Poly[diaqua­bis­(μ3-hexa­methyl­ene­tetra­mine)[μ2-2,2′-(piperazine-1,4-diyl)bis­(ethane­sulfonato)]disilver(I)]: a three-dimensional pillared-layer framework encapsulating a water chain of (H2O)12 clusters

Guo, P.; Wang, J.; Pan, D.; Xu, G.-H.

doi:10.1107/S0108270110032609

聚[diaquabis(_三-六甲基烯四胺）[₂-2,2'-（哌嗪-1,4-二基）双（乙烷磺酸盐）]二溶器（I）]：一种三维柱撑层框架，封装（H）的水链₂O）₁₂集群

标题化合物{[Ag₂（C）₈H（H）₁₆N个₂哦₆S公司₂)（C）₆H（H）₁₂N个₄)₂（H）₂O）₂]·12小时₂O}（O）_n个，由二维Ag组成^我-由2,2'-（哌嗪-1,4-二基）双（乙烷磺酸盐）配体柱撑的六亚甲基四胺（6,3）网络，该配体位于反转中心。考虑到六亚甲基四胺配体和Ag，该化合物也可以被视为（3，4）连接的拓扑结构^我离子分别作为三个和四个连接节点。沿着一容纳由（H）组装的水链的轴₂O）₁₂集群。

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支持信息

	结晶信息文件（CIF）https://doi.org/10.107/S010827011032609/sf3135sup1.cif 包含全局数据块，I
	结构系数文件（CIF格式）https://doi.org/10.107/S010827011032609/sf3135Isup2.hkl 包含数据块I

CCDC参考：781785

注释顶部

一维水链越来越受到关注，因为它们在水、质子和离子（路德维希，2001；科诺佐等。, 2002; 鲁克斯等。, 1999;斯列尼瓦苏鲁等。, 2004). 最近，金属-有机框架（MOF）（埃多乌迪等。，2001），其中隔离金属中心或金属团簇通过有机连接体连接在一起，形成一个扩展的结构，由于MOF用于气体分离、不对称催化和对映选择性分离。同时，MOF的合理设计有利于构建延伸结构中的通道或空腔，为封装水链或水簇。在财政部家族中，柱撑层结构，综合了井的优点通过修改立柱模块确定孔隙和结构多样性，已被广泛调查（任等。, 2009). 在这里，我们报告三维柱撑层框架，{[{Ag（银）^我L（左）1（高₂O） }₂L（左）2] .12小时₂O}（O）_n个，（I），其中L（左）1是六亚甲基四胺L（左）2是2,2'-（哌嗪-1,4-二基）双（乙磺酸盐），与（3,4）连接容纳由（H）组成的水链的拓扑₂O）₁₂集群在一维通道中。

单晶X射线衍射研究表明化合物（I）是中心对称空间群中的单斜和结晶P（P）2₁/n个.有一个Ag^我离子，一个L（左）1个配体，半个L（左）不对称单元中有2个配体和7个水分子。所有Ag^我离子呈现扭曲的五坐标三角双锥构型(ζ=0.6135）（安东尼等。，1984），带有N1、N4B类和N3C类（对称代码：B-1+x个，年，z；C-1/2+x个, 1/2 -年, -1/2 +z（z）)三个原子L（左）1个赤道配体位置和两个O原子在轴向位置（图1）。协调用水与Ag相互作用^我离子很弱，键长为3.077（2）Au。银^我-N键范围为2.334（2）至2.381（2）Au和Ag^我-O一个[2.514（2）Au]与之前报告的值相同（Liuet（等）阿尔。，2009），而N-Ag的价值^我-N在范围内113.11 (8)–130.21 (8)°. 所有的哌嗪环L（左）2个配体采用最稳定的椅子配置，这与之前的工作（Sun等。, 2004). 自从Ag^我离子连接三个L（左）1配体和L（左）1个配体与三个Ag配位^我离子以及（图2一)、Ag^我–六亚甲基四胺层可以视为二维（6，3）网络（图2b条). 值得一提相邻Ag··Ag距离相似（约5.983、6.342和6.329？）表示该层的六边形性质。如图所示。2(c（c）)由L（左）2个配体，化合物（I）还可以通过考虑L（左）1配体和Ag^我离子分别作为三连接和四连接节点。它值得注意的是，沿着一轴，提供可用的空隙以调查水链或水簇。

标题化合物（I）的迷人特征是（H）₂O）₁₂团簇在一维通道内形成水链（3，4）连通拓扑。如图3所示(一)，（H₂O）₁₂簇由（H₂O）₁₀集群和两个下垂的水（O4W公司^x个和O4W公司^xi（西）)（图3b条). 五个水分子（O1W公司，氧气W公司，O5W公司，O6W公司和O7W公司)和他们的对称等价物形成中心对称的十聚体，也可以看到作为两个环状五聚体（图3c（c）). 的简化结构（H）₂O）₁₂集群如图3所示(d日). 除了环六聚体（O1W公司，O5W公司，O6W公司及其对称等价物）椅子构象，也可以在之前的结构中找到（H）₂O）₁₂簇（Song等。，2007），环五聚体和倍频程（O1W公司，氧气W公司，O5W公司，O7W公司和它们的对称等价物）。氢键距离水原子团簇的两个氧原子之间的夹角在2.741～2.866º之间，平均为2.805º，而氢原子的夹角（H）之间的键₂O）₁₂簇跨越150–178°的范围。14氢键主要负责（H）的稳定性₂O）₁₂集群。个人（H₂O）₁₂集群通过以下方式连接O6公司W公司-小时··O7W公司氢键，生成延伸的水链通过客体-水链和主体框架之间的氢键相互作用（O5W公司-H···N5、O6W公司-H···N2、O4W公司-H···O3和O5公司W公司-H··N5）。

相关文献顶部

相关文献见：Anthony&Rao（1984）；Eddaoudi公司等。（2001年）；Konozo公司等。(2002);线路接口单元等。(2009);路德维希（2001）；任等。(2009);Roux&MacKinnon（1999）；Song&Ma（2007）；Sreenivasulu和Vittal（2004）；太阳等。(2004).

实验顶部

1，4-哌嗪二乙基磺酸（0.5 mmol，0.15 g）和六胺（0.5 mmol，0.07 g）添加到乙酸银（0.5 mmol，0.084 g）的水溶液（10 ml）中。将混合物搅拌15分钟后，沉淀为通过滴加NH水溶液溶解_三（14）M（M）).络合物（I）的无色晶体是通过蒸发溶液获得的在室温下持续2天。

计算详细信息顶部

数据收集：智能（布鲁克，1997）；单元格细化：圣保罗（布鲁克，1999）；数据缩减：圣保罗（布鲁克，1999）；用于求解结构的程序：SHELXS97标准（谢尔德里克，2008）；用于细化结构的程序：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）；分子图形：SHELXTL-Plus公司（谢尔德里克，2008）；用于准备出版材料的软件：SHELXL97型（谢尔德里克，2008）。

数字顶部

	图1。银的局部配位观点^我（I）中的原子，表示原子编号方案。位移椭球在30%处绘制概率水平。所有氢原子和孤立的水分子都被省略了为了清晰起见。[对称码：（i）x-1/2，-y+1/2，z-1/2；（ii）x-1，y，z；（v）-x+1，-y+1，-z+1。]
	图2。(一)银的连接环境^我离子和L（左）1配体；(b条)（6,3）网；(c（c）)三维的（3,4）-连通拓扑。
	图3。(一)沿着c（c）轴线；(b条)的（H）₂O）₁₂集群；(c（c）)环状五聚体；(d日)简化的（H）的结构₂O）₁₂集群。[对称代码：（vi）-x+1，-y，-z+1。]

聚[二夸比（µ_三-六亚甲基四胺）[µ₂-2,2'-（哌嗪-1,4-二烷基）双（乙磺酸）]二乙烯基（I）]顶部

水晶数据顶部

[银₂（C）₈H（H）₁₆N个₂哦₆S公司₂)（C）₆H（H）₁₂N个₄)₂（H）₂O）₂]·12小时₂哦	F类(000) = 1088
M（M）_第页= 1048.70	D类_x个=1.663毫克⁻^三
单诊所，P（P）2₁/n个	钼K（K）α辐射，λ= 0.71073 Å
大厅符号：-P 2yn	5910次反射的细胞参数
一= 6.3902 (3) Å	θ= 2.6–26.1°
b条= 31.1619 (14) Å	µ=1.12毫米⁻¹
c（c）=10.5428（5）Å	T型=165 K
β= 93.770 (1)°	块，无色
V（V）= 2094.85 (17) Å^三	0.41×0.28×0.19毫米
Z轴= 2

数据收集顶部

Bruker Nonius KappaCCD公司衍射仪	4128个独立反射
辐射源：细焦点密封管	3382次反射，2次反射σ(我)
石墨单色仪	R（右）_整数= 0.030
ω扫描	θ_最大值= 26.1°,θ_最小值= 1.3°
吸收校正：多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，1996）	小时=−7→5
T型_最小值= 0.200,T型_最大值=0.303	k个=−38→33
11631次测量反射	我=−12→13

精炼顶部

优化于F类²	主原子位置定位：结构-变量直接方法
最小二乘矩阵：完整	二次原子位置：差分傅立叶图
R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.030	氢站点位置：从邻近站点推断
水风险(F类²) = 0.094	受约束的氢原子参数
S公司= 1.14	w个= 1/[σ²(F类_o个²) + (0.0487P（P）)²+ 0.091P（P）] 哪里P（P）= (F类_o个²+ 2F类_c（c）²)/3
4128次反射	(Δ/σ)_最大值= 0.001
244个参数	Δρ_最大值=0.61埃⁻^三
0个约束	Δρ_最小值=−0.60埃⁻^三

水晶数据顶部

[银₂（C）₈H（H）₁₆N个₂哦₆S公司₂)（C）₆H（H）₁₂N个₄)₂（H）₂O）₂]·12小时₂哦	V（V）= 2094.85 (17) Å^三
M（M）_第页= 1048.70	Z轴= 2
单诊所，P（P）2₁/n个	钼K（K）α辐射
一= 6.3902 (3) Å	µ=1.12毫米⁻¹
b条= 31.1619 (14) Å	T型=165 K
c（c）= 10.5428 (5) Å	0.41×0.28×0.19毫米
β= 93.770 (1)°

数据收集顶部

Bruker Nonius KappaCCD公司衍射仪	4128个独立反射
吸收校正：多扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，1996）	3382次反射，2次反射σ(我)
T型_最小值= 0.200,T型_最大值= 0.303	R（右）_整数=0.030
11631次测量反射

精炼顶部

R（右）[F类²> 2σ(F类²)] = 0.030	0个约束
水风险(F类²) = 0.094	受约束的氢原子参数
S公司= 1.14	Δρ_最大值=0.61埃⁻^三
4128次反射	Δρ_最小值=−0.60埃⁻^三
244个参数

特殊细节顶部

几何图形.所有esd（两个l.s.平面之间二面角中的esd除外）使用全协方差矩阵进行估计在估计距离、角度的esd时单独考虑和扭转角；细胞参数中esd之间的相关性仅为当它们由晶体对称性定义时使用。近似（各向同性）细胞esd的处理用于估计涉及l.s.平面的esd。

精炼.F的细化²对抗所有反射。加权R系数wR和拟合优度S基于F²，基于传统R系数R在F上，对于负F，F设置为零²。的阈值表达式F类²>2西格玛（F²)仅用于计算R系数（gt）等与优化反射的选择无关。基于R因素在F上²在统计学上大约是基于F和R的值的两倍-基于所有数据的因素将更大。

分数原子坐标和各向同性或等效各向同性位移参数²) 顶部

	x个	年	z（z）	U型_{国际标准化组织}*/U型_等式
银1	0.13588 (3)	0.248329 (7)	0.41464 (2)	0.01581 (10)
S1（第一阶段）	0.10125 (12)	0.34865 (2)	0.58448 (7)	0.01485 (18)
1个	0.4592 (4)	0.22064（8）	0.5056 (2)	0.0134 (5)
氮气	0.6664 (4)	0.15842 (8)	0.5784 (2)	0.0130 (5)
N3号机组	0.6578 (4)	0.22205 (8)	0.7126 (2)	0.0119 (5)
4号机组	0.8448（4）	0.22375（8）	0.5163 (2)	0.0124 (5)
N5型	0.4014 (4)	0.45794 (8)	0.4905 (3)	0.0186 (6)
O1公司	0.2183 (4)	0.32226 (7)	0.4994 (2)	0.0228 (5)
氧气	0.1796 (3)	0.34385 (8)	0.7168 (2)	0.0221 (5)
臭氧	−0.1264 (3)	0.34186 (8)	0.5677 (2)	0.0217 (5)
C1类	0.6677 (5)	0.17417 (10)	0.7101 (3)	0.0135 (6)
甲型H1A	0.7970	0.1644	0.7583	0.016*
H1B型	0.5459	0.1622	0.7515	0.016*
指挥与控制	0.8479（4）	0.17603 (10)	0.5185 (3)	0.0140 (6)
过氧化氢	0.8489	0.1651	0.4304	0.017*
过氧化氢	0.9781	0.1661	0.5657	0.017*
C3类	0.4737 (4)	0.17325（10）	0.5065（3）	0.0142 (6)
H3A型	0.3497	0.1612	0.5454	0.017*
H3B型	0.4730	0.1626	0.4180	0.017*
补体第四成份	0.8426 (5)	0.23877 (10)	0.6501 (3)	0.0133 (6)
H4A型	0.9724	0.2291	0.6982	0.016*
H4B型	0.8402	0.2705	0.6516	0.016*
C5级	0.6465 (5)	0.23781 (11)	0.4468 (3)	0.0146 (7)
H5A型	0.6403	0.2696	0.4463	0.018*
H5B型	0.6454	0.2279	0.3575	0.018*
C6级	0.4646 (5)	0.23582 (10)	0.6391 (3)	0.0136 (6)
H6A型	0.4560	0.2675	0.6400	0.016*
H6B型	0.3411	0.2244	0.6800	0.016*
抄送7	0.1393（5）	0.40274 (10)	0.5410 (3)	0.0195 (7)
H7A型	0.0714	0.4077	0.4551	0.023*
H7B型	0.0703	0.4216	0.6011	0.023*
抄送8	0.3716 (5)	0.41479 (10)	0.5409 (3)	0.0209 (7)
H8A型	0.4358	0.4132	0.6288	0.025*
H8B型	0.4443	0.3938	0.4887	0.025*
C9级	0.6255 (5)	0.46459 (11)	0.4722 (4)	0.0237 (8)
H9A型	0.6734	0.4428	0.4121	0.028*
H9B型	0.7076	0.4608	0.5544	0.028*
C10号机组	0.3351 (5)	0.49094 (11)	0.5792 (3)	0.0226 (8)
上午10点	0.4138	0.4873	0.6626	0.027*
H10B型	0.1839	0.4875	0.5919	0.027*
O1瓦	0.4568 (4)	0.04603 (8)	0.3106 (3)	0.0380 (7)
H11型	0.5558	0.0495	0.3675	0.057*
H12型	0.4408	0.0191	0.3028	0.057*
O2瓦	0.2790 (4)	0.08554 (9)	0.6904 (2)	0.0432 (7)
H21型	0.3915	0.0715	0.7074	0.065*
H22（H22）	0.2502	0.0829	0.6109	0.065*
O3瓦	0.1161 (3)	0.16216 (8)	0.2719 (2)	0.0248 (5)
第31页	−0.0086	0.1606	0.2389	0.037*
第32页	0.1941	0.1574	0.2112	0.037*
四轮驱动	0.1721 (4)	0.15996 (8)	0.8148 (2)	0.0278 (6)
H41型	0.2008	0.1357	0.7833	0.042*
H42型	0.2189	0.1594	0.8921	0.042*
O5瓦	0.6491 (4)	0.03766 (8)	0.7523 (2)	0.0368 (6)
H51型	0.7232	0.0437	0.6906	0.055*
H52型	0.7334	0.0362	0.8179	0.055*
O6瓦	0.7489 (4)	0.06993 (8)	0.5165 (2)	0.0333 (6)
H61型	0.7354	0.0955	0.5429	0.050*
H62型	0.8709	0.0679	0.4896	0.050*
O7瓦	0.1417 (4)	0.08731 (8)	0.4260 (2)	0.0327 (6)
H71型	0.1153	0.1082	0.3756	0.049*
H72型	0.2414	0.0737	0.3945	0.049*

原子位移参数（²) 顶部

	U型¹¹	U型²²	U型³³	U型¹²	U型¹³	U型²³
银1	0.01266 (15)	0.02147 (16)	0.01334 (15)	−0.00151 (9)	0.00130 (10)	0.00385 (9)
S1（第一阶段）	0.0164 (4)	0.0137 (4)	0.0145 (4)	−0.0032 (3)	0.0017 (3)	0.0015 (3)
1个	0.0111 (13)	0.0178 (14)	0.0116 (12)	−0.0012 (10)	0.0022 (10)	0.0005（11）
氮气	0.0107 (13)	0.0163 (14)	0.0120（13）	−0.0006 (10)	0.0015 (10)	−0.0010 (11)
N3号机组	0.0114 (13)	0.0142 (14)	0.0103 (12)	0.0004 (9)	0.0026 (10)	−0.0007 (10)
4号机组	0.0108 (13)	0.0144 (14)	0.0123（13）	−0.0006 (10)	0.0023 (10)	0.0000 (10)
N5型	0.0145 (14)	0.0134 (15)	0.0286 (16)	−0.0020 (10)	0.0061 (11)	0.0004 (12)
O1公司	0.0290（13）	0.0165 (13)	0.0235 (13)	−0.0022 (9)	0.0067 (10)	−0.0045 (10)
氧气	0.0229 (12)	0.0312 (15)	0.0125 (11)	−0.0038（10）	0.0021 (9)	0.0040（10）
臭氧	0.0177 (12)	0.0247 (14)	0.0224 (12)	−0.0078 (9)	−0.0001 (10)	0.0041 (10)
C1类	0.0128 (15)	0.0168 (17)	0.0114 (15)	−0.0005（11）	0.0032 (12)	0.0014 (12)
指挥与控制	0.0110 (15)	0.0179 (17)	0.0131 (15)	0.0015 (12)	0.0019 (12)	−0.0015 (13)
C3类	0.0112 (15)	0.0165 (17)	0.0149 (15)	−0.0029 (11)	0.0011 (12)	−0.0019 (13)
补体第四成份	0.0117 (15)	0.0137 (16)	0.0145 (16)	−0.0021 (11)	0.0017 (12)	−0.0008（12）
C5级	0.0120 (16)	0.0194 (17)	0.0122 (15)	0.0005 (12)	−0.0007（12）	0.0054 (13)
C6级	0.0124 (16)	0.0161 (16)	0.0124 (15)	0.0023 (12)	0.0026 (12)	−0.0014 (13)
抄送7	0.0182 (17)	0.0126 (17)	0.0277 (18)	−0.0016 (12)	0.0014 (14)	0.0042 (14)
抄送8	0.0181 (17)	0.0125（17）	0.0322（19）	−0.0017 (12)	0.0018 (14)	0.0020 (15)
C9级	0.0177 (18)	0.0165 (18)	0.038 (2)	−0.0007 (13)	0.0078 (15)	−0.0031 (15)
C10号机组	0.0204 (18)	0.0176 (18)	0.031 (2)	−0.0022 (13)	0.0110 (14)	−0.0022 (14)
O1瓦	0.0381 (16)	0.0325 (16)	0.0434 (16)	−0.0002 (12)	0.0034 (13)	−0.0059 (13)
O2瓦	0.0542 (19)	0.0450 (19)	0.0308 (15)	0.0137 (14)	0.0050 (13)	−0.0033 (13)
O3瓦	0.0193（13）	0.0339 (15)	0.0216 (12)	−0.0009 (10)	0.0033 (10)	−0.0018 (11)
四轮驱动	0.0242 (13)	0.0327 (15)	0.0261 (13)	0.0052 (10)	−0.0011 (10)	−0.0001 (11)
o5瓦	0.0437（16）	0.0348 (17)	0.0314 (15)	0.0011 (12)	−0.0015 (12)	0.0013 (12)
O6瓦	0.0302 (14)	0.0249 (15)	0.0455 (16)	−0.0019（11）	0.0081 (12)	−0.0033 (12)
O7瓦	0.0330 (15)	0.0315 (16)	0.0341 (15)	0.0079 (11)	0.0060 (12)	0.0025 (12)

几何参数（λ，º）顶部

银1-N3^我	2.334 (2)	C4-H4A型	0.9900
银1-N4^ii（ii）	2.336 (2)	C4-H4B型	0.9900
Ag1-N1型	2.381 (2)	C5-H5A型	0.9900
银-O1	2.514 (2)	C5-H5B型	0.9900
S1-O2型	1.458 (2)	C6-H6A型	0.9900
S1-O1号机组	1.459（2）	C6-H6B型	0.9900
S1-O3型	1.469 (2)	C7-C8号机组	1.532 (4)
S1-C7号机组	1.768 (3)	C7-H7A型	0.9900
N1-C3型	1.480 (4)	C7-H7B型	0.9900
N1-C6型	1.483 (4)	C8-H8A型	0.9900
N1-C5型	1.484 (4)	C8-H8B基因	0.9900
N2-C2气体	1.464 (4)	C9-C10型^v（v）	1.515 (5)
N2-C1气体	1.472 (4)	C9-H9A型	0.9900
N2-C3气体	1.477 (4)	C9-H9B型	0.9900
N3-C6型	1.478（4）	C10-C9号机组^v（v）	1.515 (5)
N3-C4	1.484 (4)	10点至10点	0.9900
N3-C1号	1.494 (4)	C10-H10B型	0.9900
N3-Ag1号机组^三	2.334 (2)	O1W-H11型	0.8499
N4-C2型	1.487 (4)	O1W-H12型	0.8503
编号4-C5	1.487 (4)	O2W-H21型	0.8498
N4-C4型	1.488 (4)	O2W-H22型	0.8499
N4-Ag1型^iv（四）	2.336 (2)	O3W-H31型	0.8500
N5-C8号	1.463 (4)	O3W-H32型	0.8501
N5-C10型	1.471（4）	O4W-H41型	0.8497
N5-C9型	1.472 (4)	O4W-H42型	0.8499
C1-H1A型	0.9900	O5W-H51型	0.8503
C1-H1B型	0.9900	O5W-H52型	0.8498
C2-H2A型	0.9900	O6W-H61型	0.8496
C2-H2B型	0.9900	O6W-H62型	0.8496
C3-H3A型	0.9900	O7W-H71型	0.8495
C3-H3B型	0.9900	O7W-H72型	0.8500

N3号机组^我-银1-N4^ii（ii）	130.21 (8)	N2-C3-H3B型	109.3
N3号机组^我-Ag1-N1型	114.09 (8)	N1-C3-H3B型	109.3
4号机组^ii（ii）-Ag1-N1型	113.10 (8)	H3A-C3-H3B型	108
N3号机组^我-银-O1	86.47 (8)	N3-C4-N4号	111.6 (2)
4号机组^ii（ii）-银-O1	106.97 (8)	N3-C4-H4A型	109.3
N1-Ag1-O1型	91.88 (8)	编号4-C4-H4A	109.3
O2-S1-O1型	111.86 (14)	N3-C4-H4B型	109.3
O2-S1-O3型	112.06 (13)	N4-氯-4b	109.3
O1-S1-O3型	112.87 (14)	H4A-C4-H4B型	108
O2-S1-C7型	107.54 (15)	N1-C5-N4型	111.9 (2)
O1-S1-C7型	107.05 (15)	N1-C5-H5A型	109.2
臭氧-S1-C7	104.95（14）	N4-C5-H5A	109.2
C3-N1-C6	108.3 (2)	N1-C5-H5B型	109.2
C3-N1-C5	108.1 (2)	N4-C5-H5B型	109.2
C6-N1-C5	108.2 (2)	H5A-C5-H5B型	107.9
C3-N1-Ag1	114.62 (17)	编号3-C6-N1	111.8 (2)
C6-N1-Ag1	103.42 (17)	N3-C6-H6A型	109.2
C5-N1-Ag1	113.80 (18)	N1-C6-H6A型	109.2
C2-N2-C1	109.1 (2)	N3-C6-H6B型	109.2
C2-N2-C3	108.6 (2)	N1-C6-H6B型	109.2
C1-N2-C3	109.4 (2)	H6A-C6-H6B型	107.9
C6-N3-C4	109.1 (2)	C8-C7-S1型	112.6 (2)
C6-N3-C1	108.4（2）	C8-C7-H7A型	109.1
C4-N3-C1	107.9 (2)	S1-C7-H7A型	109.1
C6-N3-Ag1^三	105.42 (17)	C8-C7-H7B型	109.1
C4-N3-Ag1型^三	111.32 (17)	S1-C7-H7B型	109.1
C1-N3-Ag1^三	114.61 (17)	H7A-C7-H7B型	107.8
C2-N4-C5型	108.2 (2)	N5-C8-C7号	112.0 (2)
C2-N4-C4	107.5 (2)	N5-C8-H8A型	109.2
C5-N4-C4	108.3 (2)	C7-C8-H8A型	109.2
C2-N4-Ag1型^iv（四）	108.94 (16)	N5-C8-H8B型	109.2
C5-N4-Ag1^iv（四）	110.82 (17)	C7-C8-H8B型	109.2
C4-N4-Ag1型^iv（四）	112.92 (17)	H8A-C8-H8B	107.9
C8-N5-C10型	111.2 (3)	N5-C9-C10型^v（v）	111.2 (3)
C8-N5-C9	109.1 (2)	N5-C9-H9A型	109.4
C10-N5-C9	108.0 (2)	C10号机组^v（v）-C9-H9A型	109.4
S1-O1-Ag1型	129.13 (13)	N5-C9-H9B基因	109.4
N2-C1-N3型	110.6 (2)	C10号机组^v（v）-C9-H9B型	109.4
N2-C1-H1A型	109.5	H9A-C9-H9B	108
N3-C1-H1A型	109.5	编号5-C10-C9^v（v）	110.5 (3)
N2-C1-H1B型	109.5	N5-C10-H10A型	109.5
N3-C1-H1B型	109.5	C9级^v（v）-10点至10点	109.5
H1A-C1-H1B型	108.1	N5-C10-H10B型	109.5
N2-C2-N4气体	111.8 (2)	C9级^v（v）-C10-H10B型	109.5
N2-C2-H2A气体	109.3	H10A-C10-H10B型	108.1
N4-C2-H2A型	109.3	H11-O1W-H12型	105.9
N2-C2-H2B气体	109.3	H21-O2W-H22	106.4
N4-C2-H2B型	109.3	H31-O3W-H32型	105.2
H2A-C2-H2B型	107.9	H41-O4W-H42型	106.6
N2-C3-N1型	111.4 (2)	H51-O5W-H52型	106.2
N2-C3-H3A气体	109.3	H61-O6W-H62	107.2
N1-C3-H3A型	109.3	H71-O7W-H72	105.1

N3号机组^我-银1-N1-C3	−105.61 (19)	Ag1-N1-C3-N2	−172.83 (17)
4号机组^ii（ii）-银1-N1-C3	58.1（2）	C6-N3-C4-N4	−57.9 (3)
O1-Ag1-N1-C3	167.42 (19)	C1-N3-C4-N4	59.6 (3)
N3号机组^我-银1-N1-C6	136.70 (17)	银1^三-N3-C4-N4号	−173.81（18）
4号机组^ii（ii）-Ag1-N1-C6	−59.64 (19)	C2-N4-C4-N3	−58.9 (3)
O1-Ag1-N1-C6	49.73 (18)	C5-N4-C4-N3	57.8 (3)
N3号机组^我-银1-N1-C5	19.5 (2)	银1^iv（四）-编号4-C4-N3	−179.07 (18)
4号机组^ii（ii）-银1-N1-C5	−176.79 (19)	C3-N1-C5-N4	−58.3 (3)
O1-Ag1-N1-C5	−67.4 (2)	C6-N1-C5-N4	58.9 (3)
O2-S1-O1-Ag1型	94.93 (18)	银1-N1-C5-N4	173.19 (18)
O3-S1-O1-Ag1型	−32.5（2）	C2-N4-C5-N1	57.6 (3)
C7-S1-O1-Ag1型	−147.51 (16)	C4-N4-C5-N1	−58.7 (3)
N3号机组^我-Ag1-O1-S1	124.72 (17)	银1^iv（四）-编号4-C5-N1	176.95（19）
4号机组^ii（ii）-Ag1-O1-S1型	−6.39 (19)	C4-N3-C6-N1	58.3 (3)
N1-Ag1-O1-S1	−121.26 (17)	C1-N3-C6-N1	−58.9 (3)
C2-N2-C1-N3	59.7 (3)	银1^三-编号3-C6-N1	177.90 (19)
C3-N2-C1-N3	−59.0 (3)	C3-N1-C6-N3	58.5 (3)
C6-N3-C1-N2	58.7 (3)	C5-N1-C6-N3	−58.4 (3)
C4-N3-C1-N2	−59.3 (3)	银1-N1-C6-N3	−179.45 (19)
银1^三-N3-C1-N2	176.08 (17)	O2-S1-C7-C8型	65.7 (3)
C1-N2-C2-N4	−59.9 (3)	O1-S1-C7-C8型	−54.6 (3)
C3-N2-C2-N4	59.3 (3)	O3-S1-C7-C8型	−174.8（2）
C5-N4-C2-N2型	−58.1（3）	C10-N5-C8-C7	70.7 (3)
C4-N4-C2-N2	58.7 (3)	C9-N5-C8-C7	−170.2 (3)
银1^iv（四）-N4-C2-N2号	−178.63 (18)	S1-C7-C8-N5型	173.3 (2)
C2-N2-C3-N1	−59.9 (3)	C8-N5-C9-C10型^v（v）	−179.6 (3)
C1-N2-C3-N1	59.1 (3)	C10-N5-C9-C10^v（v）	−58.6 (4)
C6-N1-C3-N2	−58.0 (3)	C8-N5-C10-C9^v（v）	177.9 (3)
C5-N1-C3-N2	59.1 (3)	C9-N5-C10-C9^v（v）	58.2 (4)

对称代码：（i）x个−1/2，−年+1/2,z（z）−1/2; （ii）x个−1,年，z（z）; （iii）x个+1/2,−年+1/2,z（z）+1/2; （iv）x个+1,年，z（z）; （v）−x个+1,−年+1,−z（z）+1.

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1公司W公司-H11··O6W公司	0.85	2.03	2.866（4）	166
O1公司W公司-H12··O5W公司^{不及物动词}	0.85	1.94	2.764 (4)	164
氧气W公司-H21··O5W公司	0.85	1.99	2.836 (4)	178
氧气W公司-H22··O7W公司	0.85	2.03	2.867 (3)	168
臭氧W公司-H31···氧气^我	0.85	2	2.818 (3)	163
臭氧W公司-H32···O3^七	0.85	1.96	2.797（3）	169
O4号机组W公司-H41··O2W公司	0.85	1.93	2.772 (4)	171
O4号机组W公司-H42··O3^三	0.85	2.04	2.885 (3)	172
O5公司W公司-H51··O6W公司	0.85	2.03	2.794 (4)	150
O5公司W公司-H52··N5^三	0.85	2.06	2.897 (4)	169
O6公司W公司-H61···N2	0.85	2.05	2.890 (4)	170
O6公司W公司-H62··O7W公司^iv（四）	0.85	1.99	2.797 (3)	158
O7公司W公司-H71···O3W公司	0.85	2.01	2.841 (3)	167
O7公司W公司-H72···O1W公司	0.85	1.89	2.740 (3)	175

对称代码：（i）x个−1/2，−年+1/2,z（z）−1/2; （iii）x个+1/2,−年+1/2,z（z）+1/2; （iv）x个+1,年，z（z）; （vi）−x个+1,−年，−z（z）+1; （vii）x个+1/2,−年+1/2,z（z）−1/2.

实验细节

水晶数据
化学配方	[银₂（C）₈H（H）₁₆N个₂哦₆S公司₂)（C）₆H（H）₁₂N个₄)₂（H）₂O）₂]·12小时₂哦
M（M）_第页	1048.70
晶体系统，空间组	单诊所，P（P）2₁/n个
温度（K）	165
一，b条，c（c）(Å)	6.3902 (3), 31.1619 (14), 10.5428 (5)
β(°)	93.770（1）
V（V）(Å^三)	2094.85 (17)
Z轴	2
辐射类型	钼K（K）α
µ（毫米⁻¹)	1.12
晶体尺寸（mm）	0.41 × 0.28 × 0.19

数据收集
衍射仪	Bruker Nonius KappaCCD公司衍射仪
吸收校正	多重扫描 (SADABS公司; 谢尔德里克，1996）
T型_最小值，T型_最大值	0.200, 0.303
测量、独立和观察到[2]σ(我)]反射	11631, 4128, 3382
R（右）_整数	0.030
（罪θ/λ)_最大值(Å⁻¹)	0.619

精炼
R（右）[F类²> 2σ(F类²)],水风险(F类²),S公司	0.030, 0.094, 1.14
反射次数	4128
参数数量	244
氢原子处理	受约束的氢原子参数
Δρ_最大值, Δρ_最小值（eó）⁻^三)	0.61,−0.60

计算机程序：聪明的（布鲁克，1997），圣保罗（布鲁克，1999），SHELXS97标准（谢尔德里克，2008），SHELXL97型（谢尔德里克，2008），SHELXTL-Plus公司（谢尔德里克，2008）。

选定的几何参数（λ，º）顶部

银1-N3^我	2.334 (2)	Ag1-N1型	2.381 (2)
银1-N4^ii（ii）	2.336 (2)	银-O1	2.514 (2)

N3号机组^我-银1-N4^ii（ii）	130.21 (8)	N3号机组^我-银-O1	86.47 (8)
N3号机组^我-Ag1-N1型	114.09 (8)	4号机组^ii（ii）-银-O1	106.97 (8)
4号机组^ii（ii）-Ag1-N1型	113.10 (8)	N1-Ag1-O1型	91.88 (8)

对称代码：（i）x个−1/2，−年+1/2,z（z）−1/2; （ii）x个−1,年，z（z）。

氢键几何形状（λ，º）顶部

D类-H（H）···A类	D类-H（H）	H（H）···A类	D类···A类	D类-H（H）···A类
O1W-H11··O6W	0.85	2.03	2.866（4）	166.1
O1W-H12··O5W^三	0.85	1.94	2.764 (4)	164.4
O2W-H21··O5W	0.85	1.99	2.836 (4)	177.8
O2W-H22··O7W	0.85	2.03	2.867 (3)	167.9
臭氧层-小时31···氧气^我	0.85	2	2.818（3）	162.5
O3W-H32···O3^iv（四）	0.85	1.96	2.797 (3)	169.3
O4W-H41··O2W	0.85	1.93	2.772 (4)	171.4
O4W-H42···O3^v（v）	0.85	2.04	2.885 (3)	171.6
O5W-H51··O6W	0.85	2.03	2.794 (4)	149.8
O5W-H52··N5^v（v）	0.85	2.06	2.897 (4)	168.6
O6W-H61···N2	0.85	2.05	2.890 (4)	169.7
O6W-H62··O7W^{不及物动词}	0.85	1.99	2.797 (3)	157.9
O7W-H71··O3W	0.85	2.01	2.841（3）	167.1
O7W-H72··O1W	0.85	1.89	2.740 (3)	174.9

对称代码：（i）x个−1/2，−年+1/2,z（z）−1/2; （iii）−x个+1,−年，−z（z）+1; （iv）x个+1/2,−年+1/2,z（z）−1/2; （v）x个+1/2,−年+1/2,z（z）+1/2; （vi）x个+1,年，z（z）。

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聚[diaqua­bis­(三-六甲基烯四胺）[2-2,2'-（哌嗪-1,4-二基）双（乙烷磺酸盐）]二溶器（I）]：一种三维柱撑层框架，封装（H）的水链2O）12集群

支持信息

聚[diaquabis(_三-六甲基烯四胺）[₂-2,2'-（哌嗪-1,4-二基）双（乙烷磺酸盐）]二溶器（I）]：一种三维柱撑层框架，封装（H）的水链₂O）₁₂集群