及物动词}	70.20 (18)	O5-Si2-O4型^v（v）	112.4 (3)
O9-Ce2-O10型^{不及物动词}	70.58 (16)	O6公司^ii（ii）-Si2-Ce3	125.7 (2)
O8号机组^四-Ce2-O10^{不及物动词}	69.54 (17)	O5-Si2-Ce3合金	63.3 (2)
O12号机组^v（v）-Ce2-O7	74.64 (17)	O4号机组^v（v）-Si2-Ce3合金	123.0 (2)
O6公司^四-Ce2-O7	66.84 (17)	O6公司^ii（ii）-Si2-Ce1合金^v（v）	127.3 (2)
O5-Ce2-O7	79.75 (17)	O5-Si2-Ce1合金^v（v）	116.8 (2)
O11号机组^{不及物动词}-Ce2-O7	66.06 (17)	O4号机组^v（v）-Si2-Ce1合金^v（v）	56.4 (2)
O9-Ce2-O7型	136.61 (18)	Ce3-Si2-Ce1^v（v）	74.89 (5)
O8号机组^四-Ce2-O7	153.61 (16)	氧气^ii（ii）-Si2-Ce4合金^十四	121.3 (2)
O10号机组^{不及物动词}-Ce2-O7	130.70 (16)	O5-Si2-Ce4合金^十四	132.0 (2)
O12号机组^v（v）-铈-O14^{不及物动词}	153.34 (17)	O4号机组^v（v）-Si2-Ce4合金^十四	68.0 (2)
O6公司^四-铈-O14^{不及物动词}	70.69 (16)	Ce3-Si2-Ce4^十四	159.43 (7)
O5-Ce2-O14^{不及物动词}	117.70 (16)	Ce1公司^v（v）-Si2-Ce4合金^十四	102.91 (6)
O11号机组^{不及物动词}-铈-O14^{不及物动词}	57.80 (16)	氧气^ii（ii）-Si2-Ce2合金^xv（xv）	81.5 (2)
O9-Ce2-O14型^{不及物动词}	116.35 (16)	O5-Si2-Ce2^xv（xv）	109.2 (2)
O8号机组^四-铈-O14^{不及物动词}	62.88 (16)	O4号机组^v（v）-Si2-Ce2合金^xv（xv）	135.8 (2)
O10号机组^{不及物动词}-铈-O14^{不及物动词}	64.95 (16)	Ce3-Si2-Ce2^xv（xv）	88.95 (5)
O7-Ce2-O14型^{不及物动词}	106.99 (17)	Ce1公司^v（v）-Si2-Ce2合金^xv（xv）	115.33 (6)
O12号机组^v（v）-Ce2-Si3合金^四	84.29 (13)	Ce4级^十四-Si2-Ce2^xv（xv）	73.34 (4)
O6公司^四-Ce2-Si3合金^四	109.39 (14)	O9号机组^v（v）-Si3-O7合金	114.4 (3)
O5-Ce2-Si3合金^四	103.30 (14)	O9号机组^v（v）-Si3-O4合金^v（v）	111.7 (3)
O11号机组^{不及物动词}-Ce2-Si3型^四	135.11 (13)	O7-Si3-O4型^v（v）	109.3 (3)
O9-Ce2-Si3合金^四	29.55 (13)	O9号机组^v（v）-Si3-O8合金	108.1 (3)
O8号机组^四-Ce2-Si3合金^四	30.63 (12)	O7-Si3-O8型	105.8 (3)
O10号机组^{不及物动词}-Ce2-Si3合金^四	67.56 (12)	O4号机组^v（v）-Si3-O8合金	107.1 (3)
O7-Ce2-Si3合金^四	158.71 (12)	O9号机组^v（v）-Si3-Ce3合金^{不及物动词}	131.5 (2)
O14号机组^{不及物动词}-Ce2-Si3合金^四	90.42 (12)	O7-Si3-Ce3合金^{不及物动词}	50.16 (19)
O12号机组^v（v）-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	161.09 (13)	O4号机组^v（v）-Si3-Ce3合金^{不及物动词}	116.7 (2)
O6公司^四-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	81.06 (14)	O8-Si3-Ce3合金^{不及物动词}	55.9 (2)
O5-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	93.63 (12)	O9号机组^v（v）-Si3-Ce2合金^v（v）	53.4 (2)
O11号机组^{不及物动词}-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	28.75 (13)	O7-Si3-Ce2合金^v（v）	124.0 (2)
O9-Ce2-Si4型^{不及物动词}	131.01 (12)	O4号机组^v（v）-Si3-Ce2合金^v（v）	126.3 (2)
O8号机组^四-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	90.00 (12)	O8-Si3-Ce2合金^v（v）	54.78 (19)
O10号机组^{不及物动词}-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	62.43 (12)	三氧化铈^{不及物动词}-Si3-Ce2合金^v（v）	94.38 (6)
O7-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	87.37 (12)	O9号机组^v（v）-Si3-Ce4合金^十四	109.0 (2)
O14号机组^{不及物动词}-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	29.15 (11)	O7-Si3-Ce4合金^十四	133.8 (2)
Si3合金^四-Ce2-Si4合金^{不及物动词}	113.20 (5)	O4号机组^v（v）-Si3-Ce4^十四	66.5 (2)
O12号机组^v（v）-Ce2-Si2^vii（七）	81.15 (14)	Ce3公司^{不及物动词}-Si3-Ce4合金^十四	88.93 (5)
O6公司^四-Ce2-Si2^vii（七）	23.44 (13)	二氧化铈^v（v）-Si3-Ce4合金^十四	71.89 (4)
O5-Ce2-Si2^vii（七）	165.65 (13)	O12-Si4-O14型	116.6 (3)
O11号机组^{不及物动词}-Ce2-Si2^vii（七）	109.51 (13)	O12-Si4-O11型	108.0 (3)
O9-Ce2-Si2合金^vii（七）	106.85 (12)	O14-Si4-O11型	105.7 (3)
O8号机组^四-Ce2-Si2^vii（七）	66.27 (13)	O12-Si4-O13型	111.9 (3)
O10号机组^{不及物动词}-Ce2-Si2^vii（七）	128.65 (12)	O14-Si4-O13型	107.7 (3)
O7-Ce2-Si2合金^vii（七）	87.60 (12)	O11-Si4-O13型	106.3 (3)
O14号机组^{不及物动词}-Ce2-Si2^vii（七）	72.41 (12)	O12-Si4-Ce1型	63.7 (2)
Si3合金^四-Ce2-Si2^vii（七）	86.10 (5)	O14-Si4-Ce1合金	116.1 (2)
Si4合金^{不及物动词}-Ce2-Si2^vii（七）	92.52 (5)	O11-Si4-Ce1合金	45.7 (2)
氧气^ii（ii）-铈-O1	142.72 (19)	O13-Si4-Ce1	132.5 (2)
氧气^ii（ii）-铈-O9	105.33 (18)	O12-Si4-Ce2合金^ii（ii）	123.9 (2)
O1-Ce3-O9型	80.01 (18)	O14-Si4-Ce2^ii（ii）	58.5 (2)
氧气^ii（ii）-铈-O11	142.66 (19)	O11-Si4-Ce2合金^ii（ii）	47.47 (19)
O1-Ce3-O11型	73.43 (19)	O13-Si4-Ce2合金^ii（ii）	122.9 (2)
O9-Ce3-O11型	86.83 (18)	Ce1-Si4-Ce2^ii（ii）	70.71 (4)
氧气^ii（ii）-Ce3-O7^ii（ii）	87.76 (18)	O12-Si4-Ce4合金	78.1 (2)
O1-Ce3-O7型^ii（ii）	102.43 (18)	O11-Si4-Ce4合金	109.3 (2)
O9-Ce3-O7^ii（ii）	155.22 (19)	O13-Si4-Ce4合金	137.5 (2)
O11-Ce3-O7型^ii（ii）	70.66 (18)	Ce1-Si4-Ce4合金	89.55 (5)
氧气^ii（ii）-铈-臭氧^v（v）	63.60 (17)	二氧化铈^ii（ii）-Si4-Ce4合金	70.36 (4)
O1-Ce3-O3^v（v）	153.66 (18)	硅1^{不及物动词}-O1-Ce3（氧化铈）	120.6 (3)
O9-Ce3-O3^v（v）	94.60 (17)	硅1^{不及物动词}-O1-Ce1（氧化铈）	124.0 (3)
O11-Ce3-O3^v（v）	80.57 (17)	Ce3-O1-Ce1	109.5 (2)
O7公司^ii（ii）-铈-臭氧^v（v）	72.14 (17)	二氧化硅^{不及物动词}-O2-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	108.4 (3)
氧气^ii（ii）-铈-O8^ii（ii）	75.40 (18)	二氧化硅^{不及物动词}-氧-碳1^十六	107.8 (3)
O1-Ce3-O8型^ii（ii）	78.69 (17)	Ce3公司^{不及物动词}-氧-铈1^十六	112.6 (2)
O9-Ce3-O8型^ii（ii）	142.40 (17)	硅-O3-Ce4^三	128.9 (3)
O11-Ce3-O8型^ii（ii）	115.81 (17)	硅-O3-Ce1	99.8 (2)
O7公司^ii（ii）-Ce3-O8^ii（ii）	60.73 (18)	Ce4级^三-O3-Ce1型	103.53 (19)
臭氧^v（v）-铈-O8^ii（ii）	117.50 (16)	硅-O3-Ce3^四	118.1 (3)
氧气^ii（ii）-铈-O5	57.79 (17)	Ce4级^三-O3-Ce3（氧化铈）^四	100.74 (18)
O1-Ce3-O5	89.70 (17)	Ce1-O3-Ce3^四	101.74 (18)
O9-Ce3-O5型	74.91 (16)	Si3合金^四-O4-Si2型^四	132.3 (4)
O11-Ce3-O5型	157.15 (17)	Si3合金^四-O4-Ce1	130.6 (3)
O7公司^ii（ii）-铈-O5	129.37 (17)	硅2^四-O4-Ce1（氧化铈）	93.4 (2)
臭氧^v（v）-铈-O5	113.96 (16)	Si2-O5-Ce1合金^{不及物动词}	125.7 (3)
O8号机组^ii（ii）-铈-O5	74.37 (16)	Si2-O5-Ce2	122.7 (3)
氧气^ii（ii）-Ce3-Si3合金^ii（ii）	82.32 (14)	Ce1公司^{不及物动词}-O5-Ce2（氧化铈）	100.41 (18)
O1-Ce3-Si3合金^ii（ii）	88.93 (13)	Si2-O5-Ce3合金	86.9 (2)
O9-Ce3-Si3合金^ii（ii）	168.76 (13)	Ce1公司^{不及物动词}-O5-Ce3（氧化铈）	121.6 (2)
O11-Ce3-Si3合金^ii（ii）	91.92 (13)	Ce2-O5-Ce3	96.84 (18)
O7公司^ii（ii）-Ce3-Si3合金^ii（ii）	30.12 (13)	二氧化硅^{不及物动词}-O6-Ce4（氧化铈）^十七	115.5 (3)
臭氧^v（v）-Ce3-Si3^ii（ii）	96.21 (12)	二氧化硅^{不及物动词}-氧六铈^v（v）	118.9 (3)
O8号机组^ii（ii）-Ce3-Si3合金^ii（ii）	30.73 (12)	Ce4级^十七-氧六铈^v（v）	116.3 (2)
O5-Ce3-Si3合金^ii（ii）	103.30 (12)	Si3-O7-Ce4^十八	115.9 (3)
氧气^ii（ii）-Ce3-Si2	28.20 (14)	Si3-O7-Ce3合金^{不及物动词}	99.7 (2)
O1-Ce3-Si2	116.46 (14)	Ce4级^十八-O7-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	103.4 (2)
O9-Ce3-Si2合金	93.10 (13)	Si3-O7-Ce2合金	122.6 (3)
O11-Ce3-Si2合金	169.96 (13)	Ce4级^十八-O7-Ce2型	105.31 (19)
O7公司^ii（ii）-Ce3-Si2	107.23 (14)	三氧化铈^{不及物动词}-O7-Ce2型	107.9 (2)
臭氧^v（v）-Ce3-Si2	89.43 (12)	Si3-O8-Ce4^十四	110.0 (3)
O8号机组^ii（ii）-Ce3-Si2	69.70 (12)	Si3-O8-Ce2合金^v（v）	94.6 (2)
O5-Ce3-Si2	29.87 (11)	Ce4级^十四-O8-Ce2（氧化铈）^v（v）	98.72 (18)
Si3合金^ii（ii）-Ce3-Si2	90.07 (5)	Si3-O8-Ce3合金^{不及物动词}	93.3 (2)
氧气^ii（ii）-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	122.02 (14)	Ce4级^十四-O8-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	128.1 (2)
O1-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	23.46 (14)	二氧化铈^v（v）-O8-Ce3（氧化铈）^{不及物动词}	125.7 (2)
O9-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	72.25 (13)	Si3合金^四-O9-Ce3（氧化铈）	140.2 (3)
O11-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	95.26 (13)	Si3合金^四-O9-Ce2（氧化铈）	97.1 (2)
O7公司^ii（ii）-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	118.79 (13)	Ce3-O9-Ce2	109.54 (19)
臭氧^v（v）-Ce3-Si1^{不及物动词}	166.49 (12)	Si1-O10-Ce4合金	102.1 (3)
O8号机组^ii（ii）-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	75.92 (12)	硅-O10-Ce2^ii（ii）	144.3 (3)
O5-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	66.40 (11)	Ce4-O10-Ce2^ii（ii）	99.37 (18)
Si3合金^ii（ii）-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	96.77 (5)	硅-O10-Ce1	93.2 (2)
Si2-Ce3-Si1合金^{不及物动词}	94.28 (5)	Ce4-O10-Ce1	134.5 (2)
氧气^ii（ii）-Ce3-Ce4^八	60.48 (13)	二氧化铈^ii（ii）-O10-Ce1（氧化铈）	91.68 (17)
O1-Ce3-Ce4^八	140.16 (13)	Si4-O11-Ce3合金	123.9 (3)
O9-Ce3-Ce4型^八	132.82 (13)	Si4-O11-Ce1合金	105.8 (3)
O11-Ce3-Ce4型^八	85.14 (13)	Ce3-O11-Ce1	104.7 (2)
O7公司^ii（ii）-Ce3-Ce4^八	37.93 (12)	Si4-O11-Ce2合金^ii（ii）	103.8 (3)
臭氧^v（v）-Ce3-Ce4^八	38.22 (12)	Ce3-O11-Ce2^ii（ii）	115.2 (2)
O8号机组^ii（ii）-Ce3-Ce4^八	81.22 (12)	Ce1-O11-Ce2^ii（ii）	100.78 (18)
O5-Ce3-Ce4^八	117.33 (10)	Si4-O12-Ce2^四	137.7 (3)
Si3合金^ii（ii）-Ce3-Ce4^八	58.05 (4)	硅1^v（v）-O13-Si4型	129.1 (3)
Si2-Ce3-Ce4合金^八	87.56 (4)	硅1^v（v）-O13-Ce4（氧化铈）^v（v）	94.0 (2)
硅1^{不及物动词}-Ce3-Ce4^八	154.79 (4)	Si4-O13-Ce4合金^v（v）	136.8 (3)
O6公司^九-铈-O3^x	81.19 (18)	Si4-O14-Ce4合金	114.4 (3)
O6公司^九-Ce4-O14型	151.42 (17)	Si4-O14-Ce1合金^x	119.6 (3)
臭氧^x-铈-O14	78.14 (17)	Ce4-O14-Ce1^x	103.55 (19)
O6公司^九-铈-O7^xi（西）	71.13 (19)	Si4-O14-Ce2合金^ii（ii）	92.4 (2)
臭氧^x-铈-O7^xi（西）	75.46 (18)	Ce4-O14-Ce2^ii（ii）	94.99 (17)
O14-Ce4-O7型^xi（西）	121.39 (18)	Ce1公司^x-O14-Ce2型^ii（ii）	130.0 (2)
O6公司^九-铈-O10	120.60 (19)

对称代码：（i）−x,−年+1,z（z）−1/2; （ii）年,−x,z（z）−1/4; （iii）x−1,年,z（z）; （iv）年,−x+1,z（z）−1/4; （v）−年+1,x,z（z）+1/4; （vi）−年,x,z（z）+1/4; （vii）x,年+1,z（z）; （viii）−年+1,x−1,z（z）+1/4; （ix）−年+1,x,z（z）−3/4; （x）x+1,年,z（z）; （十一）−x+1,−年+1,z（z）−1/2; （十二）−x+1,−年,z（z）−1/2; （十三）年+1,−x+1,z（z）−1/4; （十四）−x+1,−年,z（z）+1/2; （十五）x,年−1,z（z）; （十六）−x,−年+1,z（z）+1/2; （十七）年,−x+1,z（z）+3/4; （十八）−x+1,−年+1,z（z）+1/2.

订阅学报：结晶通讯

在线购买

您可以购买PDF和/或HTML格式的文章。对于欧洲共同体中没有增值税编号的购买者，增值税将按当地税率加收。支付给IUCr的款项由WorldPay公司，他们将接受多种货币的信用卡支付。要购买文章，请填写下表（标记为*的字段是必填字段），然后单击“继续”。

电子邮件地址*
重复电子邮件地址* （用于错误检查）

格式*	PDF（40美元)
	HTML（40美元)
	PDF+HTML（50美元)
为了显示您所在国家的增值税，需要启用javascript。

增值税编号（仅限非英国EC国家）
国家*

使用条款和条件
 联系我们

格式		BIBTeX公司
		尾注
		RefMan参考手册
		请参阅
		Medline公司
		成本加保险费、运费
		SGML公司
		文本
		纯文本

格式		BIBTeX公司
		尾注
		RefMan参考手册
		请参阅
		Medline公司
		成本加保险费、运费
		SGML公司
		文本
		纯文本