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之间导电界面的结构基础LaAlO公司锶钛氧化物

P.R.Willmott、S.A.Pauli、R.Herger、C.M.Schlepütz、D.Martoccia、B.D.Patterson、B.Delley、R.Clarke、D.Kumah、C.Cionca和Y.Yacoby
物理学。修订稿。99,155502–2007年10月9日出版

摘要

五层单层膜的完整原子结构LaAlO公司锶钛氧化物首次通过表面x射线衍射结合相干布拉格棒分析相恢复方法和进一步的结构细化来确定。界面处的阳离子混合导致延迟变形和金属的形成洛杉矶1x个高级x个氧化钛.通过调用静电势最小化4+/+测定了界面上的晶格膨胀,从中可以用离子半径的考虑来定量解释晶格膨胀。密度泛函理论计算支持了该模型的正确性。因此,基于结构考虑,解释了准二维电子气在该系统中的形成。

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  • 收到日期:2007年6月6日

内政部:https://doi.org/10.103/PhysRevLett.99155502

©2007美国物理学会

作者和附属机构

P.R.威尔莫特1,*,圣保罗1,R.Herger先生1,C.M.Schlepütz先生1,D.马尔托奇亚1,B.D.帕特森1,B.德利1,R.克拉克2,D.库马2,C.西奥卡2、和Y.亚科比

  • 1瑞士维利根CH-5232 Paul Scherrer研究所
  • 2美国密歇根州安阿伯市密歇根大学兰德尔物理实验室和焦点中心,邮编:48109-1120
  • 以色列耶路撒冷希伯来大学拉卡物理研究所,91904

  • *菲利普·威尔莫特@psi.ch

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第99卷,第。2007年10月15日至12日

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