1.简介
X射线结晶学长期以来一直帮助研究人员确定生物大分子及其复合物的高分辨率结构。尽管它们的用途和用途广泛,但由于无法获得大的衍射良好的晶体,获取结构信息的晶体学工作经常受到阻碍。事实上,微晶(最长尺寸<15µm)经常在结晶条件的初始搜索中发现,在许多情况下,项目可能会在超过微晶极限的过程中停滞不前。微晶研究的挑战推动了旨在克服微米级样品固有的弱衍射和辐射敏感性的技术创新的发展。近年来,微焦点同步加速器光束线和X射线自由电子激光器(XFEL)等先进技术使得从各种微晶系统(Boutet)收集有用的衍射数据成为可能等。, 2012
; 查普曼等。, 2006
, 2011
; Cowan&Nave,2008年
; 库萨克等。, 1998
; 芬弗洛克等。, 2010
; 菲舍蒂等。, 2009
,2013年
; 希尔加特等。, 2011
; 约翰逊等。, 2012
; 穆哈梅齐亚诺夫等。, 2008
; 佩拉基斯等。, 1999
; 萨尼什维利等。, 2008
, 2011
; 萨瓦亚等。, 2014
; 史密斯等。, 2012
).
尽管光束线技术目前可以用于亚微米尺寸的晶体(查普曼等。, 2011
)样品采集和靶向仍然是微晶衍射研究中的两大难题。例如,使用XFEL,液体喷射喷射系统可以连续地将微晶流注入快速脉冲X射线束(DePonte等。, 2008
; 齿状山脊等。, 2012
; 魏尔斯塔尔等。, 2012
, 2014
). 液体射流已成功用于多项结构分析(Barends等。, 2014
; 博塔等。, 2015
; 布泰等。, 2012
; 查普曼等。, 2011
; 约翰逊等。,2013年
; 科恩等。, 2012
,2013年
, 2014
; 库皮茨等。, 2014
; 刘瓦克等。,2013年
; 雷德克等。,2013年
);然而,这些设备的“命中率”本质上也很低(即与收集的总曝光次数相比,“光束对准”事件的数量较少),并且它们在实验过程中往往消耗大量样品(数百微升到数十毫升)(布特等。, 2012
; 查普曼等。, 2011
; 齿状山脊等。, 2012
; 魏尔斯塔尔等。, 2014
). 基于毛细管的液流系统,已成功用于微焦点同步加速器光束线(Stellato等。, 2014
),具有类似的大样本要求。
`用于输送微晶的固定目标装置构成了液体喷射系统的宝贵替代品(科恩等。, 2014
; 平田等。, 2014
). 环路、微网孔或聚碳酸酯塑料格栅的体积消耗低,目标命中率相对较高(科恩等。, 2014
; 平田等。, 2014
)在晶体材料受到限制的情况下,这是一个有用的特性。尽管有这些有利的特性,但固定目标设备也有其自身的缺点。例如,沉积在塑料网上的晶体需要低温保存以避免脱水;寻找合适的低温保护条件通常很困难,在某些情况下,溶质的变化或冷却过程本身可能会不利地降低结晶顺序或影响蛋白质结构(弗雷泽等。, 2009
, 2011
; 基迪等。, 2014
; 蒂尔顿等。, 1992
). 一些固定目标输送系统,如MiTeGen MicroRT毛细管支架、基于PDMS的微流体装置(海曼等。, 2014
; 赫沃斯蒂琴科等。, 2014
; 柳比莫夫等。, 2015
),氮化硅格栅(Frank等。, 2014
; 亨特等。, 2014
; 木村等。, 2014
)HC1湿度控制装置(Sanchez-Weatherby等。, 2009
)和聚酰亚胺(Kapton)薄膜基格栅(Cipriani等。, 2012
; 扎里纳-阿萨尔等。, 2012
)通过允许在室温下进行样品分析,可以避免与低温保护相关的问题。此外,微流体设备可以允许从可寻址阵列内的稀释溶液中生长或捕获微晶(Hansen等。, 2002
,2006年
; 海曼等。, 2014
; 赫沃斯蒂琴科等。, 2014
; 柳比莫夫等。, 2015
; 郑等。, 2004
).
与液体喷射设备相比,一些固定目标方法的一个缺点是设备材料引起的背景散射增加。例如,PDMS在~7.5º分辨率(Dhouib等。, 2009
; Greaves&Manz,2005年
; 古哈等。, 2012
)和设备制造通常需要相对较厚(>50µm)的材料层,这些材料层的特性可能会干扰弱衍射图案(Hansen等。, 2006
; 柳比莫夫等。, 2015
). 与PDMS相比,氮化硅支架提供相对较低的背景散射和较高的X射线透射(Frank等。, 2014
; 亨特等。, 2014
),但迄今为止报告的此类微晶采集设备依赖于从其自然生长条件中移除样品的装载方案(Feld&Frank,2014
; 弗兰克等。, 2014
; 亨特等。, 2014
),这一步骤可能会对衍射质量产生不利影响。HC1湿度控制装置允许通过用户控制的薄片上晶体样品的部分脱水来收集室温数据;然而,该系统要求对优化后的晶体进行低温冷却,以便进行完整的数据集收集(桑切斯·威瑟比等。, 2009
). 就他们而言,已经描述了聚酰亚胺(Kapton)薄膜基器件,它们具有低散射性,并且可以在加载期间保持自然晶体生长条件(Cipriani等。, 2012
; 扎里纳-阿萨尔等。, 2012
);然而,这些系统要么要求在设备中生长晶体(西普里亚尼等。, 2012
)或者那个大玻璃珠等。, 2012
)其尺寸比微晶的尺寸大得多(高达100µm),可用于创建纹理表面,使晶体取向随机化(Zarrine Afsar等。, 2012
).
为了克服当前固定目标器件中存在的一些局限性,开发了一种新的硅氮基芯片,可以在自然生长条件下从微晶收集X射线衍射数据。使用高X射线透射材料的组合,包括氮化硅、卡普顿薄膜和可图案化光刻胶,该芯片能够接受小体积(<2µl)微晶浆液,将其限制在规定的成像区域内,并有利于偏置具有微彩色特征的单个微晶的位置。这些芯片用于在类似XFEL、零振荡、“单晶体/一次激发”策略下收集微焦点光束线上约10–15µm大小的鸡蛋白溶菌酶(HEWL)晶体的X射线衍射数据,使用手动瞄准。这种方法允许收集完整、高质量(1.55此外,使用X射线自由电子激光(XFEL)测试HEWL微晶的曝光,产生了高质量的衍射数据,证明了芯片用于微焦点同步加速器或XFEL X射线辐射的实用性。
2.材料和方法
2.1. 芯片制造
使用直径100 mm、厚度525(±25)µm、涂有1500°(±5%)低压化学气相沉积氮化硅(WRS材料)的“优质”级硅片,为所有器件设计制造氮化硅窗口。将晶片在200°C下脱水60分钟,冷却后,使用2µm厚的S1813光刻胶(Dow),使用激光蚀刻铬掩模(Front Range PhotoMask)和标准光刻技术将其制成所需阵列(Jaeger,2002
). 在随后的深度反应离子蚀刻(DRIE)处理期间,将S1813光刻胶旋转到晶圆背面,使其厚度达到2µm,以保护背面的氮化硅层。在115°C烘烤以硬化晶圆背面的光刻胶后,晶圆使用四氟化碳(CF)进行DRIE4)等离子体选择性地去除之前转移所需窗口图案时暴露的氮化硅。然后在丙酮浴中剥离光刻胶,然后将晶圆浸入90°C 30%(w个/五)用于硅晶片湿法蚀刻的氢氧化钾溶液。湿法蚀刻以大约1µm min的速度进行−1完成后,用去离子水彻底冲洗晶圆。为了制备用于中间层的光致抗蚀剂图案化的晶片,将晶片在200°C下脱水烘焙60分钟,然后使用PEII-a等离子体蚀刻室(Technics)进行氧等离子体处理(300 W,5分钟)。随后将SPR 220-7.0光刻胶(道氏)旋转到晶圆的连续氮化硅表面侧,高度为15µm,用于沟道芯片设计,或将SPR 220-3.0光刻胶粒旋转到晶片上5µm高度,用于光刻胶芯片设计。使用标准光刻技术和激光蚀刻铬掩模(前幅光刻掩模)对光刻胶特征进行了图案化。为了使光刻胶条具有亲水性,使用Atomflo 400系列等离子体发生器(Surfx)对光刻胶进行氧气等离子体处理。使用金刚石尖端笔从晶片上切下单个器件,以沿着骰子线施加压力,骰子线与初始窗口阵列一起被图案化到晶片上,并在湿法蚀刻期间被蚀刻到晶片中。
2.2。氮化硅芯片内微晶光学成像的晶体生长和芯片加载
按照福克纳的描述,生长了鸡蛋白溶菌酶(HEWL)微晶等。(2005
),但使用了市售的HEWL制剂(OmniPure,5950-OP),并且省略了晶体交联步骤。将冻干溶菌酶重新悬浮在20 mg ml−1在pH 3.5的醋酸钠中,分成50µl小份,然后在−20°C下储存。为了结晶,将溶菌酶溶液解冻,然后以13000转/分钟的转速旋转10分钟−1在台式离心机(Eppendorf 5424)中去除任何沉淀物或细颗粒物质。然后将澄清的溶液转移到新鲜的微型离心管中,并以1:3(蛋白质:缓冲液)的比例添加结晶缓冲液。要生成10–15µm大小的晶体,20%氯化钠,8%(w个/五)聚乙二醇8000,0.5M(M)使用pH为3.5的醋酸钠溶液。将溶液置于冰上或4°C的冷藏室中时,溶液在15分钟内形成晶体。
对于装载HEWL微晶的芯片的光学成像,微晶浆料首先通过上下移液管搅拌。接下来,在光刻胶图案的氮化硅窗口顶部发现0.5µl该制剂。为了覆盖芯片,使用刀片切割一片8µm厚的Kapton薄膜(SPEX SamplePrep,目录号3511),其尺寸足以覆盖所有氮化硅观察窗,并放置在溶液顶部。芯片上的晶体图像是使用配备Retiga 2000R相机(Q Imaging)的奥林巴斯IX71显微镜拍摄的。
为了在斯坦福同步辐射实验室(SSRL)束线BL12-2和Linac相干光源(LCLS)的X射线泵探针(XPP)端站上收集X射线数据,按照光学成像所述加载并覆盖芯片。在高级光子源中,将0.5µl新制备的HEWL微晶浆料用移液管移到四个连续窗口上,因为由于安装设备和光束线终端的几何形状,每个氮化硅芯片上只有四个窗口可用于数据采集。
2.3. 衍射数据采集和晶体结构决心
在SSRL光束线BL12-2上进行了背景散射X射线衍射实验,采用10µm光束、3 s曝光和0.02°振荡。10–15µm HEWL微晶的X射线衍射实验使用10µm光束、5 s曝光和0.02°振荡。图像收集在Dectris PILATUS 6M探测器上。所有测量均使用5×30 mm基于通道的芯片(补充图S1)。所有实验均使用定制的芯片支架。晶体要么完全位于氮化硅表面,要么完全位于涂有光刻胶的氮化硅表面上,产生衍射而没有任何明显差异(补充图S2)。随后,两幅衍射图像都用预期的空间组四方HEWL微晶的单位-细胞参数(P(P)4三212,一 = b条 = 79.1,c(c)=38.1Å,α=β=γ= 90.0°).
在LCLS的XPP终端使用10–15µm HEWL微晶进行X射线衍射实验,使用3µm未衰减光束和40 fs脉冲。使用3µm非衰减光束的40 fs脉冲对5×30 mm基于信道的芯片进行测试曝光(补充图S1)(补充图S3一,第4页一和4b条)或30µm未衰减光束(补充图S4c(c)和S4d日)9千伏。在Rayonix MX325探测器上收集静止(零振荡)图像。所有测量均使用5×30 mm基于通道的芯片(补充图S1)和定制的芯片支架(带机加工芯片孔槽的标准磁性底座)。探测器的位置应确保角对应于~2.0Ω的分辨率。使用J蓝色——史诗(斯特帕诺夫等。, 2011
),首先聚焦单个1毫米,将晶体移动到光束中2低倍率氮化硅窗口。随后,放大倍数增加到可以清楚地看到单个微晶的程度,然后手动瞄准单个微晶进行曝光。
使用零振荡串行数据收集策略,使用直径为10µm的光束和PILATUS3 6M探测器,在高级光子源(APS)的通用医学科学与癌症研究所结构生物学设施(GM/CA)光束线23-ID-D上收集了完整的数据集。芯片使用GM/CA开发的定制芯片支架安装。在光束时间<8小时内,共收集了324张(0.25秒曝光)图像。使用八块芯片进行数据采集,芯片通常保持安装状态,观察时间为30–60分钟;对一块芯片进行了107分钟的检查。通过手动光栅从氮化硅窗口的左上角到右下角定位HEWL微晶。在一个窗口内暴露晶体后,芯片被转换到相邻窗口,该窗口也被手动光栅化。这些实验中使用了亲水性光刻胶条带基芯片(10×30mm器件尺寸,条带图案)。
为了确定最大分辨率数据集采集所需的最小X射线剂量,首先对单个HEWL微晶进行10次1.0 s的辐射暴露,以确定衍射分辨率极限开始降低的时间。在单个微晶仅经历一次1.0秒的暴露后,对另一个微晶进行10次0.3秒的低剂量系列暴露。在第二次0.3秒曝光期间,分辨率降低。在十次0.1秒曝光后,发现分辨率极限没有延伸到探测器边缘,因此选择0.25秒曝光进行数据集采集。
使用cctbx.xfel公司软件套件(Hattne等。, 2014
).底漆然后用于成功合并、缩放和后细化324/324个集成图像(Uervirojnangkoorn等。2015年
). 溶菌酶的结构通过分子置换使用相位器(麦考伊等。, 2007
)并使用菲尼克斯定义(亚当斯等。,2010年
),而手动重建和调整是在库特(埃姆斯利等。, 2010
).R(右)自由的-从分子重定位图开始,所有输出图中都保留了标记的反射。
4.讨论
在生物大分子结晶过程中,研究人员获得微晶并不罕见。事实上,对于许多项目,只能获得5-10µm或更小的晶体,这限制了结构确定选项。微焦点光束线已被证明在允许研究人员从微晶样品中确定结构方面是非常宝贵的(切列佐夫等。, 2007
; 库利巴利等。, 2007
; 纳尔逊等。, 2005
; 拉斯穆森等。, 2007
, 2011
; 警告等。, 2008
). 同样,下一代“衍射受限光源”将产生比当前第三代同步加速器光源更亮的X射线束(Biasci等。, 2014
; Borland,2013年
; Decker,2014年
; Einfeld,2014年
; 田中,2014年
)XFEL源有望对此类系统产生更大的影响(巴伦兹等。, 2014
; 布泰等。, 2012
; 查普曼等。, 2011
; 约翰逊等。, 2012
,2013年
; 科恩等。, 2012
,2013年
, 2014
; 库皮茨等。, 2014
; 刘瓦克等。,2013年
; 雷德克等。,2013年
; 萨瓦亚等。, 2014
).
尽管光束线技术不断进步,微晶的采集和输送通常仍然是一个挑战。输送系统目前侧重于两种主要方法,即连续液体喷射喷射和固定目标系统,每种方法都为微晶采集和分析提供了一定的优缺点。考虑到它们在微晶研究中的实用性,固定目标设备,例如回路、微网孔、网格和微流控芯片,通常提供低样本消耗和相对较高(>30%)的自动命中率(Hunter等。, 2014
). 然而,环网和微孔网需要样品低温保护以防止快速脱水(科恩等。, 2014
; 平田等。, 2014
). 低温保护过程通常很耗时,并且会影响结晶靶的结构(弗雷泽等。, 2009
, 2011
; Halle,2004年
). 其他基于网格或芯片的固定目标方法允许在室温下进行数据采集,但通常也需要在一种高度专业化的设备中生长和分析晶体(Cipriani等。, 2012
; 汉森等。, 2006
; 赫沃斯蒂琴科等。, 2014
)或者晶体被转移到非天然的收获条件,如石油(亨特等。, 2014
). 理想的样品交付平台将允许以温和和自然的方式传输和分析任何形式生长的晶体,以避免因溶液条件或机械应力的变化而造成的损坏。同时,这种设备将微晶定位在确定的、可寻址的位置,以优化数据收集期间样品使用的效率。
在这里,我们报道了一种具有最小X射线背景散射和吸收特性的新芯片的开发。该芯片采用三层设计,包括氮化硅观察窗、光刻胶微晶支撑和Kapton薄膜盖(图1
一和1
b条). 只需将样品溶液移到观察窗上,并将卡普顿薄膜铺在液滴上,即可加载芯片。加载所需的材料很少(<2µl),微晶在转移到设备时保持在其自然生长条件下。Kapton薄膜和氮化硅层减轻了脱水的影响,为使用手动目标从芯片中收集数据提供了充足的时间。目前正在研究为装置内的微晶创造气密密封的长期方法,以实现样品的临时储存和运输。
类似于微孔和格栅(科恩等。, 2014
),暴露的氮化硅格栅(Hunter等。, 2014
)和Kapton基于胶片的网格(Zarine-Afsar等。, 2012
),这里介绍的器件中的材料及其薄的性质(光致抗蚀剂条纹芯片的总腔室厚度<15µm)提供了高的X射线透射,并允许晶体以随机方向定位。因此,使用氮化硅芯片在低曝光剂量下获得完整的衍射数据集,从数百个单一HEWL微晶收集一系列静止图像,以模拟XFEL型衍射数据。HEWL微晶已用于液体喷射基础(Botha等。, 2015
),基于固定目标(Coquelle等。2015年
; 柳比莫夫等。, 2015
)和基于毛细管的(Stellato等。, 2014
)输送系统。从芯片中加载的HEWL微晶上收集的数据中,确定了HEWL模型系统所期望的完全分辨率和质量的结构。数据集始终包含显示高分辨率衍射峰的单个图像,分辨率通常为1.3°(补充图S3b条和S6)。本地数据具有足够的质量,可以使用分子替换。值得注意的是,HEWL的结构仅使用收集到的324张衍射图像来确定,这与可以从单吊滴蒸汽扩散实验中获得的微晶样品的数量相当。因此,基于氮化硅的设备,加上最先进的串行数据还原软件,可以从稀疏矩阵结晶试验期间获得的晶体中提取高质量的衍射数据。
结果进一步表明,多层芯片应适用于更小(<10µm)的微晶靶,以及具有大单位-细胞参数的复合物的微晶。高质量的数据表明,从芯片获得的衍射应足以完成需要高信噪比测量的任务,例如自然硫SAD相位(Liu,Liu等。,2013年
). 在这方面,芯片顶部的卡普顿薄膜层可以由更低的Z轴-分数/更高的X射线透射材料(如必要),如另一氮化硅窗口、铍或潜在的石墨烯,以促进此类研究(克劳斯等。, 2014
; 迈耶等。, 2007
). 目前正在努力设计这种装置。
加载到氮化硅芯片中的HEWL微晶的测试XFEL曝光表明,该装置可用于未来使用XFEL束源的X射线衍射实验(补充图S3一). 当将光刻胶图案的氮化硅器件暴露于未衰减的3µm光束时,在Kapton薄膜中产生了一个孔和一个直径约为100µm的熔化光刻胶环(补充图S4一和S4b条)衍射数据质量似乎未受影响(补充图S3一). 此外,在前一次拍摄的大约250µm的XFEL光束照射下,仍然可以产生高质量的溶菌酶衍射图案(未显示),这表明可以使用光栅方法进行有效的数据收集。此外,在使用3µm XFEL光束安装芯片进行X射线衍射实验时,由于受到损坏,也没有出现明显的脱水现象。相比之下,用30µm光束曝光不会以任何可观察的方式影响Kapton膜或与光束相互作用点周围的光刻胶结构(补充图S4c(c)和S4d日).
微晶输送系统中的一个剩余挑战是最大限度地提高样品命中率,以便在衍射数据自动采集期间获得的接近100%的图像包含来自单个微晶的可用衍射图案。一种能够产生从稀释溶液中捕获的完全可寻址微晶阵列的设备已经开发出来,这是朝着这个目标迈出的宝贵一步(吕比莫夫等。, 2015
). 最近涉及氮化硅基器件的工作(Coquelle等。2015年
; 弗兰克等。, 2014
; 亨特等。, 2014
; 木村等。, 2014
)已证明氮化硅作为低后向散射材料用于弱衍射微晶样品的实用性。然而,这些最新的设备并没有影响微晶位置的方法。这里,微晶位置通过交替疏水/亲水表面的形成而得到了有利的偏移(图4
). 虽然晶体没有完全定位在规定的位置,但HEWL微晶可以优先定位于通过氧等离子体处理变得亲水的光刻胶特性。目前正在努力将所有这些进展整合到一个高效的晶体测量系统中。
此外,现在已经建立了材料(氮化硅、光刻胶和聚酰亚胺薄膜)和微加工方法(氧等离子体处理)的组合,这有助于衍射数据收集,同时最大限度地减少背散射,并影响微晶的定位,该平台可用于设计各种微操作实验的芯片,例如重原子浸泡。未来,预计数据集的收集需要大量图像,例如从头算天然硫SAD实验的阶段化将大大有助于将微晶定位在可编程为自动数据收集系统的确定的、可瞄准的位置。进一步改善此处所述的三层设备的表面特性和特征尺寸有助于实现这些目标。
致谢
我们要感谢斯蒂芬·哈里森教授在芯片设计和数据采集方面的建议,以及他慷慨捐赠的一部分XFEL波束时间。总经理/卡@APS全部或部分由美国国家癌症研究所(ACB-12002)和美国国家普通医学科学研究所(AGM-12006)的联邦基金资助。本研究使用了先进光子源的资源,这是美国能源部(DOE)科学办公室用户设施,由阿贡国家实验室根据合同DE-AC02-06CH11357为DOE科学办公室运营。SLAC国家加速器实验室斯坦福同步辐射实验室(SSRL)和Linac相干光源(LCLS)的使用由美国能源部科学办公室基础能源科学办公室支持,合同号DE-AC02-76SF00515。SSRL结构分子生物学项目由DOE生物与环境研究办公室和国家卫生研究院、国家普通医学科学研究所(包括P41GM103393)支持。本出版物的内容仅由作者负责,不一定代表NIGMS或NIH的官方观点。该项目的资金由休斯合作创新奖(HCIA)提供给ATB和JMB。
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编号:2059-7983
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